01. 前沿導讀
自2018年美國下令封鎖中國EUV光刻機之後，如今又推出了全新的match法案，要求對華虹、中芯國際、華為、長鑫儲存、長江儲存這五家中國本土企業實施全面制裁。
禁止ASML將浸潤式DUV光刻機出售給這些企業，並且要求ASML、東京電子等盟友國企業限制對中國已購裝置的售後維護工作，試圖將中國晶片鎖死在28nm節點的同時，還要限制中國在28nm及以上成熟工藝的擴產計畫。
02. 持續施壓
2018年中芯國際與ASML簽訂合約，以1.2億美元的價格採購一台EUV光刻機。這台裝置預計兩年內運到中國上海，一年時間進行技術偵錯，隨後便進入商業化階段。但是時至今日，這台裝置一直沒有完成交付。
雖然EUV被完全封鎖，但是部分浸潤式DUV以及乾式DUV還可以繼續出口給中國企業，所以中國晶圓廠也在此期間向ASML採購了一大批DUV光刻機，這些光刻機一部分用於製造成熟晶片，一部分用來對國產7nm晶片進行風險測試。
2021年，美國聯合日本、韓國以及台灣的台積電共64家半導體企業組建技術聯盟，在設計、製造、裝置、材料等全供應鏈體系下對中國本土技術實施限制。
2022年，美國在《晶片法案》的基礎上更新了107新規。107新規規定，加強對美國人員的活動管控，限制美國本土工程師、在美工作的華人工程師向中國企業提供技術支援，以此來壓縮中國本土企業獲取先進技術的能力。
美國原本的設想是通過對尖端裝置實施禁運，將中國晶片的製造能力壓制在成熟製程節點，以此來確保美國在人工智慧、半導體產業鏈、市場規模等方面的對華技術代差，就如同幾十年前的美國壓制日本企業那樣。
但是自從2023年8月29日華為發佈mate60系列產品之後，整個中國半導體產業的風氣變了，不但掌握了國產7nm工藝的製造能力，而且還在美國的壓制之下實現了許多裝置的國產化製造。
中芯國際此前囤積了一批ASML的DUV光刻機裝置，使用ASML的浸潤式DUV光刻機，通過自對準四重圖案化技術實現了國產7nm晶片的量產。
該技術方法此前只有台積電的第一代N7工藝成功過，中芯國際是全球第二家成功的企業。
在先進工藝突圍的同時，中國企業還在成熟工藝上面進行產能擴張。
華虹集團是中國大陸地區最早成立的大型晶圓廠，已掌握65nm—40nm製程技術，並且旗下上海華力子公司已掌握28nm、22nm製程技術，華虹集團的製程技術均為自主可控的國產化平台，可以支援儲存器、圖像感測器、特色工藝等多維度半導體製造。
中國公民的身份證以及國家銀行卡內部的儲存晶片，有很大一部分都是由華虹集團製造完成，華虹集團製造的國產晶片已經成為了保證社會發展的強大護城河。
03. 國產化處理程序
相對於製造工藝上面的技術突破，更讓美國有危機意識的還是國產製造裝置的大面積爆發。
甚至美國政府官員在上個月還聲稱中國的晶圓製造商中芯國際向伊朗提供晶片製造裝置，此新聞一出便引起了激烈熱議。
中芯國際自創立開始就是一家晶圓製造商，只負責採購供應鏈的裝置材料然後製造晶片，從未涉足過裝置產業。中國外交部對此回應稱，個別媒體熱衷發表一些似是而非的消息，我們核實後發現都是假消息。
參考資料：
美官員稱中芯國際已向伊朗軍方提供晶片製造工具，外交部回應
https://world.huanqiu.com/article/4QuxhOdeEgN
北方華創、盛美半導體、中微公司、上海微電子及芯上微裝等國產裝置廠商已經在自主裝置領域交出了不錯的答卷，並且以北方華創為首的大型裝備集團，正在持續佈局除光刻機之外的全產業鏈裝置研發。這一切的技術成果，都是建立在美國單方面實施對華制裁的背景下。
過去幾年的多輪制裁，非但沒有壓制中國半導體產業的發展，反而還促進了中國本土企業建立了一條獨立於美國技術之外的產業生態體系。
雖然現階段國產浸潤式光刻機並未給出明確的消息，但是根據王陽元、趙晉榮、陳南翔等中國半導體產業領軍人在科技導報上發佈的產業規劃指出，國產28nm浸潤式已經進入測試階段，目前還未正式邁入商業化層面，現階段國產光刻機還是以乾式技術為主。
最新的match法案要求荷蘭、日本等國在150天內對齊美國的制裁標準，企圖用這種蠻橫的手段切斷中國去美化的產業進度。
並且法案要求盟友國企業禁止對中國企業此前已購裝置進行技術維護工作，企圖用這種方式強制性讓中國現有的進口裝置當機，阻礙中國晶片的製造效率。
這種完全違背商業信譽的做法，本質上不是實力的一種體現，而是一種因對華制裁沒有達到目標所產生的一種焦慮心態。 (逍遙漠)