全球光刻機巨頭ASML正計畫上調其晶片製造裝置的價格，此舉可能使其與最大客戶台積電之間的矛盾公開化。據科技媒體《The Information》援引知情人士報導，ASML近期已與台積電討論提高極紫外（EUV）光刻系統的價格，同時已告知部分客戶，計畫將深紫外（DUV）光刻裝置的價格上調約10%。面對ASML的漲價計畫，台積電已明確表達反對意見並開始抵制。
這場價格博弈的核心，是ASML對其“價值定價”模式的重新詮釋。長期以來，ASML的定價與裝置的生產效率（即每小時處理的晶圓數量）強相關。但如今，公司希望將定價邏輯擴展至更廣泛的價值維度。
“我們一直在不斷提升低數值孔徑（Low NA）光刻機的生產效率，這自然為未來潛在的提價提供了相當大的空間。”ASML首席財務官Roger Dassen在7月15日的業績電話會上表示。他進一步指出，除了生產效率的提升，公司還希望為“更好的成像質量、更優的套刻精度”等非產出方面的優勢收取費用。
此番漲價的底氣，源於AI浪潮引爆的半導體裝置需求。ASML的EUV光刻機是生產先進製程晶片不可或缺的核心裝置，而公司在該領域擁有事實上的壟斷地位。RBC Capital Markets分析師指出，台積電、三星電子和SK海力士等主要客戶業績強勁，當前市場環境“已具備漲價條件”。
ASML當日公佈的財報也證實了其強勁勢頭：公司第二季度銷售額同比增長21%至93.3億歐元，遠超市場預期。基於此，ASML年內第二次上調全年業績指引，預計2026年全年淨銷售額將達到430億至450億歐元。
然而，台積電的抵制態度十分堅決。作為ASML最大的客戶，台積電營運著全球規模最大的Low-NA EUV機隊，任何價格調整都將直接牽動其龐大的資本支出。目前，上一代Low-NA EUV裝置單價約2.2億美元，是台積電量產的主力；而最先進的High-NA EUV機型單價更高達3.5億歐元以上（約4.1億美元）。台積電此前已明確表示，High-NA EUV成本過高，目前僅用於研發。若Low-NA EUV漲價，台積電推遲匯入High-NA EUV的經濟優勢將被削弱，其未來數年的成本結構也將面臨重壓。
值得注意的是，此次價格調整短期內不會立即生效。Dassen表示，由於ASML裝置訂單交付周期較長，任何價格調整都不會“在明天就立即體現為價格影響”。加上ASML 2027年的產能已接近被訂單完全覆蓋，實質性的漲價可能主要影響2028年及以後交付的系統。
與此同時，地緣政治因素也在為這場博弈增添變數。部分中國晶片製造商已接受了DUV裝置漲價，因為在中國無法獲得最先進EUV裝置的背景下，DUV是目前能夠買到的最先進裝置。中國市場目前約佔ASML總銷售額的兩成。而對於台積電而言，任何成本的上升都可能最終傳導至下游，從AI伺服器到消費電子產品均將受到影響。目前，這場圍繞著光刻機定價權的“攻防戰”仍在持續，其結果將深刻影響全球半導體產業鏈的成本分佈。 (晶片行業)