據 The Information 報導，中國已開始大規模量產自主研發的深紫外光刻機（DUV）裝置，計畫 2026 年生產 5 台，2027 年生產 20 台。不過，將這些裝置投入實際量產線仍需數月甚至更長時間，晶片製造商需要測試其精度、可靠性和相容性。
據消息人士稱，國產 DUV 主要使用國產零部件，但部分關鍵部件仍來自日本，且性能和製造質量目前仍落後於 ASML 產品。今年本地供應商的延誤已影響生產進度，因此 ASML 短期內幾乎沒有直接威脅，但國產裝置產量上升可能逐漸侵蝕其在中國市場的地位，若西方實施更嚴格限制，將加速中國晶片製造商轉向本土裝置。 (財經實驗室TheFinanceLab)