近期美中科技戰再升溫，全球唯一製造最複雜晶片所需微影裝置的荷蘭半導體裝置代廠艾司摩爾（ASML），其為此次事件的關鍵焦點。據荷蘭媒體NL Times與NU.nl報導，美國政府正準備強迫荷蘭政府，禁止ASML向中國銷售幾乎所有的晶片製造裝置，包括深紫外光（DUV）微影機。然而，面對美方的封鎖，中國本土微影技術也迎來突破，上海宇量盛科技已於今年7月開始限量生產浸潤式DUV微影機，加速國產替代處理程序。
報導指出，美方此舉目的在阻礙中國在人工智慧（AI）、超級電腦及軍事技術的發展。在此之前，荷蘭政府在美國施壓下，已禁止ASML對中國出口最先進的極紫外光（EUV）微影裝置，設使得ASML自2019年起便未向中國出貨過任何EUV裝置，並限制部分先進DUV微影機的銷售。
然而，美國國會正審議跨黨派的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act），試圖將施壓轉化為直接脅迫，強制盟國與美國出口管制同步。一旦通過，ASML不僅無法再向中國銷售DUV微影裝置，甚至連已交付裝置的維護與保養也將被禁止。若荷蘭拒絕執行，美國將對其實施制裁。由於ASML高度依賴美國供應鏈，美方曾威脅中斷供應，這成為迫使荷蘭政府妥協的關鍵。
然而，荷蘭官員正於華盛頓激烈遊說試圖廢除該條款，但因法案獲得美國民主與共和兩黨支援，且將併入幾乎必定通過的國防預算案，挽回機會十分渺茫。諷刺的是，該法案對美國本土企業存有寬限空間。因為中國之前發現，結合先進蝕刻技術與DUV微影機，仍可生產出通常需要EUV才能製造的先進晶片。雖然美方在2024年對此類蝕刻機實施部分限制，但並未採取徹底禁運。而在最終版《MATCH法案》中，限制美企向中國銷售先進蝕刻機的廣泛禁令已被刪除，但對ASML的DUV禁令卻依然保留，顯現出政策上的雙重標準。
在面臨斷供與斷維修的威脅下，中國半導體產業正加速自主化。上海宇量盛科技已於2026年7月限量生產浸潤式DUV微影機，預計年底前交付5套系統，目標在2027年前生產約20台。目前包括中芯國際（SMIC）、長鑫記憶體（CXMT）及華虹半導體等中國晶片大廠皆已列入客戶名單。
分析指出，若美方禁令未立即實施，對中國未來的DUV裝機影響有限。若能爭取到足夠時間，中國極可能實現DUV領域的完全自主化。但若禁令迅速落實，短期內仍將對高度依賴ASML裝置的中國晶片商造成不小的過渡挑戰。這場圍繞微影技術的拉鋸戰，將決定未來全球半導體產業鏈的全新版圖。(大話晶片)