日本半導體材料另類小霸權

2021年6月,日本眾議院召開了一場主題為“復興日本半導體產業”的研討會,時值在疫情中遭遇重創的鎧俠半導體(即東芝存儲芯片部門)四處尋找接盤俠,日本存儲芯片最後的火種奄奄一息,日本官方邀請了五位專家學者暢所欲言,為產業復興出謀劃策,壓軸發言的是一個名叫湯之上隆的人。

湯之上隆曾任職於日立、爾必達的一線研發部門,親歷了日本半導體產業從輝煌走向沒落的整個過程。2015年,他將自己的經歷與思考寫進了《失去的製造業》一書,拋開其中對老東家和老領導的冷嘲熱諷,《失去的製造業》堪稱研究日本芯片產業的必讀書目。

相比日本官方高舉復興大旗,湯之上隆在研討會上建議大家以最快的速度躺平,讓在場議員們大跌眼鏡:“失去的半導體產業已無法挽回,繼續投入就是浪費納稅人的錢。”

他認為,由於日本的半導體公司一直難以適應產業變化,早已錯失歷史機遇;如今與其瞎折騰,不如守護好最後一點家底:位於半導體產業鏈最上游的設備與材料[1]。

一塊芯片封裝前,會經歷薄膜沉澱、光刻、蝕刻、清洗等多項工藝,每一步都需要特定的加工設備與原材料。過去數十年,日本企業一直是部分半導體設備的主要提供商。

而日本公司對半導體材料近乎壟斷的地位更是威名在外:前段工序常用的材料有19種,其中14種都由日本企業主導。

2019年7月,隨著日韓矛盾加劇,日本政府對韓國企業發起制裁,限制半導體核心材料的出口。鐵鎚剛砸下三天,三星掌門李在鎔如坐針氈,專程趕赴日本懇求鬆口。

後來眾議員的研討會結束不久,湯之上隆就寫了篇文章,標題叫“日本半導體設備和材料為何那麼強?”,自豪之情溢於言表。


極其誇張的市場份額


結果文章發出去沒多久,日本就吃了一場敗仗。2021年,韓國的SEMES強勢崛起,超越日本企業SCREEN成為全球第六大半導體設備公司,其母公司正是在材料上被卡的翻白眼的三星。同一時期,三星一口氣投資了十幾家材料公司,希望在材料環節繞開日本。

另一個有趣的現像是,相比輿論對日本半導體材料壟斷地位的艷羨,以及日本在化學、材料學等領域長期耕耘的讚譽,日本產業界卻對這一成就評價複雜。

湯之上隆一邊高度認可材料環節的強勢地位,但一邊稱日本對韓國的斷供“極其愚蠢”。另一位學者西村吉雄則在《日本電子產業興衰錄》中說,日本芯片產業衰落的原因之一,就是做了太多基礎研究,反而忽視了應用和模式層面的創新。

日本的半導體材料常常是一個被輿論神化的產業,它實際上並不複雜,但也沒有那麼簡單。


卡脖子

對韓國芯片公司而言,日本的貿易制裁,其威力不亞於往京畿道工廠丟一顆炸彈。

被限制出口的半導體材料共有三種,首當其衝的是氟化聚酰亞胺。這個念起來有些費嘴的化學物質,是部分OLED面板的原材料。一旦掐斷供給,OLED電視等拳頭產品將面臨無貨可出的窘境。

但對三星等韓企來說,更棘手的其實是另外兩件“戰略核武器”。

第一件是EUV光刻膠,打擊目標是韓國半導體的“未來”。

光刻膠是光刻工藝的關鍵材料,而光刻又是芯片製造的核心工藝。目前最先進的光刻工藝是EUV(極紫外線),用於生產7nm以及更先進製程的芯片。

過去幾年,三星一直在努力迭代自研的手機處理器Exynos,即便三星自己擁有7nm和5nm製程工藝,但也繞不開光刻膠這一環。此時,作為原材料的光刻膠遭到製裁,本就不富裕的日子變得更加雪上加霜。

另外,三星、SK海力士對下一代DRAM的研發也將被迫暫停。當前,市場上的DRAM產品仍在努力逼近10nm製程,尚且用不上EUV光刻這樣的先進技術;但未來DRAM的製程大概率會提升至5nm,這便踏進了EUV光刻的領域。


EUV光刻


相比之下,第二把利器殺傷力更甚。這款名叫高純度氟化氫的材料,足以扼住韓國半導體的“現在”。

氟化氫是一種清洗用的化學材料。清洗工藝能夠去除芯片生產所帶來的雜質,是影響芯片品質的關鍵環節。生產一款芯片大概需要500至1000個步驟,其中大約10%的步驟都得用到氟化氫進行清洗,堪稱是半導體的“血液”。

一旦氟化氫庫存告急,邏輯半導體(如CPU)、DRAM等主流半導體芯片均無法生產,能否開展日常業務都將打上一個問號。

面對日本的咄咄逼人,危機感爆棚的韓國人使出了渾身解數,先是跑去WTO伸冤打官司,與此同時,政府牽頭大搞國產替代,一口氣投入了6萬億韓元的預算,三星也跟著投資了一批韓國本土的半導體材料企業。

在“打倒日本帝國主義”的號召下,同仇敵愾的韓國企業成功研發出了國產版本的高純度氟化氫和EUV光刻膠。文在寅卸任前的新年致辭中,曾重點提及了上述成就。


文在寅視察韓國產氟化氫


然而,故事的走向卻沒有發生太多逆轉:直到如今,日本依舊高度壟斷著高純度氟化氫和EUV光刻膠。

其地位之所以屹立不倒,和上述半導體材料的一大特質有關:日本壟斷的材料,多是不能即插即用的非標準化產品。

其中氟化氫尤為典型——清洗並不是一項標準化的工藝,每個製造商都有各自的理解和流程。因此,關於氟化氫的使用,實際上有稀釋、與氯化氫混合、與過氧化氫混合等多種完全不同的方案。而每種方案對氟化氫產品的要求又不太一樣,均需要專門定制。

另一方面,大多數產品的理論原理和工藝技術都是公開的,但選材與配比的數值,甚至生產車間合適的溫度和濕度,都需要漫長的實驗才能得到最佳結果。材料的非標特質,會帶來兩方面影響:

一,企業難以輕易更換解決方案以及相關供應商,一旦合作就是長期綁定。

在這方面,日本自己就吃過虧。1999年,日立和NEC兩家龍頭企業合資成立了存儲企業爾必達,準備向領跑的三星發起進攻。但在公司成立的頭兩年,卻爆發了嚴重的生產問題,市場份額也迅速下跌,而“罪魁禍首”之一正是日立和NEC的清洗方案不兼容。

因此,哪怕韓國企業自研出了高純度氟化氫,依舊不能立刻擺脫日企的壟斷,最快也需要至少1年時間做測試;而EUV光刻膠的更換週期則更久,通常需要測試2~3年才能搬上產線。

“有國產材料”和“用國產材料”,實際上是兩件事。


氟化氫


二,非標材料的製造工藝多且繁雜,甚至存在部分只可意會不可言傳的隱性知識,需要企業有長期相關的積累。在這方面,向來以“匠人精神”自居、發力較早的日本同樣有先天優勢。

正如湯之上隆在書中寫道:日本半導體材料的競爭力核心,正是日本獨特的匠人文化。

不可否認,這種“一生做好一件事”的匠人文化,確實在氟化氫這類具備延續性的領域頗有成效。氟化氫技術的迭代,本質是不斷提升純度,將小數點後面的9越做越多的過程,主打一個精益求精。

韓國雖實現了氟化氫的國產化,但其純度只有99.99999999%(小數點後8個9),日本企業卻能做到小數點後10個9。看上去相差無幾,但如果乘上幾十上百道工序,最終結果會千差萬別。

但問題是,難道隔了個日本海,匠人文化就失傳了嗎?日本半導體材料的強勢,顯然不能只用文化來解釋。


日本式的勝利

和半導體產業很多環節一樣,光刻膠誕生於美國,柯達、IBM曾是該市場的領跑者,但最終被日本產業化。

從上世紀80年代開始,日本光刻膠產業突然火力全開,最終將IBM斬於馬下。這一切的起點,始於一個至今仍被全球反复研究的項目——VLSI。

1976年,IBM研發新一代計算機的消息傳來,日本業界意識到1μm或更小工藝日趨臨近,深感時不我待的通產省集結了富士通、日立、三菱、東芝、NEC五家半導體公司,以及日本工業技術研究院、 電子綜合研究所和計算機綜合研究所三家機構,開展了一個名為VSLI(超大規模集成電路)的追趕計劃。

VLSI最大的成就是DRAM芯片的突破,直接開創了日本半導體的黃金年代。但實際上,VLSI項目共設有六個實驗室,除了三個搞產品研發的,還有專門負責攻堅半導體材料、光刻工藝以及封裝測試技術的團隊。其中第四實驗室的科研成果,就是負性光刻膠。

當時,隔壁的第五實驗室成功生產出了縮小投影型光刻裝置。由於材料和設備兩者互相強綁定,需要一同配套研發,這讓第四實驗室的光刻膠研發掃除了最大的障礙。

VLSI最大的成果,實際上是通過市場規模巨大的DRAM的突破,創造了一套國產產業鏈,擺脫了對美國的設備依賴。包括做材料的京瓷和住友,做光罩的TOPPAN,做封測的東京電子,和做光刻機的尼康。


光刻膠


1990年代,KrF開始成為光刻膠的主流路線。此時,尼康推出了全球首個實現商業化應用的KrF光刻機系統,隔壁的光刻膠企業趁勢追趕。從2000年開始,隨著光刻膠路線開始往ArF和EUV轉向,日本又迅速和新任光刻機龍頭ASML建立了深度綁定,雙方配套研發、共同迭代。

由於和產業鏈的深度綁定,不論技術路線如何變化,日本光刻膠都有機會領跑[11]。

另一個推手則是日本產業界對基礎科研的極端重視。雖然大多數新技術都在日本產業化,但日本社會普遍不滿足於生產製造環節的成功,尤其是以貝爾實驗室為代表的大公司研究院模式,更是被日本反復學習效仿。

彼時,日本主流思潮認為:如果能在基礎科學上也保持領先,日本將長期立於不敗之地

1990年代後,日本經濟陷入長期衰退,日本官方再次下場,希望通過對基礎研究的投入復甦半導體產業。1995年,日本出台了《科學技術基本法》,併計劃此後每年往科學領域投入4萬億至5萬億日元。

2001年,日本政府提出,希望到2050年,日本能誕生30個諾貝爾獎。此後20年,日本足足有16人獲得了三大自然科學類諾貝爾獎,位居全球第三,其中6個屬於和半導體材料強相關的化學領域。

依靠在基礎科研上的長期投入,日本一直維持著半導體材料市場的霸主地位,並且將領先蔓延到了動力電池產業。2019年,吉野彰獲得了諾貝爾化學獎,他的一大成就是發現了鋰電池負極材料,日本企業則是該領域的領跑者之一。另外,松下也是動力電池最主要的生產商之一。

但讓日本產業界始終難以介懷的是,與半導體材料的凱歌高奏相反,日本的傳統優勢項目存儲、面板、芯片製造等環節,卻始終止步不前,成為了電子產業黃金年代中尷尬的旁觀者。


得到的與失去的

2023年3月,韓國總統尹錫悅出訪日本,宣告自2019年開始的日韓貿易戰結束。韓國不少聲音認為,尹錫悅已經舉白旗投降——因為爭端源頭是歷史遺留問題催生的民族矛盾,但他上台後卻對這些問題閉口不談,更主動對日本示好,無疑是“滑跪”的體現。

然而湯之上隆並不這麼認為。他公開表示,制裁正在親手摧毀日本的氟化氫產業,堪稱“歷史性的愚策”,因為日本同樣高度依賴韓國市場。

事實也是如此,日本財務省統計的出口數據顯示,2011年之後,韓國一直是日本氟化氫的最大出口國,並佔據了總出口量的90%以上。由於氟化氫難以輕易替換,一旦合作便是長期綁定;但反過來說,一旦三星鐵了心要搞國產替代,日本氟化氫也會失去最主要的收入來源。

而這種影響已經開始出現。2019年之前,日本氟化氫的對韓出口量大約在每月3000噸左右。此後,日本雖然解除了出口限制,但直到2023年年初,這個數字依舊只有約500噸。


日本氟化氫對韓出口變化


這種“傷敵一千,自損一千二”的現象,反映了整個半導體材料行業的尷尬處境:戰略價值大,但戰術價值小。

材料雖是芯片生產的必需品,但市場規模“僅有”643億美元(2021年),相比之下,日本人失去的存儲和面板市場,規模都高達1600億美元和1300億美元(2021年)。這還沒算上曾是日本傳統優勢項目——被蘋果、高通、英偉達等公司佔據的消費電子市場。

因此高情商的說法是,幾百億規模的半導體材料,足以影響下游上萬億規模的電子市場;但低情商的說法是,市場規模也就這麼大。

這也是日本產業界無法釋懷的原因:相比他們失去的存儲、面板、芯片製造和消費電子市場,材料領域的霸權實在是太微不足道了。

在《日本電子產業興衰錄》一書中,對於日本政府和企業在科研上的大手筆投入,作者西村吉雄非但不覺得驕傲,反而認為對科研的痴迷導致日本半導體公司錯過了1990年代電子產業的轉型大潮。他提出了一個很有代表性的觀點:日本公司很擅長研究“怎麼做”,卻疏於判斷“做什麼”

西村吉雄認為,基礎科學固然重要,但日本對此有些過度迷信,把“創新”與“技術突破”混為一談。在書中,他通過英特爾的例子來論證,其成功恰恰不是依賴於科學研究,而是打造了“技術封閉+標准開放”的生態,任何開發者都可以基於x86架構與Windows系統開發軟件,最終成為了消費電子時代的霸主。

微處理器(CPU)等邏輯半導體的出現,其實和基礎科學的進步無關,更多是受到了市場需求的推動。日本對基礎科學的痴迷,最終導致它與一個千億美金的市場失之交臂。

後來,湯之上隆又在《失去的製造業》裡補充了一個生動鮮活的案例:

被三星打到破產的爾必達,其實在技術上遠遠超過三星。比如爾必達的512M DRAM的良品率可以達到98%,三星只有83%,但問題是,把成品率從80%提高到95%需要付出巨大的成本。相比三星2005年30%的利潤率,爾必達只有3%。

2008年,行業進入下行週期,三星故意擴產進一步壓低價格,爾必達虧到親媽不認。在破產的發布會上,CEO坂本幸雄仍然念叨著“爾必達技術世界第一”。

湯之上隆在《失去的製造業》中總結了日本強勢產業的幾個特點,其中最重要的一點是:日本公司擅長在一條長坡厚雪的賽道做持續的創新,而不善於面對頻繁的技術變化。

前者的代表是燃油車、鋰電池和半導體材料這類“幹中學、學中乾”色彩強烈的產業,後者則是他們失去的存儲和麵板。無論是市場地位、公司營收,還是創造的利稅、崗位與附加值,半導體材料都無法和後者相比擬。


尾聲

20世紀80年代,西方世界對東亞經濟騰飛的解讀仍以新自由主義為底色,日本政府頗有微詞,豪擲120萬美元考察費,邀請世界銀行專家“客觀分析”日本模式成功的原因。1993年,世行出版了針對東亞後發經濟體的研究報告《東亞奇蹟》,扭扭捏捏的承認了“政府主導產業升級”的益處。

報告發表一年後,美國經濟學家保羅·克魯格曼(Paul Krugman)在《外交雜誌》上潑了一盆冷水,稱日本“並非經濟奇蹟的典型”,亞洲四小虎更是紙老虎:“亞洲的繁榮是高投入創造的數量增長,而非效率提升,建立於浮沙之上,遲早會幻滅。”

1980年代也是日本產業界自我反省的高峰期,日本人認為,自己不應該滿足於將誕生於美國技術產業化,而是應該效仿美國企業設立研究院,在基礎科研上百尺竿頭更進一步,在下一次技術浪潮中拔得頭籌。

直到今天,日本企業的科研投入仍保持在全球一線梯隊:2019年,日本企業的研發投入佔該年度GDP的3.51%,位居全球第三

陰差陽錯的是,在長久的經濟衰退中,日本的優勢產業被韓國、中國大陸和台灣地區瓜分殆盡,在日本人眼裡,產業上游的霸權地位,更像是某種體面的撤退

日本在半導體材料上的霸權依然穩固,但他們更加在意的是,夏普的龜山屏、東芝的Dynabook和索尼的Walkman,曾一次又一次驚艷過世界。

基礎科研與所謂“應用創新”,本質上並無高低優劣之分,長周期高投入的科研與商業利益的平衡從來都難以取捨。但歸根結底,創新的目的不是為了卡誰的脖子,而是通過提高定價權獲得更高的產業附加值,繼而通過高收入崗位的創造與財富再分配,改善更多普通人的生活。(遠川研究所)