新凱來旗下深圳市萬里眼技術有限公司（下稱“萬里眼”）發佈65GHz採樣示波器新品，國產光通訊領域光模組測試儀器再現新進展。4月23日-25日，2026九峰山論壇暨中國光谷國際化合物半導體產業博覽會在中國武漢光谷科技會展中心舉行。《科創板日報》記者在現場獲悉，萬里眼正式發佈65GHz採樣示波器，其能夠支撐1.6T高速光模組研發與大規模製造場景，並提供關鍵測試能力。萬里眼65GHz採樣示波器萬里眼CEO劉桑表示，從數字經濟到積體電路，再到半導體設計製造，有“一代技術、一代工藝、一代裝置”的發展邏輯。在這一嚴密鏈條中，測量儀器是所有裝置的基礎，被行業稱之為“裝置的裝置”，是負責定量和校準的“龍眼”。“沒有精準的測量，就不可能有高性能的裝置和產品。”據劉桑介紹，萬里眼此次發佈的65GHz採樣示波器，實現了三大核心突破：一是效率。憑藉業界領先的500kHz採樣率，測試效率對比傳統方案提升了100%，大幅縮短產品生產周期；二是代際演進。65GHz超高頻寬支援單波200G光測量，為1.6T光通訊提供底座，且模組化架構支援未來向更高速率演進；三是超高精度。低至12μW（典型值）的超低光功率噪聲，精準捕捉微弱訊號，保障高品質生產與產品交付。國產光模組測試能力快速趕上《科創板日報》記者在現場瞭解到，萬里眼此次發佈的65GHz採樣示波器，採用了該公司的自研晶片，以實現12μW（典型值）的超低光功率噪聲和65GHz頻寬。該採樣示波器在測試效率的大幅提升則是來源於演算法與架構的創新，引入了先進的平行計算架構和流水線技術，實現“采算同步”，大幅縮短資料處理時間。“來自中國的頭部光模組企業，製造能力已經佔據全球市場的55%，並持續增長。產能規模大、製造成本高，因此製造環節的測試效率至關重要。”萬里眼時域產品線總經理崔天宇在九峰山論壇現場接受《科創板日報》記者採訪時表示，萬里眼的採樣示波器支援4個通道的同時測量，每個通道的採樣率支援500kHz，較其他類似產品具有差異化競爭力。銀河證券分析師魯佩在今年4月發佈的研報觀點稱，國產電測儀器廠商迎來增量市場國產化新機遇。全球電子測量儀器市場長期被美國的是德科技Keysight、德國的羅德與施瓦茨Rohde & Schwarz、日本安立Anritsu等海外龍頭主導，中國通用電測儀器行業起步相對較晚，在高頻寬、高頻率等產品方面仍存在一定差距。資料顯示，近年來國產電測儀器廠商大力推進自研產品開發，並在高端化戰略佈局下不斷取得突破。國產高端新產品實現快速放量，國產品牌市場份額已由2020年的8.4%提升至2024年的16.8%。崔天宇表示，從業內視角來看，國內與海外頭部公司的技術差距，主要體現在產業鏈中工藝、材料、晶片等根技術的差距與標準生態建設等方面。並且，在新的測試儀器產品匯入過程中，國產儀器廠商需要與客戶共同開展全方位驗證，逐步破除對海外品牌裝置的心理依賴。“在光器件的半導體晶圓級測試裝備領域，國外企業起步早、積累深，具備更多的優勢；在模組級測試上，國內企業已經形成聯合突圍之勢。”崔天宇稱，“當前AI驅動下的光通訊相關市場增長迅速，產業規模龐大，為許多國內企業創造了新的成長空間。”除萬里眼此次在九峰山論壇上發佈其65GHz採樣示波器，國產儀器廠家中，聯訊儀器同樣可提供通訊測試儀器、光電子器件測試裝置和電性能測試儀器。據瞭解，目前聯訊儀器已具備400G、800G、1.6T高速光模組核心測試儀器，其中大規模供貨面向400G、800G高速光模組測試需求的50GHz採樣示波器，其滿足1.6T光模組測試需求的65GHz採樣示波器也已供貨。聯訊儀器4月24日在科創板成功上市，上市首日股價漲幅達875.82%，體現了市場對光模組測試所需儀器這一產業關鍵環節的認可。頭部光模組測試儀廠訂單拉滿根據LightCounting預測，2026年全球數通光模組市場規模有望達到228億美元，到2030年將增長至414美元，2025-2030年復合增速達到20%。同時2026年起800G和1.6T光模組將迎來快速放量，合計市場規模有望達到146億美元，佔整體光模組市場的約 64%，而3.2T光模組有望自2028年逐步起量。據業內人士透露，今年國內外具有高速光模組測試儀器業務類股的公司，訂貨量已被拉滿。整體來看，隨著半導體、通訊、新能源等下遊行業的快速發展，光模組下游應用多點開花，高速光模組蓬勃發展催化測試儀器增量市場空間。“當下，高速光模組的應用既在營運商網路傳輸、大型資料中心高速互聯上擴大升級，也在網際網路廠商、大模型公司中急劇增長。”崔天宇表示，隨著數位技術高速迭代與多行業智能化升級加速，AI智算中心超高速互聯測試、CPO先進封裝測試、車載高速光通訊測試、前沿科學研究等，都是光通訊相關測試儀器新的增長點。據介紹，上述前沿賽道技術門檻高、迭代速度快，兼具代際內旺盛的增量需求與長期迭代的成長空間。下游應用的全面擴容，將直接帶動光模組全產業鏈升級，進而拉動配套測試裝置的採購與迭代需求。根據Frost&Sullivan資料，2024年全球電子測量儀器市場規模為129.3億美元，預計2029年將進一步增長至183.8億美元；國內儀器類企業將會有更大的發展空間。 (科創板日報)

導讀：如果新凱來不搞光刻機，造出再多其他晶片製造配套裝置也白搭，華為照樣量產不出全國產5奈米晶片，如今或已做到。國產高端DUV光刻與EUV光刻機整合總裝一定是新凱來在做，也只有新凱來能做。上海微電子裝置公司還沒那個能耐，以其自身實力，再給它十年都難以突破EUV光刻機技術，新凱來外的其他裝置製造商也只有共享國家工信部政策與接受新凱來技術轉讓一條路了。光刻機是製造晶片的核心裝置。一台先進的EUV光刻機，價格抵得上一架波音737客機（1.2億歐元）。2024年ASML的High NA EUV光刻機售價直接翻到3.5億歐元，相當於3架大型波音客機的價格。EUV光刻機重180噸，零件超過10萬個，運一趟要裝40個集裝箱，安裝偵錯也要耗時超一年之久。這就導致了入局光刻機行業門檻高，並且還需持續投入。然而，一家名為新凱來的中國公司正試圖打破這一持續多年的技術壟斷態勢。2025年3月26日，中國半導體生產裝置峰會上，深圳市新凱來技術有限公司（以下簡稱“新凱來”）高調發佈多款半導體製造裝置，同時有分析認為新凱來有可能正在研發光刻機。而半導體裝置是晶片製造的基石。據海關總署資料顯示，2024年中國大陸半導體裝置進口總額達335.1億美元。其中，光刻機進口額佔比最高，達107.2億美元，89%來自荷蘭；79%的離子注入機從美國進口；刻蝕機、熱處理裝置等主要依賴日本供應商。如今，新凱來在光刻領域多個關鍵零部件的突破帶來了非同一般的戰略意義。01制裁倒逼的光刻機自研故事要回溯到2019年5月，當時美國對華為實施晶片禁令，華為發展高性能產品難以買到關鍵晶片，此時此刻，中國半導體產業鏈的短板，即高端晶片製造裝置受制於人的窘狀日益突出，亟需改變。眾所周知，晶片製造要經歷複雜的過程，先進晶片的製造離不開高性能光刻機。高性能光刻機集合了光學、有機化學、儀器儀表、機械裝置、自動化技術、圖像識別技術行業等多行業的頂尖技術。同時，隨著製造晶片效率的提升，晶片的製程變得更小，製造過程也會更複雜，因此對光刻機的精度、解析度和穩定性要求也會更高。例如，對於5奈米及以下製程的晶片，只有極紫外光刻機（EUV）能滿足其圖案轉移的要求。如果沒有先進的光刻機，就無法製造出高性能的晶片，這會限制整個半導體產業的發展。光刻機是晶片製造產業鏈中的關鍵一環。全球晶片製造企業對光刻機供應商存在高度的依賴。目前，ASML在光刻機市場中佔據主導地位，特別是在極紫外光刻（EUV）領域，ASML是這一領域領先的供應商，擁有超過90%的市場份額。換句話說，ASML基本上控制了全球晶片工廠的命脈。美國通過“長臂管轄”切斷EUV裝置對華供應，試圖扼殺中國晶片的研發生產能力，這也是美國在全球科技競爭中對中國實施技術封鎖和遏制戰略的一部分。根據美國商務部下屬工業安全域（BIS）要求ASML的“中高端浸潤式DUV”-NXT1980Di將被限制賣到中國。由於美國對華禁止出口EUV（極紫外光）光刻裝置，中國無法獲得尖端光刻機，因此中國晶片技術將落後西方10到15年。光刻機的供應鏈遍佈全球，EUV光刻機由超過10萬個零部件組成，涉及5000多家供應商，核心零部件主要來自歐美，其中荷蘭腔體與英國真空技術佔32%、美國光源佔27%、德國光學系統佔14%、日本材料佔27%。新凱來是一家與華為有關聯的中國半導體裝置製造商並一直在悄悄開發各種機器，以取代ASML和其他外國競爭對手的產品，從而幫助中國解決美國出口管制所造成的最痛苦的供應鏈堵塞問題。該公司正在研發的裝置涉及光刻、化學氣相沉積、測量、物理氣相沉積、蝕刻和原子層沉積，所有這些領域目前都由荷蘭、美國和日本的公司主導。多位知情人士表示，新凱來一直在與華為不斷壯大的晶片生產和晶片裝置製造專家團隊密切合作。事實上，面對封鎖，華為創始人任正非早就提出要“全面自研半導體供應鏈”的“不可能任務”。據清華大學博士龍白滔綜合市場消息向《商學院》表示，一直有傳聞新凱來是華為整合2012實驗室的研發資源，與深圳國資旗下三家晶片製造企業（鵬芯微、升偉旭、鵬新旭）深度協同，共同成立新凱來。這種“國家隊+民營企業”的合作模式，兼具資金支援與技術攻堅的雙重優勢：深重投提供國資背景的產業資本與成熟製造能力，華為則注入超過3000名核心研發人員及數十年積累的專利技術。顯然，這是一種大國重器式的研發模式。02新凱來誕生新凱來技術成立於2021年8月，企業註冊資本15億元，穿透股權發現，深圳市深芯恆科技投資有限公司（簡稱“深芯恆科技”）100%持股，深芯恆科技由深圳市重大產業投資集團全資控股，深圳市重大產業投資集團是深圳市委、市政府重大戰略引領性產業投資功能性平台、市國資委直接管理的國有獨資企業。這家公司由深圳市國資委全資（100%）控股（以下簡稱“深圳國資”）。2022年6月，新凱來技術投資設立了新凱來工業機器，註冊資本10億元，這家公司就是參加2025中國半導體生產裝置峰會上的企業。新凱來工業機器有限公司有兩個股東，新凱來技術有限公司持股比例為95.6522%，深圳市均隆高新產業創業投資中心（有限合夥）持股比例為4.3478%。這意味著，新凱來就是深圳國資重點培育的項目。深圳市重大產業投資集團在公告提出，新凱來的目標是“保障國內半導體及電子製造產業供應鏈安全”。在新凱來招聘資訊中，對公司的定位是致力於解決國內半導體製造連續性問題，促進周邊產業成熟，持續支撐行業生存與發展；並把國內最優秀的半導體製造解決方案和裝備推介給行業客戶，為國內半導體裝置廠、FAB廠、電子電器裝置廠、研究機構提供先進的解決方案，相關產品廣泛應用於國內頂級製造企業和研究、測試機構，促進產業能力提升。以技術為底、集眾家之力，攻堅克難，保障國內半導體及電子製造產業供應鏈安全。03跨越“卡脖子”技術新凱來的成立絕非偶然。其研發基礎可追溯至華為被制裁後的四年技術儲備，故其一誕生便擁有覆蓋光刻、蝕刻、沉積等全流程裝置的技術框架。這種超常規整合，為中國半導體裝置自主化按下加速鍵。新凱來的核心技術路線直指半導體裝置的核心戰場——光刻機。2024年9月，工信部公佈的《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》中，一款解析度達65奈米的國產DUV光刻機赫然在列，彼時業內就普遍認為其出自新凱來之手。這一成果遠超上海微電子90奈米的技術水平。新凱來試圖超越ASML，成為全球半導體裝置製造的領軍企業。新凱來的野心並不小，至少在產品種類上，它投入的賽道比中國光刻機領域的領導品牌上海微電子（SMEE）更多、更寬。上海微電子主要專注於光刻機，而新凱來的目標是覆蓋半導體製造的更多環節，涵蓋光刻、蝕刻、沉積等多個關鍵環節，展現了中國在半導體裝置領域的全面佈局。不同於ASML採用的雷射產生電漿體（LPP）方法，新凱來另闢蹊徑，目前正在開發基於13.5奈米光波的EUV系統，儘管距離量產還有一段路要走，但其技術路線和研發速度令人期待。新凱來現已開發出一種使用雷射誘導放電電漿體（LDP）技術的國產EUV（光源）系統。華為在東莞的工廠已經在測試該系統，試生產定於2025年第三季度開始，目標是2026年實現量產。除了光刻機外，根據公開資訊，新凱來在光刻產業鏈的蝕刻、薄膜沉積等裝置領域同步推進：此次在2025中國半導體生產裝置峰會上，新凱來攻克的核心技術裝備包括五款以中國名山命名的產品成為核心看點：EPI（外延沉積）“峨眉山”、ETCH（蝕刻）“武夷山”、CVD（化學氣相沉積）“長白山”、PVD（物理氣相沉積）“普陀山”、ALD（原子層沉積）“阿里山”。這些名川大山背後體現了半導體製造工藝中關鍵的技術節點。以薄膜沉積技術為例，新凱來的裝置滿足從28奈米到5奈米不同製程的薄膜沉積需求，覆蓋半導體製造的前道工藝，為晶片生產提供支援。光刻機和薄膜沉積是晶片製造中緊密配合的兩個關鍵工藝，共同建構晶片的結構。光刻機負責將設計好的電路圖案投影到塗有光刻膠的矽片上，形成“電路範本”（相當於在矽片上繪製藍圖）。薄膜沉積在光刻形成的圖案基礎上，通過物理/化學方法在矽片表面沉積導電/絕緣材料層（相當於按藍圖填充建築材料）。晶片的工藝順序流程是光刻膠塗覆→光刻曝光→顯影→薄膜沉積→刻蝕→去膠→重複循環。每層電路需要經過約20-30次這樣的循環，先進製程可達100+次。不難看出，新凱來這種多線並進的策略，旨在建構完整的半導體裝置生態鏈條，而非單一環節的突破。正如新凱來工藝裝備產品線總裁杜立軍在其題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講中提到的，“致力於先進半導體工藝裝備、量檢測裝備的開發與製造，打造可靠的產業基礎和平台，成為世界一流的半導體裝備提供商和客戶最信賴的夥伴，是新凱來追逐的目標。”04晶片產業鏈的全球角力當前全球晶片產業的競爭已進入白熱化階段，中美博弈仍是核心主線，但歐盟、日韓等力量也在調整策略，全球供應鏈呈現“對抗與重構並存”的複雜局面。晶片產業鏈全球角力的背後，某種意義上也是區域化分工深化的處理程序。在中美博弈的背景下，歐盟、日韓的重塑供應鏈的過程中開始扮演著關鍵角色。美國希望製造業回歸美國本土，希望在產業鏈上“大而全”，但這是它的一廂情願。從晶片產業鏈角度講，這是不現實的，而且最後一定會得不償失，因為全球化的產業鏈很難實現一國的完全把控，除非本國有足夠多的訂單，有足夠大的市場來吸引，否則，在晶片領域不太可能實現完全封鎖，當下的封鎖或限制只能起到延緩或刺激中國晶片產業發展的作用。其中最核心的問題在於，很多晶片產業巨頭絕不會放棄中國市場。2024年中國進口晶片數量達到5492億塊，同比上升14.5%，進口金額為3856億美元（約合2.8兆元人民幣），同比上升9.5%。同期，全球晶片產業市場規模達到6250億美元左右，這意味著中國進口了全球約62%的晶片，加上AI晶片的資料和應用場景都是在中國，包括特斯拉等新能源車，也需要在中國不斷地積累應用場景和資料，才能讓它的晶片越來越智能。這意味著，很多公司絕對不會放棄中國市場。正是在這樣的背景之下，早在三年前，就有業內專家提出，《晶片法案》短期來看可能對中國相關產業造成致命打擊或影響，但是三年後，企業就會逐步找到更多的方法，重新回到中國市場，至少讓其在中國的生意不要受到更大的損失。有人說，“所以，中國需要全面考量我們是否需要從底層開始去做晶片產業的研究並進入超巨額的投資，同時中國需要有好的政策和開放的心態歡迎上述企業回來，通過給予切實的利益幫助這些企業趨利避害，中國將有機會利用市場的砝碼重構產業控制力，因為這些聰明的跨國企業一定不會放著巨大的經濟利益而離場。”顯然，這種觀點錯誤的，是記吃不記打的韜光養晦思想。中國正確的行為，應該是緊緊抓住中國被美國製裁遏制的數年時間，全面突破包括EUV光刻機在內的一切短板領域和半導體製造裝置，然後盡快推向市場，讓參與制裁中國的美國及其僕從國、盟國企業再也回不到中國市場來。並新凱來的快速崛起，就說明了中國政府的正確態度。05破局正當時近5年來，隨著中國半導體產業的系統性突圍，中國正在努力完善自身的晶片產業鏈。在製造端，華為Mate70搭載的麒麟9020晶片，用14奈米工藝跑出7奈米性能；在裝置端，新凱來正在努力突破、發展半導體裝備；在生態端，華為“塔山計畫”聯合上下游企業，建構從EDA軟體到封裝測試的完整產業鏈。新凱來是中國從努力嘗試到主動定義行業標準的先驅力量。然而，相比ASML用了30年的研發才在高端光刻機領域完成商業化，新凱來還有很長的路需要走。正如行業普遍共識：中美科技博弈的終局，沒有任何國家能壟斷科技創新。未來的半導體世界，屬於那些既能獨立自主、又願開放合作的人。因為，我們的征途是星辰大海…… (星辰時空)

工商資訊顯示，近日，深圳市深科裝備技術有限公司（下稱「深科裝備」）發生工商變更，陳勉冬卸任法定代表人、執行董事、總經理，由余海接任法定代表人，並擔任董事、經理。深科裝備成立於2022年2月，註冊資本約15億人民幣，經營範圍包括智慧基礎製造裝備銷售、半導體裝置專用裝置銷售、電子專用裝置銷售等。深科裝備由新凱來旗下深圳市新凱來工業機器有限公司全資持股。工商資訊顯示，余海目前擔任新凱來的法定代表人、董事兼總經理。此外，他同時在深圳市新凱來技術有限公司、長光集智光學科技有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司、深圳市星光立索科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司等16家企業中擔任法定代表人。《科創板日報》記者注意到，截至目前，新凱來外對外投資的子公司共8家，分別是長光集智光學科技有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司、深圳市星光立索科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司、北京新凱來技術有限公司、上海新凱來技術有限公司、基海基石有限公司。從控制企業來看，新凱來控制企業多達18家，其中，12家投資比例達100%，分別為深圳市星光立索科技有限公司、上海星光立索科技有限公司、北京星光立索科技有限公司、上新凱來技術有限公司、北京新凱來技術有限公司、珠海基石科技有限公司、上海基石化學有限公司深啟三國基石經濟有限公司及三碈緘科技有限公司深奧啟方科技有限公司。7家持股比例達90%以上，為深圳市深科裝備技術有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司上海飛埃技術有限公司、上海大塵微影半導體科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司；長光集智光學科技有限公司投資比例為60%。眾多子公司也涵蓋了半導體產業鏈多個環節，長光集智光學科技有限公司具體專業方向包括光學系統設計與最佳化、光學表面加工與檢測、光學薄膜製備、機電一體聯合設計模擬、系統裝調與測試等；珠海基石科技有限公司擁有高純化學品製造產線，提供電子化學材料，產品廣泛應用於國內試驗企業和研究基石科技有限公司。其中，深圳市萬里眼技術有限公司（下稱「萬里眼」）、武漢啟雲方科技有限公司（下稱「啟雲方」）在2025灣芯展上曝光在公眾視野。現場展會上，萬里眼發佈新一代超高速即時示波器，該產品頻寬突破90GHz，將國產示波器性能提升到500%；啟雲方發佈兩款擁有完全自主智慧財產權的國產電子工程EDA（原理圖和PCB)設計軟體，已有超過2萬名工程師使用。萬里眼CEO劉桑曾在接受《科創板日報》記者專訪時表示，新凱來旗下涵蓋多家子公司，對於萬里眼來說，新凱來主要承擔股東責任。 （科創板日報）

2025 年中國半導體產業博覽會成為觀察全球半導體產業格局變遷的重要窗口，多家本土企業集中亮相的技術成果，清晰勾勒出中國在半導體產能擴張與核心裝置自主化領域的進階軌跡。其中，新凱來（SiCarrier）子公司的參展，印證了產業鏈協同的深化，而光刻技術領域的突破性進展更成為展會焦點，標誌著中國在降低對荷蘭阿斯麥依賴方面邁出關鍵步伐。不過大家對這家公司從最開始的驚訝到現在已經趨於平淡。芯上微裝（AMIES Technology）作為此次展會的 "明星企業"，其產品矩陣與商業化成果引發廣泛關注。據多方報導，這家脫胎於中國國有光刻機龍頭上海微電子裝備股份有限公司（SMEE）的分拆子公司，承擔著將核心技術轉化為市場產能的關鍵使命 ——SMEE 聚焦前端核心工具研發，已實現自主 600 系列光刻機 90 奈米節點量產，且 28 奈米浸沒式模型研發正穩步推進，而 AMIES 則專攻裝置商業化落地，形成 "研發 - 轉化" 的高效協同鏈條。在展會現場，AMIES 展示了覆蓋半導體製造多環節的產品組合，涵蓋化合物半導體光刻機、雷射退火系統、先進檢測工具，以及封裝和晶圓鍵合解決方案等關鍵裝置。其中，針對高端晶片封裝場景的先進封裝光刻機尤為引人注目，這款裝置憑藉高解析度、超大曝光場及高翹曲基板適配能力，可滿足倒裝晶片、扇入 / 扇出式 WLP/PLP、2.5D/3D 整合等晶圓級與面板級先進封裝需求，精準匹配人工智慧與高端智能終端的製造升級需求。市場資料更直觀體現其競爭力：AMIES 披露，其先進封裝光刻機已佔據全球 35% 的市場份額，在中國市場的佔有率更是高達 90%。2025 年 8 月，公司第 500 台步進式光刻機順利發貨的消息，進一步印證了其商業化能力的成熟，成為國產光刻裝置從 "實驗室" 走向 "量產線" 的典型標竿。在 EUV（極紫外）光刻這一高端領域，據《南華早報》報導，這家企業的股權結構中不僅包含XXX的投資，更吸納了受美國製裁的中國科學院長春光學精密機械與物理研究所的資本，其股東團隊中匯聚多位頂尖 EUV 光學研究人員，與國內在 EUV 光源領域的技術突破（如中科院團隊開發的固體雷射驅動 LPP-EUV 光源，能量轉換效率達 3.42%）形成潛在協同。而在 DUV（深紫外）光刻的產業化應用上，上海已取得實質性進展。援引英國《金融時報》消息，該公司已向中國最大晶圓代工廠中芯國際交付 28nm DUV 光刻系統，且該裝置正用於 7nm 製程的生產測試。這一進展與上海微電子的技術迭代形成呼應，當前國產 DUV 裝置通過多重曝光技術，已具備支撐 7nm 乃至 5nm 製程試產的潛力，若測試達標，有望每年為中芯國際節省數億美元進口成本。從 SEMiBAY 展會的技術呈現來看，中國光刻產業已形成 "前端研發攻堅（上海微電子）+ 中端商業化落地（芯上微裝）+ 高端技術佈局（澤拓科技）+ 成熟製程應用（宇量昇）" 的多層次發展格局。隨著 35% 全球份額、90% 國內份額等市場資料的兌現，以及裝置交付量的持續增長，中國正逐步打破 ASML 在光刻領域的壟斷，為半導體產業鏈自主可控奠定核心基礎。 (IT前哨站)

導讀：最近，新凱來發佈的“萬里眼”廣域偵察系統火爆出圈，它以其超視距、高精度的探測能力，重新定義了戰場感知的邊界。大家驚嘆於其系統性能之餘，是否思考過：是什麼支撐起如此龐大系統內部海量資料的無損、高速與穩定傳輸？答案的核心之一，便是訊號完整性。在“萬里眼”這樣的尖端裝備中，無數個高速SerDes通道、DDR/LPDDR記憶體陣列正如系統的“神經網路”，它們必須在GHz級的頻率下，精準無誤地傳遞每一個位元。任何一絲訊號的失真、反射或損耗，都可能導致“看得見”卻“看不清”的災難性後果。因此，在晶片設計和板級系統設計階段，對PCIe、DDR等高速匯流排進行精準的模擬預測，是確保產品成功的“鐵律”。圖：萬里眼90GHz新一代超高速即時示波器然而，回到我們的日常工作中：你是否曾為PCIe鏈路的不穩定、誤位元率高而熬夜偵錯？你是否在面對LPDDR5/5X的苛刻時序要求時，感到理論到實踐的脫節？你是否希望像設計“萬里眼”那樣頂級系統的工程師一樣，在設計之初就“預見”所有訊號風險，而不是在測試階段“亡羊補牢”？如果你的答案是肯定的，那麼這門《晶片-封裝-PCB系統級HSPICE及WaveView訊號電源完整性分析_PCIE及LPDDR模擬》視訊課程，正是為你量身打造的進階之梯。訊號完整性工程師在模擬DDR時候一般用ADS和HSPICE,這兩個軟體各有優勢：請查看《HSPICE及WaveView教學—PCIe4和LP5（8533Mbps）模擬》，今天具體介紹下在HSPICE中模擬DDR的一些優勢。在DDR4和LPDDR4標準中，JEDEC明確提出了隨機抖動的概念，目標誤位元率為10E-16。由於單端平行介面通常以顯著的SSO噪聲為特徵，因此必須開發一種模擬方法來捕獲與低誤位元率操作相關的SSO影響（是強非線性的）和RJ影響。本文將探討關於使用HSPICE StatEye功能在減小模擬時間的同時捕獲這些非線性影響的可能方法(同時考慮RJ、SSO、DCD等影響)。01瞬態模擬挑戰在DDR5和DDR4之前，SIPI模擬建立和保持時間要求集中在確定性的時序預算上。通常，基於PRBS-7 Pattern會捕捉到最壞情況的影響（ISI影響），如果同時激勵多個訊號來模擬激勵的串擾和SSN效應。在模擬中使用電晶體級模型可能會導致較長的執行階段間，具體取決於介面的寬度和IO模型提取的複雜性。30到40個小時並不少見；時間很長，但也是可以控制的。試圖通過暴力模擬來捕獲足夠的位元來捕獲低誤位元率性能是不現實的。02統計分析優勢諸如StatEye之類的通道模擬器通過從通過瞬變模擬建立的脈衝/邊沿響應生成機率密度函數來獲得低誤位元率性能。被模擬的通道應該具有線性時不變響應（LTI系統），以支援標準脈衝響應的統計方法。03PSIJ（電源導致抖動）什麼是PSIJ:當多個IO同時翻轉時，電源上會產生紋波，導致IO輸出產生抖動，接收端DQS觸發DQ產生眼圖，DQ的抖動會影響建立和保持時間；如何模擬PSIJ: 對於DDR應用，PSIJ嚴重影響系統級時序預算。精準地模擬這些效應需要包含電晶體級電路模型（IBIS緩衝器在捕獲由電源導軌噪聲引起的抖動效應方面不能提供足夠的精度）。當電路通過電源路徑汲取電流時，它會在電源線上產生L*(Di/Dt)噪聲，從而導致非線性響應。上面提到統計分析只能處理LTI系統響應，為了準確地捕捉PSIJ這一強非線性一效果，StatEye提供了兩種可能的方法來解決這一問題，即邊緣模式和完全瞬時模式。04系統鏈路模擬在進行統計模擬之前，先運行瞬態模擬，瞬態模擬作為統計模擬分析的對比，驗證其精度。搭建如下的模擬環境：通過運行瞬態分析和統計分析（FT），可以看出，電源和訊號波形基本一致。05其他抖動上面的系統鏈路中並沒包含PLL抖動（通常表示為RJ），PHY 前級電源導致的PSIJ、DCD抖動和Traning 誤差的影響。所以模擬中還需要在激勵中加入下面幾種抖動。最終得到如下眼圖和相關的Mask。對於以上的內容，如何進行實際操作模擬實現？這需要搭建電源、訊號模擬路徑，需要有IO模擬模型等等。對於初學者或者有一定DDR模擬經驗但是並沒有考慮那麼多模擬因素的同學來說，實現上面的模擬還是需要些時間來研究。為了節省研究和學習成本，可以研學下下面的課程，課程提供了上面類似模擬的實現細節和網表，大大縮短了數周甚至數月的學習時間成本。不僅僅對比DDR，課程還對HSPICE實現TDR、時域頻域模擬、W-element建模、PDN紋波等系統的講解了各類訊號完整性問題。已經購買課程的同學問了很多DDR和SERDES模擬的問題，如DDR DBI模擬實現、CPM模擬修改PWL檔案、統計模擬眼圖剛開始沒進入穩態等等，群裡討論氛圍非常好，互相學習提升的也很快。如果你也對HSPICE模擬感興趣，但是獨自學習數千頁的HELP文件很苦惱和迷茫，不仿來一塊學習吧。06我的HSPICE視訊教學對於很多朋友想從封裝、PCB Layout設計轉模擬，或者想從PCB模擬轉系統模擬，預先善其事 必先利其器，首先必須掌握一個電路模擬工具，才是求職的敲門磚。作為電路模擬的黃金標準，那HSPICE是首選。結合自己多年工作經驗，最近花費半年時間整理了一個HSPICE模擬教學，涉及了訊號和電源完整性的主要知識點，為滿足目前市場主流應用，以PCIe4.0(16Gbps)和LPDDR5X(8533Mbps)為例，講解IBIS和IBIS-AMI模型應用，包含PDN效應的系統鏈路模擬。我的《晶片-封裝-PCB系統級HSPICE及WaveView訊號電源完整性分析_PCIE及LPDDR模擬》課程內容涉及多篇論文，既具有深度也有很大實際價值，感興趣的朋友可以學習下。 (半導體先進技術與模擬)

這家公司業務範圍覆蓋半導體裝置的PVD、刻蝕、薄膜沉積等前道核心工藝裝置，以及高端量檢測儀器等隨著美國近年來不斷加大對中國的高科技封鎖，光刻機這個原本比較小眾的、應用於晶片製造的半導體裝置也日益被大眾所熟知。這是因為，中國目前還造不出7奈米及以下高端晶片的核心原因之一，就在於無法從荷蘭公司阿斯麥（ASML）進口製造高端晶片的EUV（極紫外）光刻機，只能靠自主研發，因此，國產光刻機的研發進展有任何風吹草動都容易引發高度關注。10月15日至17日，灣區半導體產業生態博覽會（下稱“灣芯展”）在深圳舉行。本屆灣芯展，最受關注的公司就是深圳市新凱來技術有限公司（下稱“新凱來”）。新凱來成立於2021年，由深圳市國資委全資控股。這家年輕的初創公司之所以格外受關注，主要因為，一直有市場傳言稱新凱來在研發用於製造7奈米及以下高端晶片的光刻機。新凱來不僅沒有展出光刻機相關資訊，事實上，截至本文發稿，新凱來從未在官網、新聞發佈會、科技展會等各種公開管道上明確承認過有該項業務。國內公開承認肩負光刻機研製的公司是上海微電子裝備(集團)股份有限公司(下稱“上海微電子”)，其用於製造90奈米晶片的乾式DUV（深紫外）光刻機已經實現量產。據證券時報報導，上海微電子28奈米浸沒式DUV光刻機也進入產品驗證階段，但EUV（極紫外）光刻機仍處於預研階段（2025年度中國國際工業博覽會，上海微電子首次公開EUV光刻機參數圖），需突破光源、光學系統等核心技術。表：光刻機製造關鍵核心領域國產化現狀  來源：華金證券雖然不涉及光刻機，新凱來正向半導體裝置多項“卡脖子”技術發起挑戰。本屆灣芯展上，新凱來展示了刻蝕、薄膜沉積、量檢測等6大類產品，子公司啟雲方（武漢啟雲方科技有限公司）和萬里眼（深圳萬里眼技術有限公司）分別發佈了EDA設計軟體和超高速示波器。新凱來每大產品系列均以中國名山命名，暗含樹立中國半導體裝置高峰之意。1．外延沉積（EPI）裝置（峨眉山系列）EPI裝置的作用是，通過化學氣相沉積（CVD）技術，在晶圓表面生長一層原子級精密的單晶半導體材料（如矽、鍺矽、碳化矽等），直接決定晶片的性能與可靠性。EPI裝置是半導體製造中最核心的“卡脖子”工程之一，其技術壁壘和市場壟斷程度可與光刻機相提並論。全球前道EPI裝置市場長期被美國應用材料公司（AMAT）和日本東京電子（TEL）壟斷，合計佔據超過90%的份額。國內EPI裝置研發起步較晚，目前8英吋EPI裝置性能接近國際水平，主要代錶廠商是北方華創，但12英吋EPI裝置仍需依賴進口。根據新凱來公佈的情況，新凱來EPI裝置在8英吋矽基外延工藝中，膜厚均勻性達到±0.5%，與應用材料同類裝置處於同一技術水平。2．原子層沉積（ALD）裝置（阿里山系列）ALD裝置好比一個奈米級的粉刷匠，專門為晶片製造打造原子級超薄、超均勻的薄膜，屬於前道工藝的“薄膜沉積”核心環節，是先進製程（7奈米及以下）實現精密結構的關鍵裝置。目前全球ALD裝置市場由荷蘭先晶半導體（ASM）和日本東京電子主導，兩者合計市場份額超過60%。國內ALD裝置研發始於2015年後，目前成熟製程（28奈米及以上）裝置已實現量產突破，但先進製程裝置依賴進口，主要代錶廠商包括新凱來、北方華創(002371.SZ)和拓荊科技（688072.SH）。新凱來薄膜沉積裝置“阿里山”系列有三款產品。其中，阿里山1號是12英吋高保形性介質薄膜原子層沉積裝置，搭配五邊形平台和Twin腔領先架構，覆蓋先進邏輯/儲存前中後段介質薄膜應用場景，滿足圖形化，超薄薄膜，超高深寬比gap fill需求，支援向未來先進節點演進。阿里山2號是12英吋介質刻蝕阻擋層薄膜沉積裝置，3號則是12英吋高深寬比金屬柵極原子層沉積裝置，均支援向先進節點演進。3. 物理氣相沉積（PVD）裝置（普陀山系列）PVD裝置的作用是，通過蒸發、濺射等物理過程將金屬或介質材料沉積到晶圓表面，形成導電互連層、柵電極等關鍵結構，其薄膜的電阻率、均勻性和附著力直接決定晶片的電學性能與可靠性。PVD裝置是半導體薄膜沉積領域的核心裝備，技術壁壘集中於高功率濺射源設計與大面積均勻沉積控制。全球市場長期被美國應用材料壟斷，其市佔率高達85%，尤其在12英吋先進製程的銅互連沉積領域幾乎處於獨佔地位。國內PVD裝置研發起步較晚，8英吋成熟製程裝置已實現批次供貨，但12英吋先進製程的銅互連PVD裝置仍主要依賴進口。國內涉足PVD裝置的廠商包括北方華創、拓荊科技和新凱來。其中，北方華創是國內PVD裝置的龍頭企業；拓荊科技主要專注於CVD（化學氣相沉積）和ALD（原子層沉積），但其在PVD領域也有佈局；公開資訊顯示，新凱來推出了普陀山1號至3號三款PVD裝置，分別針對金屬平面膜、中道接觸層及後道互連。例如，普陀山3號採用多重電磁調控與高離化自電離電漿體技術，實現高品質金屬填孔，其平台架構靈活應對多元應用場景，一代設計支援多代製程。4. 刻蝕裝置（武夷山系列）刻蝕裝置利用電漿體或化學試劑在晶圓表面進行選擇性腐蝕，將光刻定義的圖形精準轉移到薄膜或襯底上，是半導體製造中“圖形化”的核心工具。簡言之，刻蝕裝置就像一把超級精細的“雕花刀”，在晶圓上刻出奈米級的電路圖案。刻蝕裝置是半導體裝置中市場規模第二大的品類，技術壁壘體現在高深寬比刻蝕與原子層刻蝕（ALE）技術上。全球市場長期被美國泛林半導體（Lam Research）、應用材料（AMAT）和日本東京電子（TEL）壟斷，三者合計佔據超90%的份額。國內刻蝕裝置研發進展較快，成熟製程（28奈米及以上）的介質刻蝕、金屬刻蝕裝置已實現國產化，主要由中微公司、北方華創供應；在7奈米及以下先進製程領域，中微公司取得關鍵突破，公開表示其生產的高深寬比刻蝕裝置已成功應用於國內外領先的晶片製造商的5奈米及更先進的晶片生產線中。新凱來刻蝕產品ETCH（武夷山）系列，包括武夷山1號、3號、5號共3款裝置。其中武夷山1號MAS為電容耦合電漿體(CCP) 干法刻蝕裝置，實現了射頻全鏈路自主可控，多頻三級同步脈衝滿足三維複雜形貌調控需求；武夷山5號為自由基幹法刻蝕裝置，採取創新勻氣方案設計，大幅提升刻蝕選擇比。5. 薄膜沉積CVD裝置（長白山系列）薄膜沉積裝置通過CVD或PVD等工藝，在晶圓表面生長或覆蓋特定材料的薄膜層，用於建構晶片的導電層、絕緣層或保護層。簡言之，薄膜沉積裝置就像一台“奈米級噴塗機”，為晶圓均勻覆蓋功能各異的薄膜材料，為後續電路圖形化奠定基礎。薄膜沉積裝置是半導體裝置中市場規模最大的品類之一，技術壁壘集中於薄膜均勻性、缺陷控制和先進材料適配能力。全球市場長期被美國應用材料、泛林半導體和日本東京電子主導，三者合計佔據超過80%的份額。國內CVD裝置研發近年來進展顯著，在28奈米及以上成熟製程的介質薄膜、多晶矽沉積領域已實現國產化，主要由北方華創、拓荊科技供應；在7奈米及以下先進製程領域的CVD裝置仍然受制於人。新凱來CVD產品包括長白山1號和長白山3號。根據新凱來的公開資訊，長白山1號具備單腔4-Station領先架構，長白山3號全面覆蓋邏相和行儲金屬化學氣相沉積應用場景，具備創新架構和領先性能，多種工藝高度整合，支援向未來先進節點演進。6. 量檢測裝置（岳麓山系列）量檢測裝置的作用是，通過光學、X射線等技術對晶圓製造全流程進行缺陷檢測與參數測量，包括薄膜厚度、線寬、缺陷尺寸等，是保障晶片良率的“眼睛”，其檢測精度與效率直接決定量產產能與成本。量檢測裝置是半導體裝置中國產化率最低的品類之一，技術壁壘集中於奈米級缺陷識別與高速訊號處理。全球市場長期被美國科磊（KLA）、應用材料和日本東京電子壟斷，三者合計佔據超90%的份額。西證券研報指出，國內半導體檢測和量測裝置企業起步較晚，主要廠商的國內市場份額由2019年的0.61%提升至2023年的4.34%。新凱來量測檢測裝置包括岳麓山系列、丹霞山系列、蓬萊山系列、莫干山系列、天門山系列、沂蒙山系列和赤壁山系列和功率檢測的RATE系列產品。據介面新聞報導，新凱來量測檢測裝置實際分兩類，一類是技術難度較高的光學量檢測產品，包括明場缺陷檢測BFI、暗場缺陷檢測DFI、表面缺陷檢測PC等。公司方面表示，這類產品基本完成客戶側驗證，2025年進入量產狀態。另一類是國內此前空白但產線必需的PX（物理和X射線）及功率檢測產品，包括原子力顯微鏡量測AFM、X射線類量測XPS、CP(Chip Probing)測試機等。其中，PX量測產品已進入量產交付，功率檢測產品也進入了規模應用。據《南方日報》報導，新凱來量檢測裝備產品線總裁酈舟劍接受採訪時曾表示，新凱來量檢測裝備在核心零部件上均實現了國產化，每一個突破在2021年之前曾被視作難以踰越的高山。綜合來看，新凱來的主要產品線集中在半導體製造中最複雜、技術壁壘最高的前道（Front-end）工藝。本屆灣芯展上，新凱來子公司萬里眼自主研發的新一代超高速即時示波器也很受業界關注。據公開消息，萬里眼首席執行官劉桑表示該公司之所以將目光瞄向示波器領域，一是因為從瓦森納協定到美國的出口管制，西方國家禁止向中國出口60GHz以上的即時示波器；二是美國幾年時間裡將1500多家國內大學科研機構以及企業納入實體管制清單，導致其無法使用常規使用美國儀器，使得高端的電子測量儀器成為中國電子產業向前發展的關鍵卡點。萬里眼公司官方資訊稱，該公司新一代超高速即時示波器頻寬突破90GHz，位列全球第二，將國產示波器性能提升到原有水平的500%，實現多帶產品的跨越，可應用於半導體、6G通訊、光通訊、智能駕駛等領域。劉桑還透露，其系列產品可做到穩定批次向客戶提供服務，華為、上海交大等多家機構是其客戶。綜上所述，新凱來及其子公司通過聚焦於PVD、刻蝕、薄膜沉積等前道核心工藝裝置，以及高端量檢測儀器，正力求在多個層面系統性地解決半導體裝置產業的“卡脖子”問題。 (財經雜誌)

如果關注近日的社交媒體，會發現有三大熱詞，均與一個產業、一座城市有關。其一是灣芯展。灣芯展的主辦方之一是深圳國資深重投，加上深圳市政府罕見召開新聞發佈會為之預熱，可見這不是一場普通的行業展會。某種程度上來說，這是深圳的官方行為，是有效市場與有為政府的有機結合，用意之一是向外界傳遞半導體是深圳優勢產業，且有突破西方封鎖的重大進展的訊號。縱觀國際，諸多著名展會都是依託當地的優勢產業發展，如巴黎時裝文化展覽會、漢諾威工業博覽會，這些展會使得舉辦城市在國際會展上積累了較強的影響力。當目前只舉辦了兩屆的灣芯展，喊出“著力打造具有全球影響力的中國積體電路第一展”的口號時，雄心壯志躍然紙上。假以時日，灣芯展或像高交會一樣，成為深圳的另一張城市名片。其二是新凱來。深圳市發改委主任郭子平日前在灣芯展新聞發佈會上，重點提及了新凱來及其子公司，說它們將帶來“意想不到的驚喜”。15日灣芯展正式開幕後，新凱來展台被觀眾圍得水洩不通，兩小時內就發完了近5000本介紹手冊，足見關注度之高。郭子平口中的“驚喜”，指的是新凱來旗下兩家子公司發佈新品：一個是EDA相關產品，填補了國產高端電子設計工業軟體技術空白；一個是超高速即時示波器，將國產示波器性能提升到500%，打破西方《瓦森納協定》封鎖。雖然外界對於郭子平口中的“驚喜”有著更高的預期，但這兩款半導體行業關鍵輔助裝置的出現，體現的是自主創新與國產替代的長期趨勢，而深圳將承擔“破局者”的角色，更大更多的“驚喜”，還在後頭。其三是聞泰科技。聞泰科技近日因被荷蘭政府以莫須有的“國家安全”為由，強行凍結其子公司安世半導體資產，成為國際新聞熱點，外交部、商務部紛紛回應。許多人並沒有注意到，聞泰科技也是一家深企，它從華強北的手機代工廠商起步，通過海外併購切入功率半導體這一高端領域。當聞泰科技成為繼華為、中興、大疆等之後，又一家捲入中美科技戰與地緣政治博弈的深企時，深圳的“含科量”再次彰顯。儘管聞泰科技通過海外併購獲取技術的路子眼下遇阻，但我們不能因此否定深圳民企從低端邁向高端的努力與雄心。灣芯展、新凱來、聞泰科技，均與深圳及其半導體產業有關，當它們近乎同時成為社媒熱詞，意味著強烈的“出圈”效應。也就是說，這不僅是一兩家公司、一個展會甚至是一座城市的事，更應從產業與大國競爭等宏大視野去看待。高關注度意味著高期待，深圳應保持雄心、不負期待。 (趨勢捕捉)

10月10日深圳發改委主任郭子平公開說：“新凱來包含了幾個子公司，每個子公司都將在這次展會中帶來意想不到的驚喜。”此話一出，把大家的胃口吊得高高的，大部分人猜測這個“驚喜”是不是國產光刻機真的要橫空出世了呢？那新凱來到底有沒有驚喜呢？飆叔今天特地到展會上轉了一圈，新凱來的站台可謂是“人山人海、彩旗飄飄”；但並沒有任何關於國產光刻機的痕跡，還是之前的上海半導體展上展示的那些“山系列”。不過，本體沒有驚喜，兩個子公司倒是發佈了相關晶片。武漢啟雲方首次向業界發佈了兩款擁有完全自主智慧財產權的國產電子工程EDA，即原理圖設計軟體和PCB設計軟體，填補了國產高端電子設計工業軟體技術空白。另外，就是萬里眼在本次展會上展示了新一代超高速即時示波器，其頻寬突破90GHz。相比而言，要說驚喜的話，飆叔覺得萬里眼的示波器算是一個吧。我們知道示波器被稱為“工程師的眼睛”，其本質就是將不可見的電訊號轉化為可檢視像。其基本原理，是利用電子束打在塗有螢光物質的屏面上來產生光點。被測訊號作用於電子束，使其在屏面上描繪出訊號的瞬時值變化曲線。簡單來說，它就像一個高速的繪圖儀，在螢幕上畫出電壓隨時間變化的曲線。對於像萬里眼這樣的現代高性能數字示波器，其技術核心還包括訊號數位化和資料處理與顯示。訊號數位化就是通過前端電路（包括輸入衰減器、放大器等）對採集到的訊號進行處理後，利用模數轉換器（ADC） 將連續的模擬訊號轉換為離散的數字訊號。而資料處理與顯示，主要是指轉換後的數字訊號經過計算處理，最終還原並顯示在螢幕上。採樣率和儲存深度是衡量其性能的兩個關鍵指標，高採樣率確保了訊號保真度，大儲存深度則允許捕獲更長時間的訊號細節。因此，萬裡眼新發佈的高性能數字示波器，尤其其頻寬突破了90GHz。在半導體、6G通訊、光通訊、智能駕駛等領域的應用前景都相當的廣闊。具體如下表：也就是說，在未來的半導體以及智能駕駛等高科技領域，示波器的應用將越來越廣泛。根據QYResearch的研究資料，2024年全球數字採樣示波器市場規模已達到15.31億美元，預計到2031年將增長至22.5億美元，年複合增長率為5.7%。工業示波器市場同樣前景廣闊，預計2030年市場規模將達到21.99億美元。但全球示波器市場也呈現少數行業巨頭掌控的態勢。目前是德科技(Keysight)、泰克(Tektronix) 和力科(Teledyne LeCroy)是公認的全球領導者，它們在高性能示波器領域技術實力雄厚。前五大廠商（通常包括上述公司及安立(Anritsu) 等）佔據了全球市場約55% 的份額，市場集中度較高。也就是說，目前全球示波器市場主要為美國廠商佔據主導。但中國是全球增長最為迅速的市場，這主要得益於電子產業的快速發展和智能製造的推進。中國本土廠商如普源精電(Rigol)、鼎陽科技(Siglent) 和利利普(OWON) 等也在不斷發展，並佔據了一定的市場份額。而此次萬裡眼公開展示的頻寬超過90GHz的示波器，從技術和性能來說也是國產示波器的一次巨大突破，用其工作人員的話說：“這個示波器目前達到了全國第一，全球第二的水平。”因此，新凱來本主沒有帶來啥新的東西，但萬里眼還是給我帶來驚喜的，至於那些本來期望值很高的，尤其是奔著光刻機去的人來說，確實可能要失望了！ (飆叔科技洞察)