工商資訊顯示，近日，深圳市深科裝備技術有限公司（下稱「深科裝備」）發生工商變更，陳勉冬卸任法定代表人、執行董事、總經理，由余海接任法定代表人，並擔任董事、經理。深科裝備成立於2022年2月，註冊資本約15億人民幣，經營範圍包括智慧基礎製造裝備銷售、半導體裝置專用裝置銷售、電子專用裝置銷售等。深科裝備由新凱來旗下深圳市新凱來工業機器有限公司全資持股。工商資訊顯示，余海目前擔任新凱來的法定代表人、董事兼總經理。此外，他同時在深圳市新凱來技術有限公司、長光集智光學科技有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司、深圳市星光立索科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司等16家企業中擔任法定代表人。《科創板日報》記者注意到，截至目前，新凱來外對外投資的子公司共8家，分別是長光集智光學科技有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司、深圳市星光立索科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司、北京新凱來技術有限公司、上海新凱來技術有限公司、基海基石有限公司。從控制企業來看，新凱來控制企業多達18家，其中，12家投資比例達100%，分別為深圳市星光立索科技有限公司、上海星光立索科技有限公司、北京星光立索科技有限公司、上新凱來技術有限公司、北京新凱來技術有限公司、珠海基石科技有限公司、上海基石化學有限公司深啟三國基石經濟有限公司及三碈緘科技有限公司深奧啟方科技有限公司。7家持股比例達90%以上，為深圳市深科裝備技術有限公司、深圳市新凱來工業機器有限公司上海飛埃技術有限公司、上海大塵微影半導體科技有限公司、深圳市萬里眼技術有限公司；長光集智光學科技有限公司投資比例為60%。眾多子公司也涵蓋了半導體產業鏈多個環節，長光集智光學科技有限公司具體專業方向包括光學系統設計與最佳化、光學表面加工與檢測、光學薄膜製備、機電一體聯合設計模擬、系統裝調與測試等；珠海基石科技有限公司擁有高純化學品製造產線，提供電子化學材料，產品廣泛應用於國內試驗企業和研究基石科技有限公司。其中，深圳市萬里眼技術有限公司（下稱「萬里眼」）、武漢啟雲方科技有限公司（下稱「啟雲方」）在2025灣芯展上曝光在公眾視野。現場展會上，萬里眼發佈新一代超高速即時示波器，該產品頻寬突破90GHz，將國產示波器性能提升到500%；啟雲方發佈兩款擁有完全自主智慧財產權的國產電子工程EDA（原理圖和PCB)設計軟體，已有超過2萬名工程師使用。萬里眼CEO劉桑曾在接受《科創板日報》記者專訪時表示，新凱來旗下涵蓋多家子公司，對於萬里眼來說，新凱來主要承擔股東責任。 （科創板日報）

2025 年中國半導體產業博覽會成為觀察全球半導體產業格局變遷的重要窗口，多家本土企業集中亮相的技術成果，清晰勾勒出中國在半導體產能擴張與核心裝置自主化領域的進階軌跡。其中，新凱來（SiCarrier）子公司的參展，印證了產業鏈協同的深化，而光刻技術領域的突破性進展更成為展會焦點，標誌著中國在降低對荷蘭阿斯麥依賴方面邁出關鍵步伐。不過大家對這家公司從最開始的驚訝到現在已經趨於平淡。芯上微裝（AMIES Technology）作為此次展會的 "明星企業"，其產品矩陣與商業化成果引發廣泛關注。據多方報導，這家脫胎於中國國有光刻機龍頭上海微電子裝備股份有限公司（SMEE）的分拆子公司，承擔著將核心技術轉化為市場產能的關鍵使命 ——SMEE 聚焦前端核心工具研發，已實現自主 600 系列光刻機 90 奈米節點量產，且 28 奈米浸沒式模型研發正穩步推進，而 AMIES 則專攻裝置商業化落地，形成 "研發 - 轉化" 的高效協同鏈條。在展會現場，AMIES 展示了覆蓋半導體製造多環節的產品組合，涵蓋化合物半導體光刻機、雷射退火系統、先進檢測工具，以及封裝和晶圓鍵合解決方案等關鍵裝置。其中，針對高端晶片封裝場景的先進封裝光刻機尤為引人注目，這款裝置憑藉高解析度、超大曝光場及高翹曲基板適配能力，可滿足倒裝晶片、扇入 / 扇出式 WLP/PLP、2.5D/3D 整合等晶圓級與面板級先進封裝需求，精準匹配人工智慧與高端智能終端的製造升級需求。市場資料更直觀體現其競爭力：AMIES 披露，其先進封裝光刻機已佔據全球 35% 的市場份額，在中國市場的佔有率更是高達 90%。2025 年 8 月，公司第 500 台步進式光刻機順利發貨的消息，進一步印證了其商業化能力的成熟，成為國產光刻裝置從 "實驗室" 走向 "量產線" 的典型標竿。在 EUV（極紫外）光刻這一高端領域，據《南華早報》報導，這家企業的股權結構中不僅包含XXX的投資，更吸納了受美國製裁的中國科學院長春光學精密機械與物理研究所的資本，其股東團隊中匯聚多位頂尖 EUV 光學研究人員，與國內在 EUV 光源領域的技術突破（如中科院團隊開發的固體雷射驅動 LPP-EUV 光源，能量轉換效率達 3.42%）形成潛在協同。而在 DUV（深紫外）光刻的產業化應用上，上海已取得實質性進展。援引英國《金融時報》消息，該公司已向中國最大晶圓代工廠中芯國際交付 28nm DUV 光刻系統，且該裝置正用於 7nm 製程的生產測試。這一進展與上海微電子的技術迭代形成呼應，當前國產 DUV 裝置通過多重曝光技術，已具備支撐 7nm 乃至 5nm 製程試產的潛力，若測試達標，有望每年為中芯國際節省數億美元進口成本。從 SEMiBAY 展會的技術呈現來看，中國光刻產業已形成 "前端研發攻堅（上海微電子）+ 中端商業化落地（芯上微裝）+ 高端技術佈局（澤拓科技）+ 成熟製程應用（宇量昇）" 的多層次發展格局。隨著 35% 全球份額、90% 國內份額等市場資料的兌現，以及裝置交付量的持續增長，中國正逐步打破 ASML 在光刻領域的壟斷，為半導體產業鏈自主可控奠定核心基礎。 (IT前哨站)

導讀：最近，新凱來發佈的“萬里眼”廣域偵察系統火爆出圈，它以其超視距、高精度的探測能力，重新定義了戰場感知的邊界。大家驚嘆於其系統性能之餘，是否思考過：是什麼支撐起如此龐大系統內部海量資料的無損、高速與穩定傳輸？答案的核心之一，便是訊號完整性。在“萬里眼”這樣的尖端裝備中，無數個高速SerDes通道、DDR/LPDDR記憶體陣列正如系統的“神經網路”，它們必須在GHz級的頻率下，精準無誤地傳遞每一個位元。任何一絲訊號的失真、反射或損耗，都可能導致“看得見”卻“看不清”的災難性後果。因此，在晶片設計和板級系統設計階段，對PCIe、DDR等高速匯流排進行精準的模擬預測，是確保產品成功的“鐵律”。圖：萬里眼90GHz新一代超高速即時示波器然而，回到我們的日常工作中：你是否曾為PCIe鏈路的不穩定、誤位元率高而熬夜偵錯？你是否在面對LPDDR5/5X的苛刻時序要求時，感到理論到實踐的脫節？你是否希望像設計“萬里眼”那樣頂級系統的工程師一樣，在設計之初就“預見”所有訊號風險，而不是在測試階段“亡羊補牢”？如果你的答案是肯定的，那麼這門《晶片-封裝-PCB系統級HSPICE及WaveView訊號電源完整性分析_PCIE及LPDDR模擬》視訊課程，正是為你量身打造的進階之梯。訊號完整性工程師在模擬DDR時候一般用ADS和HSPICE,這兩個軟體各有優勢：請查看《HSPICE及WaveView教學—PCIe4和LP5（8533Mbps）模擬》，今天具體介紹下在HSPICE中模擬DDR的一些優勢。在DDR4和LPDDR4標準中，JEDEC明確提出了隨機抖動的概念，目標誤位元率為10E-16。由於單端平行介面通常以顯著的SSO噪聲為特徵，因此必須開發一種模擬方法來捕獲與低誤位元率操作相關的SSO影響（是強非線性的）和RJ影響。本文將探討關於使用HSPICE StatEye功能在減小模擬時間的同時捕獲這些非線性影響的可能方法(同時考慮RJ、SSO、DCD等影響)。01瞬態模擬挑戰在DDR5和DDR4之前，SIPI模擬建立和保持時間要求集中在確定性的時序預算上。通常，基於PRBS-7 Pattern會捕捉到最壞情況的影響（ISI影響），如果同時激勵多個訊號來模擬激勵的串擾和SSN效應。在模擬中使用電晶體級模型可能會導致較長的執行階段間，具體取決於介面的寬度和IO模型提取的複雜性。30到40個小時並不少見；時間很長，但也是可以控制的。試圖通過暴力模擬來捕獲足夠的位元來捕獲低誤位元率性能是不現實的。02統計分析優勢諸如StatEye之類的通道模擬器通過從通過瞬變模擬建立的脈衝/邊沿響應生成機率密度函數來獲得低誤位元率性能。被模擬的通道應該具有線性時不變響應（LTI系統），以支援標準脈衝響應的統計方法。03PSIJ（電源導致抖動）什麼是PSIJ:當多個IO同時翻轉時，電源上會產生紋波，導致IO輸出產生抖動，接收端DQS觸發DQ產生眼圖，DQ的抖動會影響建立和保持時間；如何模擬PSIJ: 對於DDR應用，PSIJ嚴重影響系統級時序預算。精準地模擬這些效應需要包含電晶體級電路模型（IBIS緩衝器在捕獲由電源導軌噪聲引起的抖動效應方面不能提供足夠的精度）。當電路通過電源路徑汲取電流時，它會在電源線上產生L*(Di/Dt)噪聲，從而導致非線性響應。上面提到統計分析只能處理LTI系統響應，為了準確地捕捉PSIJ這一強非線性一效果，StatEye提供了兩種可能的方法來解決這一問題，即邊緣模式和完全瞬時模式。04系統鏈路模擬在進行統計模擬之前，先運行瞬態模擬，瞬態模擬作為統計模擬分析的對比，驗證其精度。搭建如下的模擬環境：通過運行瞬態分析和統計分析（FT），可以看出，電源和訊號波形基本一致。05其他抖動上面的系統鏈路中並沒包含PLL抖動（通常表示為RJ），PHY 前級電源導致的PSIJ、DCD抖動和Traning 誤差的影響。所以模擬中還需要在激勵中加入下面幾種抖動。最終得到如下眼圖和相關的Mask。對於以上的內容，如何進行實際操作模擬實現？這需要搭建電源、訊號模擬路徑，需要有IO模擬模型等等。對於初學者或者有一定DDR模擬經驗但是並沒有考慮那麼多模擬因素的同學來說，實現上面的模擬還是需要些時間來研究。為了節省研究和學習成本，可以研學下下面的課程，課程提供了上面類似模擬的實現細節和網表，大大縮短了數周甚至數月的學習時間成本。不僅僅對比DDR，課程還對HSPICE實現TDR、時域頻域模擬、W-element建模、PDN紋波等系統的講解了各類訊號完整性問題。已經購買課程的同學問了很多DDR和SERDES模擬的問題，如DDR DBI模擬實現、CPM模擬修改PWL檔案、統計模擬眼圖剛開始沒進入穩態等等，群裡討論氛圍非常好，互相學習提升的也很快。如果你也對HSPICE模擬感興趣，但是獨自學習數千頁的HELP文件很苦惱和迷茫，不仿來一塊學習吧。06我的HSPICE視訊教學對於很多朋友想從封裝、PCB Layout設計轉模擬，或者想從PCB模擬轉系統模擬，預先善其事 必先利其器，首先必須掌握一個電路模擬工具，才是求職的敲門磚。作為電路模擬的黃金標準，那HSPICE是首選。結合自己多年工作經驗，最近花費半年時間整理了一個HSPICE模擬教學，涉及了訊號和電源完整性的主要知識點，為滿足目前市場主流應用，以PCIe4.0(16Gbps)和LPDDR5X(8533Mbps)為例，講解IBIS和IBIS-AMI模型應用，包含PDN效應的系統鏈路模擬。我的《晶片-封裝-PCB系統級HSPICE及WaveView訊號電源完整性分析_PCIE及LPDDR模擬》課程內容涉及多篇論文，既具有深度也有很大實際價值，感興趣的朋友可以學習下。 (半導體先進技術與模擬)

這家公司業務範圍覆蓋半導體裝置的PVD、刻蝕、薄膜沉積等前道核心工藝裝置，以及高端量檢測儀器等隨著美國近年來不斷加大對中國的高科技封鎖，光刻機這個原本比較小眾的、應用於晶片製造的半導體裝置也日益被大眾所熟知。這是因為，中國目前還造不出7奈米及以下高端晶片的核心原因之一，就在於無法從荷蘭公司阿斯麥（ASML）進口製造高端晶片的EUV（極紫外）光刻機，只能靠自主研發，因此，國產光刻機的研發進展有任何風吹草動都容易引發高度關注。10月15日至17日，灣區半導體產業生態博覽會（下稱“灣芯展”）在深圳舉行。本屆灣芯展，最受關注的公司就是深圳市新凱來技術有限公司（下稱“新凱來”）。新凱來成立於2021年，由深圳市國資委全資控股。這家年輕的初創公司之所以格外受關注，主要因為，一直有市場傳言稱新凱來在研發用於製造7奈米及以下高端晶片的光刻機。新凱來不僅沒有展出光刻機相關資訊，事實上，截至本文發稿，新凱來從未在官網、新聞發佈會、科技展會等各種公開管道上明確承認過有該項業務。國內公開承認肩負光刻機研製的公司是上海微電子裝備(集團)股份有限公司(下稱“上海微電子”)，其用於製造90奈米晶片的乾式DUV（深紫外）光刻機已經實現量產。據證券時報報導，上海微電子28奈米浸沒式DUV光刻機也進入產品驗證階段，但EUV（極紫外）光刻機仍處於預研階段（2025年度中國國際工業博覽會，上海微電子首次公開EUV光刻機參數圖），需突破光源、光學系統等核心技術。表：光刻機製造關鍵核心領域國產化現狀  來源：華金證券雖然不涉及光刻機，新凱來正向半導體裝置多項“卡脖子”技術發起挑戰。本屆灣芯展上，新凱來展示了刻蝕、薄膜沉積、量檢測等6大類產品，子公司啟雲方（武漢啟雲方科技有限公司）和萬里眼（深圳萬里眼技術有限公司）分別發佈了EDA設計軟體和超高速示波器。新凱來每大產品系列均以中國名山命名，暗含樹立中國半導體裝置高峰之意。1．外延沉積（EPI）裝置（峨眉山系列）EPI裝置的作用是，通過化學氣相沉積（CVD）技術，在晶圓表面生長一層原子級精密的單晶半導體材料（如矽、鍺矽、碳化矽等），直接決定晶片的性能與可靠性。EPI裝置是半導體製造中最核心的“卡脖子”工程之一，其技術壁壘和市場壟斷程度可與光刻機相提並論。全球前道EPI裝置市場長期被美國應用材料公司（AMAT）和日本東京電子（TEL）壟斷，合計佔據超過90%的份額。國內EPI裝置研發起步較晚，目前8英吋EPI裝置性能接近國際水平，主要代錶廠商是北方華創，但12英吋EPI裝置仍需依賴進口。根據新凱來公佈的情況，新凱來EPI裝置在8英吋矽基外延工藝中，膜厚均勻性達到±0.5%，與應用材料同類裝置處於同一技術水平。2．原子層沉積（ALD）裝置（阿里山系列）ALD裝置好比一個奈米級的粉刷匠，專門為晶片製造打造原子級超薄、超均勻的薄膜，屬於前道工藝的“薄膜沉積”核心環節，是先進製程（7奈米及以下）實現精密結構的關鍵裝置。目前全球ALD裝置市場由荷蘭先晶半導體（ASM）和日本東京電子主導，兩者合計市場份額超過60%。國內ALD裝置研發始於2015年後，目前成熟製程（28奈米及以上）裝置已實現量產突破，但先進製程裝置依賴進口，主要代錶廠商包括新凱來、北方華創(002371.SZ)和拓荊科技（688072.SH）。新凱來薄膜沉積裝置“阿里山”系列有三款產品。其中，阿里山1號是12英吋高保形性介質薄膜原子層沉積裝置，搭配五邊形平台和Twin腔領先架構，覆蓋先進邏輯/儲存前中後段介質薄膜應用場景，滿足圖形化，超薄薄膜，超高深寬比gap fill需求，支援向未來先進節點演進。阿里山2號是12英吋介質刻蝕阻擋層薄膜沉積裝置，3號則是12英吋高深寬比金屬柵極原子層沉積裝置，均支援向先進節點演進。3. 物理氣相沉積（PVD）裝置（普陀山系列）PVD裝置的作用是，通過蒸發、濺射等物理過程將金屬或介質材料沉積到晶圓表面，形成導電互連層、柵電極等關鍵結構，其薄膜的電阻率、均勻性和附著力直接決定晶片的電學性能與可靠性。PVD裝置是半導體薄膜沉積領域的核心裝備，技術壁壘集中於高功率濺射源設計與大面積均勻沉積控制。全球市場長期被美國應用材料壟斷，其市佔率高達85%，尤其在12英吋先進製程的銅互連沉積領域幾乎處於獨佔地位。國內PVD裝置研發起步較晚，8英吋成熟製程裝置已實現批次供貨，但12英吋先進製程的銅互連PVD裝置仍主要依賴進口。國內涉足PVD裝置的廠商包括北方華創、拓荊科技和新凱來。其中，北方華創是國內PVD裝置的龍頭企業；拓荊科技主要專注於CVD（化學氣相沉積）和ALD（原子層沉積），但其在PVD領域也有佈局；公開資訊顯示，新凱來推出了普陀山1號至3號三款PVD裝置，分別針對金屬平面膜、中道接觸層及後道互連。例如，普陀山3號採用多重電磁調控與高離化自電離電漿體技術，實現高品質金屬填孔，其平台架構靈活應對多元應用場景，一代設計支援多代製程。4. 刻蝕裝置（武夷山系列）刻蝕裝置利用電漿體或化學試劑在晶圓表面進行選擇性腐蝕，將光刻定義的圖形精準轉移到薄膜或襯底上，是半導體製造中“圖形化”的核心工具。簡言之，刻蝕裝置就像一把超級精細的“雕花刀”，在晶圓上刻出奈米級的電路圖案。刻蝕裝置是半導體裝置中市場規模第二大的品類，技術壁壘體現在高深寬比刻蝕與原子層刻蝕（ALE）技術上。全球市場長期被美國泛林半導體（Lam Research）、應用材料（AMAT）和日本東京電子（TEL）壟斷，三者合計佔據超90%的份額。國內刻蝕裝置研發進展較快，成熟製程（28奈米及以上）的介質刻蝕、金屬刻蝕裝置已實現國產化，主要由中微公司、北方華創供應；在7奈米及以下先進製程領域，中微公司取得關鍵突破，公開表示其生產的高深寬比刻蝕裝置已成功應用於國內外領先的晶片製造商的5奈米及更先進的晶片生產線中。新凱來刻蝕產品ETCH（武夷山）系列，包括武夷山1號、3號、5號共3款裝置。其中武夷山1號MAS為電容耦合電漿體(CCP) 干法刻蝕裝置，實現了射頻全鏈路自主可控，多頻三級同步脈衝滿足三維複雜形貌調控需求；武夷山5號為自由基幹法刻蝕裝置，採取創新勻氣方案設計，大幅提升刻蝕選擇比。5. 薄膜沉積CVD裝置（長白山系列）薄膜沉積裝置通過CVD或PVD等工藝，在晶圓表面生長或覆蓋特定材料的薄膜層，用於建構晶片的導電層、絕緣層或保護層。簡言之，薄膜沉積裝置就像一台“奈米級噴塗機”，為晶圓均勻覆蓋功能各異的薄膜材料，為後續電路圖形化奠定基礎。薄膜沉積裝置是半導體裝置中市場規模最大的品類之一，技術壁壘集中於薄膜均勻性、缺陷控制和先進材料適配能力。全球市場長期被美國應用材料、泛林半導體和日本東京電子主導，三者合計佔據超過80%的份額。國內CVD裝置研發近年來進展顯著，在28奈米及以上成熟製程的介質薄膜、多晶矽沉積領域已實現國產化，主要由北方華創、拓荊科技供應；在7奈米及以下先進製程領域的CVD裝置仍然受制於人。新凱來CVD產品包括長白山1號和長白山3號。根據新凱來的公開資訊，長白山1號具備單腔4-Station領先架構，長白山3號全面覆蓋邏相和行儲金屬化學氣相沉積應用場景，具備創新架構和領先性能，多種工藝高度整合，支援向未來先進節點演進。6. 量檢測裝置（岳麓山系列）量檢測裝置的作用是，通過光學、X射線等技術對晶圓製造全流程進行缺陷檢測與參數測量，包括薄膜厚度、線寬、缺陷尺寸等，是保障晶片良率的“眼睛”，其檢測精度與效率直接決定量產產能與成本。量檢測裝置是半導體裝置中國產化率最低的品類之一，技術壁壘集中於奈米級缺陷識別與高速訊號處理。全球市場長期被美國科磊（KLA）、應用材料和日本東京電子壟斷，三者合計佔據超90%的份額。西證券研報指出，國內半導體檢測和量測裝置企業起步較晚，主要廠商的國內市場份額由2019年的0.61%提升至2023年的4.34%。新凱來量測檢測裝置包括岳麓山系列、丹霞山系列、蓬萊山系列、莫干山系列、天門山系列、沂蒙山系列和赤壁山系列和功率檢測的RATE系列產品。據介面新聞報導，新凱來量測檢測裝置實際分兩類，一類是技術難度較高的光學量檢測產品，包括明場缺陷檢測BFI、暗場缺陷檢測DFI、表面缺陷檢測PC等。公司方面表示，這類產品基本完成客戶側驗證，2025年進入量產狀態。另一類是國內此前空白但產線必需的PX（物理和X射線）及功率檢測產品，包括原子力顯微鏡量測AFM、X射線類量測XPS、CP(Chip Probing)測試機等。其中，PX量測產品已進入量產交付，功率檢測產品也進入了規模應用。據《南方日報》報導，新凱來量檢測裝備產品線總裁酈舟劍接受採訪時曾表示，新凱來量檢測裝備在核心零部件上均實現了國產化，每一個突破在2021年之前曾被視作難以踰越的高山。綜合來看，新凱來的主要產品線集中在半導體製造中最複雜、技術壁壘最高的前道（Front-end）工藝。本屆灣芯展上，新凱來子公司萬里眼自主研發的新一代超高速即時示波器也很受業界關注。據公開消息，萬里眼首席執行官劉桑表示該公司之所以將目光瞄向示波器領域，一是因為從瓦森納協定到美國的出口管制，西方國家禁止向中國出口60GHz以上的即時示波器；二是美國幾年時間裡將1500多家國內大學科研機構以及企業納入實體管制清單，導致其無法使用常規使用美國儀器，使得高端的電子測量儀器成為中國電子產業向前發展的關鍵卡點。萬里眼公司官方資訊稱，該公司新一代超高速即時示波器頻寬突破90GHz，位列全球第二，將國產示波器性能提升到原有水平的500%，實現多帶產品的跨越，可應用於半導體、6G通訊、光通訊、智能駕駛等領域。劉桑還透露，其系列產品可做到穩定批次向客戶提供服務，華為、上海交大等多家機構是其客戶。綜上所述，新凱來及其子公司通過聚焦於PVD、刻蝕、薄膜沉積等前道核心工藝裝置，以及高端量檢測儀器，正力求在多個層面系統性地解決半導體裝置產業的“卡脖子”問題。 (財經雜誌)

如果關注近日的社交媒體，會發現有三大熱詞，均與一個產業、一座城市有關。其一是灣芯展。灣芯展的主辦方之一是深圳國資深重投，加上深圳市政府罕見召開新聞發佈會為之預熱，可見這不是一場普通的行業展會。某種程度上來說，這是深圳的官方行為，是有效市場與有為政府的有機結合，用意之一是向外界傳遞半導體是深圳優勢產業，且有突破西方封鎖的重大進展的訊號。縱觀國際，諸多著名展會都是依託當地的優勢產業發展，如巴黎時裝文化展覽會、漢諾威工業博覽會，這些展會使得舉辦城市在國際會展上積累了較強的影響力。當目前只舉辦了兩屆的灣芯展，喊出“著力打造具有全球影響力的中國積體電路第一展”的口號時，雄心壯志躍然紙上。假以時日，灣芯展或像高交會一樣，成為深圳的另一張城市名片。其二是新凱來。深圳市發改委主任郭子平日前在灣芯展新聞發佈會上，重點提及了新凱來及其子公司，說它們將帶來“意想不到的驚喜”。15日灣芯展正式開幕後，新凱來展台被觀眾圍得水洩不通，兩小時內就發完了近5000本介紹手冊，足見關注度之高。郭子平口中的“驚喜”，指的是新凱來旗下兩家子公司發佈新品：一個是EDA相關產品，填補了國產高端電子設計工業軟體技術空白；一個是超高速即時示波器，將國產示波器性能提升到500%，打破西方《瓦森納協定》封鎖。雖然外界對於郭子平口中的“驚喜”有著更高的預期，但這兩款半導體行業關鍵輔助裝置的出現，體現的是自主創新與國產替代的長期趨勢，而深圳將承擔“破局者”的角色，更大更多的“驚喜”，還在後頭。其三是聞泰科技。聞泰科技近日因被荷蘭政府以莫須有的“國家安全”為由，強行凍結其子公司安世半導體資產，成為國際新聞熱點，外交部、商務部紛紛回應。許多人並沒有注意到，聞泰科技也是一家深企，它從華強北的手機代工廠商起步，通過海外併購切入功率半導體這一高端領域。當聞泰科技成為繼華為、中興、大疆等之後，又一家捲入中美科技戰與地緣政治博弈的深企時，深圳的“含科量”再次彰顯。儘管聞泰科技通過海外併購獲取技術的路子眼下遇阻，但我們不能因此否定深圳民企從低端邁向高端的努力與雄心。灣芯展、新凱來、聞泰科技，均與深圳及其半導體產業有關，當它們近乎同時成為社媒熱詞，意味著強烈的“出圈”效應。也就是說，這不僅是一兩家公司、一個展會甚至是一座城市的事，更應從產業與大國競爭等宏大視野去看待。高關注度意味著高期待，深圳應保持雄心、不負期待。 (趨勢捕捉)

10月10日深圳發改委主任郭子平公開說：“新凱來包含了幾個子公司，每個子公司都將在這次展會中帶來意想不到的驚喜。”此話一出，把大家的胃口吊得高高的，大部分人猜測這個“驚喜”是不是國產光刻機真的要橫空出世了呢？那新凱來到底有沒有驚喜呢？飆叔今天特地到展會上轉了一圈，新凱來的站台可謂是“人山人海、彩旗飄飄”；但並沒有任何關於國產光刻機的痕跡，還是之前的上海半導體展上展示的那些“山系列”。不過，本體沒有驚喜，兩個子公司倒是發佈了相關晶片。武漢啟雲方首次向業界發佈了兩款擁有完全自主智慧財產權的國產電子工程EDA，即原理圖設計軟體和PCB設計軟體，填補了國產高端電子設計工業軟體技術空白。另外，就是萬里眼在本次展會上展示了新一代超高速即時示波器，其頻寬突破90GHz。相比而言，要說驚喜的話，飆叔覺得萬里眼的示波器算是一個吧。我們知道示波器被稱為“工程師的眼睛”，其本質就是將不可見的電訊號轉化為可檢視像。其基本原理，是利用電子束打在塗有螢光物質的屏面上來產生光點。被測訊號作用於電子束，使其在屏面上描繪出訊號的瞬時值變化曲線。簡單來說，它就像一個高速的繪圖儀，在螢幕上畫出電壓隨時間變化的曲線。對於像萬里眼這樣的現代高性能數字示波器，其技術核心還包括訊號數位化和資料處理與顯示。訊號數位化就是通過前端電路（包括輸入衰減器、放大器等）對採集到的訊號進行處理後，利用模數轉換器（ADC） 將連續的模擬訊號轉換為離散的數字訊號。而資料處理與顯示，主要是指轉換後的數字訊號經過計算處理，最終還原並顯示在螢幕上。採樣率和儲存深度是衡量其性能的兩個關鍵指標，高採樣率確保了訊號保真度，大儲存深度則允許捕獲更長時間的訊號細節。因此，萬裡眼新發佈的高性能數字示波器，尤其其頻寬突破了90GHz。在半導體、6G通訊、光通訊、智能駕駛等領域的應用前景都相當的廣闊。具體如下表：也就是說，在未來的半導體以及智能駕駛等高科技領域，示波器的應用將越來越廣泛。根據QYResearch的研究資料，2024年全球數字採樣示波器市場規模已達到15.31億美元，預計到2031年將增長至22.5億美元，年複合增長率為5.7%。工業示波器市場同樣前景廣闊，預計2030年市場規模將達到21.99億美元。但全球示波器市場也呈現少數行業巨頭掌控的態勢。目前是德科技(Keysight)、泰克(Tektronix) 和力科(Teledyne LeCroy)是公認的全球領導者，它們在高性能示波器領域技術實力雄厚。前五大廠商（通常包括上述公司及安立(Anritsu) 等）佔據了全球市場約55% 的份額，市場集中度較高。也就是說，目前全球示波器市場主要為美國廠商佔據主導。但中國是全球增長最為迅速的市場，這主要得益於電子產業的快速發展和智能製造的推進。中國本土廠商如普源精電(Rigol)、鼎陽科技(Siglent) 和利利普(OWON) 等也在不斷發展，並佔據了一定的市場份額。而此次萬裡眼公開展示的頻寬超過90GHz的示波器，從技術和性能來說也是國產示波器的一次巨大突破，用其工作人員的話說：“這個示波器目前達到了全國第一，全球第二的水平。”因此，新凱來本主沒有帶來啥新的東西，但萬里眼還是給我帶來驚喜的，至於那些本來期望值很高的，尤其是奔著光刻機去的人來說，確實可能要失望了！ (飆叔科技洞察)

灣芯展火爆開幕了。隊長特意跑去了深圳一趟，現場參觀了這場中國的半導體技術盛宴。基本上，國內頂尖的半導體公司悉數到場了。其中，最亮眼的無疑就是新凱來了。在會展還沒開始前，深圳發改委就提前劇透稱，新凱來和它的一些子公司，將帶來一些意外的驚喜。那這個驚喜，到底是什麼呢？隊長算是親眼見到了。首先，就是“萬里眼”示波器了。很多人不懂，什麼叫“示波器”？這玩意兒有啥用啊？主要就是用來監測晶片電訊號的。它會把晶片的電訊號，以電波的方式傳遞出來，以檢驗晶片的合格性。晶片製造是非常複雜的，像海思麒麟的一枚5G晶片，就有上百億個電晶體了。通電以後呢？電子就在這些電晶體裡面跑起來了。那怎麼檢驗這顆晶片的合格性呢？就得靠示波器了。工程師可以通過觀察示波器，來檢驗晶片的電流、電壓等是否正常。那怕有微弱的波動，也能察覺出來，反饋給工程師以後，再進行及時調整。那這款示波器有多強大呢？已經做到全球第二了，頻寬90G赫茲。全球第一是美國泰克公司所研發，寬頻110G赫茲。雖然還有20G赫茲的差距，但已經沒啥影響了。因為“萬里眼”示波器已經可以支援3奈米晶片的製造了。而當前，全球最先進的晶片製造工藝，也就3奈米，2奈米尚未實現量產。那萬里眼是誰呢？它就是新凱來旗下的一家子公司。這也是萬里眼，第一次出現在公眾面前。除了萬里眼，新凱來還有兩家重磅級子公司。一家是“啟雲方”，另一家是“宇量昇”。關於“宇量昇”，隊長已經介紹過了。它是上海國資委與深圳國資委聯合設立的國有企業，專門搞光刻機製造的。DUV光刻機的突破，大機率就在宇量昇手裡了。那“啟雲方”是幹嘛的呢？它是專攻EDA晶片設計軟體的。這是中國晶片設計領域的一個重大短板。在高端晶片設計上EDA軟體基本被三大巨頭給壟斷了，分別是德國西門子、美國新思科技和楷登科技。國產雖有華大九天，但份額太小了，也遠不是德美三巨頭的對手。這時，新凱來進入EDA軟體研發，就可以加速晶片設計軟體的國產替代了。其實，在這場灣芯展上，最令隊長震撼的是，中國確實做到了晶片全產業鏈的搭建。從最上游的晶片材料，晶片設計軟體，晶片裝備製造等，再到中游的配套供應商，如特種氣體，清洗工藝等，最後到下游的測試封裝。甚至，隊長還看到了，對晶片製造的“污水處理，廢氣處理”專業環保裝置公司。連晶片製造，也要上環保了。這種全套的晶片產業鏈，放在全球，都是獨一無二的存在。它極度細緻，幾乎每一個環節，都有中國公司。也許不是最強，最先進的，但一個都不缺。這種強大的產業鏈能力，就像造航母一樣，不需要海外的任何一顆螺絲釘，中國也能造出全球一流的晶片。對今天的中國來說，晶片大逆轉，真的就只差光刻機了！一旦光刻機技術突破，中國晶片就真的沒有對手了。 (牲產隊)

10月15日，深圳 —— 在今日開幕的2025灣區半導體產業生態博覽會（簡稱“灣芯展”）上，成立僅三年的深圳市新凱來技術有限公司（簡稱“新凱來”）迎來高光時刻。公司攜旗下多家子公司集體亮相，集中發佈多項具有完全自主智慧財產權的核心產品，涵蓋電子設計自動化（EDA）軟體、高端測試儀器及覆蓋半導體製造全流程的裝備體系，標誌著中國在半導體產業鏈關鍵環節的自主可控處理程序邁出堅實一步。全鏈條佈局：多款半導體裝備集中亮相新凱來在主展台通過模型與影像系統展示了其覆蓋半導體製造多道關鍵工序的裝備矩陣，涵蓋“工藝裝備”與“量檢測裝備”兩大系列：薄膜裝置：PVD（普陀山）、CVD（長白山）、ALD（阿里山）擴散裝備：RTP（三清山）、EPI（峨眉山）刻蝕裝置：ETCH（武夷山）光學檢測：BFI岳麗山、DFI丹霞山、PC蓬萊山、MBI莫干山光學量測：天門山IBO、天門山DBO物理與X射線測量：沂蒙山AFM、赤壁山-XP（XPS）、赤壁山-XD（XRD）、赤壁山-XF（XRF）此次集中展示，是繼2025年上半年新凱來一次性演示30餘款裝置後的又一次全面亮相，彰顯其產品體系的快速成熟與產業化落地能力。自主EDA破局：啟雲方發佈兩款國產設計軟體新凱來旗下專注於工業軟體研發的子公司——啟雲方（成立於2023年7月），正式發佈兩款擁有完全自主智慧財產權的國產EDA（電子設計自動化）軟體。這是國內少有的在電子電路設計關鍵指標上達到業界一流水平的全流程設計工具。據現場介紹，該系列軟體性能較行業標竿提升30%，可縮短硬體開發周期達40%。其核心優勢在於支援多人平行協同設計、即時線上檢視開發進度，並通過智能輔助功能將設計“一版成功率”提升30%，顯著降低研發成本與迭代周期。“這不僅是技術的突破，更是生態的建構。”啟雲方負責人表示，軟體聚焦解決國內製造業在高端晶片和複雜系統設計中的“卡脖子”問題，致力於打造安全可控的國產工業軟體底座。此前，深圳市發展改革委主任郭子平在灣芯展新聞發佈會上就預告，新凱來及其子公司將帶來“意想不到的驚喜”，此次發佈印證了深圳對本土核心技術企業的戰略佈局與堅定支援。萬里眼發佈中國最強90GHz示波器，打破西方封鎖同日，新凱來旗下高端測試儀器品牌“萬里眼”正式推出中國首款、全球第二款90GHz超高速即時示波器，一舉刷新國產測試裝置性能極限。這款示波器頻寬高達90GHz，採樣率達2000億次/秒，配備40億樣點超大儲存深度，為目前同等級產品中業界最大。其搭載的全新“慧眼架構”使測試效率較傳統裝置提升百倍以上，例如在112G高速介面晶片調優中，僅需10分鐘即可完成。尤為關鍵的是，該裝置成功突破了《瓦森納協定》對華技術封鎖——此前，頻寬超過60GHz的高端示波器被列為管制物項，嚴禁向中國出口。此次發佈意味著中國在高端測試測量領域實現了從“跟跑”到“並跑”甚至“領跑”的跨越。該產品還創新採用18.5英吋全螢幕設計，可視面積提升30%，支援手勢觸控操作，是全球首款全螢幕示波器。憑藉其硬核性能，該裝置已榮獲2025年度中國技術發明一等獎，並可支撐3-5nm先進製程晶片、6G通訊、量子計算等前沿科技的研發與驗證，被業界譽為樹立起中國科技的“新標尺”。不是華為勝似華為，加速國產替代建構自主生態新凱來不是華為的子公司，但它承載了華為在半導體裝置領域的技術遺產與戰略使命。它是深圳國資在關鍵時刻“接棒”華為、延續科技火種的產物，是中國應對全球技術封鎖的“第二戰場”。技術與團隊：源自華為“星光工程部” 多方資訊（包括媒體報導、行業分析及知情人士透露）指出，新凱來的核心技術和創始團隊來源於華為2012實驗室旗下的“星光工程事業部”。 該部門是華為在面臨美國晶片封鎖背景下，秘密啟動的半導體裝置自主研發項目，專注於精密裝備、光刻、刻蝕等關鍵技術研發，匯聚了大量頂尖技術專家。 2022年左右，在外部壓力下，華為將該部門整體剝離，並由深圳國資接手重組，形成了今天的“新凱來”。這一過程被外界類比為“榮耀模式”——即技術團隊獨立營運，規避制裁風險，同時保留技術火種。業務定位：上下游協同，而非競爭 華為：聚焦於晶片設計（如麒麟系列）、終端產品和系統生態（鴻蒙），屬於產業鏈上游。 新凱來：專注於半導體製造裝置的研發與生產，如刻蝕機、薄膜沉積裝置、量檢測裝置等，服務於中芯國際、長江儲存等晶圓廠，屬於產業鏈中游。 兩者並非競爭對手，而是潛在的生態協同夥伴。華為的晶片製造需求可以推動國產裝置廠商（如新凱來）的技術迭代，共同建構“設計-製造-裝置”自主可控的產業鏈閉環。文化與戰略：一脈相承 新凱來以中國名山命名裝置（如“武夷山”刻蝕機、“阿里山”沉積裝置），延續了華為以中華元素命名產品的文化風格。 其高強度研發投入、突破“卡脖子”技術的使命，也與華為“備胎計畫”和自主創新精神高度一致。未來，隨著國產28nm、14nm甚至更先進製程的持續推進，新凱來這樣的裝置企業將成為真正的“幕後英雄”。而它與華為之間若即若離、協同共進的關係，也將成為中國科技自主創新道路上一段值得銘記的篇章。 (大話晶片)