中美高科技博弈的火焰,已直接燒向全球半導體裝置領域的“皇冠明珠”。據彭博社報導,美國商務部長霍華德·盧特尼克已在多次會面中,直接向荷蘭光刻機巨頭ASML高層表達強烈擔憂,懷疑該公司一款最尖端的極紫外(EUV)光刻機可能已違反出口管制,流入中國。這一指控將ASML置於“危機模式”,也令本已脆弱的美歐關係面臨新的壓力。
據知情人士透露,盧特尼克早在今年4月的一場會議中,就當面向ASML首席執行長克里斯托夫·富凱等高管提出了對EUV光刻機可能已進入中國的擔憂。EUV系統是台積電等晶圓代工廠為輝達、蘋果製造尖端處理器的核心裝置,自川普第一任期起,美國就已禁止ASML向中國出口此類裝置。然而,這場緊張的閉門會議在公開層面卻被刻意淡化。會後,盧特尼克與富凱均在其LinkedIn上以正面措辭形容會面,對EUV爭議隻字不提。
面對美方的嚴厲質疑,ASML隨即全力投入一場“證實一件不存在的事”的行動。公司在聲明中明確表示:“ASML從未向中國發運過EUV光刻機,也未向中國發運過任何專門設計用於EUV機器的元件、模組或裝置。”ASML列舉了多項技術理由來反駁美方質疑:目前全球共有314台EUV光刻機在運行,另有26台已退役,中國大陸境內的數量是“零”;每台EUV光刻機體積如同一輛校巴,重約180噸,且為限量生產;裝置需要ASML員工進行持續維護,系統能自動檢測任何中斷或異常行為;由於特殊操作規程,客戶“未經ASML參與,無法拆卸、運輸和重新安置EUV”。ASML首席執行長富凱在更早的採訪中也強調,公司已建立內部防火牆,能接觸EUV技術的員工與中國員工完全隔離,並指出逆向工程一台從未擁有過的機器幾乎不可能。
然而,美方官員聲稱他們掌握“敏感證據”,顯示ASML正向中國出口專門用於運輸EUV機器的特製裝置及相關零部件。但當媒體多次要求美方提供出貨證據時,官員均以涉及敏感情報源為由拒絕。美國商務部也未回應其是否掌握EUV系統已在中國境內的實質證據。彭博報導指出,ASML私下已進入“危機模式”,並起草了一份題為“無跡象表明中國境記憶體在任何ASML EUV”的檔案在華盛頓傳閱。
此次施壓發生在一個微妙的背景之下。就在報導刊出前不久,美國商務部依據《晶片與科學法案》,敲定向初創公司xLight提供1.5億美元的聯邦激勵資金。xLight正在開發一種新型EUV光源技術,被外界視為對ASML EUV壟斷的長期挑戰。儘管xLight自稱是未來的合作夥伴而非對手,但美國政府扶持其潛在競爭者,同時加大對ASML的施壓,其間的關聯引發業界廣泛猜測。與此同時,美國國會正在推動的《硬體技術控制多邊協同法案》(MATCH法案),更尋求在EUV禁售的基礎上,進一步將對華限制擴大到ASML的深紫外(DUV)光刻機。荷蘭政府已對上述法案表示反對。
ASML發言人稱,公司理解出口管製法規背後的國家安全考量,並完全致力於遵守所有適用的法規。荷蘭外交部發言人亦回應稱,荷蘭“極其嚴格”地執行出口限制。目前,這場圍繞“是否存在一台EUV光刻機”的羅生門,仍在繼續發酵。 (晶片行業)
