事關EUV光刻機,ASML否認

晶片裝置製造商艾斯摩爾周五表示,從未向中國運送過極紫外(EUV)光刻機。此前有報導稱,美國官員擔心該公司最先進的裝置之一可能已經流入中國。

“ASML從未向中國運送過EUV光刻機,也從未向中國運送過任何專門設計用於EUV光刻機的元件、模組或裝置,”這家晶片製造商在發給路透社的電子郵件聲明中表示。

彭博新聞早前報導稱,美國商務部長霍華德·盧特尼克曾表示擔憂,ASML 的極紫外光刻(EUV)裝置可能違反美國主導的出口限制流入中國。

報告還指出,盧特尼克在一系列會議上向這家荷蘭公司的高層領導表達了這些擔憂。

ASML表示,已駁斥有關其不遵守中國出口管制規定的指控,並補充說,該公司“一直根據出口管制的任何發展情況調整其業務,以遵守任何新規定”。

ASML 最先進的 EUV 系統體積與校車相仿,重量達 180 噸。

荷蘭外交部在一份電子郵件聲明中表示:“在半導體製造裝置的出口方面,荷蘭遵循明確的規則和控制清單,這些規則和清單以歐洲兩用物項條例和額外的國家措施為基礎。”

該部表示,“所有明確屬於這些規則範圍內的裝置、元件和技術都需要許可證”,並補充說,該部將非常嚴格地執行這項政策,“並在必要時進行干預”。

路透社聯絡美國商務部和白宮時,由於時間已過,未能立即就此事發表評論。

今年 4 月,華盛頓提出一項法律,要求美國盟友遵守其出口管制措施,以遏制中國製造先進半導體的能力,該法案中點名了 ASML 生產的裝置。 (半導體芯聞)