據英國《金融時報》9月8日報導，華為正以遠超外界預期的深度介入中國國產光刻機的研發與產業化處理程序。報導援引多位知情人士稱，華為不僅在對相關裝置和零部件公司進行戰略投資，更在協調供應商、晶圓代工廠與整機製造商，推動國產深紫外（DUV）光刻機進入實際產線。伯恩斯坦分析師將華為形容為中國DUV項目的“項目管理者”。
在這一國產光刻機攻關計畫中，進展最快的是總部位於上海的宇量昇。該公司參與開發的國產先進DUV光刻裝置，目前已在中芯國際（SMIC）等晶圓廠以及華為自己的產線上進行測試。據FT報導，宇量昇計畫在2026年底前生產12台DUV光刻機。現階段，這些裝置主要用於較簡單的晶片製造，並在持續進行工程最佳化與可靠性驗證。
國產光刻機仍依賴蔡司鏡頭，供應鏈自主尚需時日
然而，國產DUV光刻機目前尚未完全擺脫對海外供應鏈的依賴。據FT報導，宇量昇的裝置仍使用德國蔡司（Zeiss）的投影鏡頭。蔡司方面對FT表示，其光刻光學元件僅銷售給ASML。業內人士推測，這些鏡頭可能通過中國境內的二級市場購得，但具體供應路徑尚未得到證實。
為補齊這一短板，華為已通過其投資平台哈勃科技及深圳市遠致星火基金進行戰略佈局。在投影鏡頭領域，哈勃和遠致星火共同投資了福建至期光子，這家公司正致力於研發可替代蔡司的超精密光學元件。在光源領域，哈勃投資了北京科益虹源，該公司專注於光刻機光源的研發與製造。
從測試到量產仍需數年，ASML主導地位短期難撼
值得注意的是，國產DUV裝置從測試到真正具備大規模量產能力，仍需經歷漫長的驗證周期。FT報導指出，中國晶圓廠目前仍依賴ASML的裝置，國產光刻機要達到與ASML相當的性能水平，“還需要數年時間”。
分析人士指出，華為此次以“項目管理者”身份深度介入國產光刻機產業鏈，標誌著中國在應對外部技術封鎖的路徑上正在發生轉變——從單一的晶片設計突破，轉向覆蓋裝置、材料、零部件和系統整合的全鏈條協同攻關。儘管國產DUV光刻機在短期內的產量和性能仍無法撼動ASML的壟斷地位，但華為的這一角色轉變，正在為中國半導體裝置國產化注入新的變數。 (晶片行業)