ASML解釋荷蘭最新出口管制：並非所有浸潤式DUV設備都受限

當地時間週五（6月30日），荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規定，這些規定將於9月1日生效。

具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片製造設備的公司在出口之前須獲得許可證。

荷蘭外貿與發展合作大臣莉謝·施賴納馬赫爾表示，只有非常有限的公司和產品型號會受到影響。

儘管荷蘭政府並未直接點出會受到限制的公司，但外界都明白這是在限制光刻機巨頭阿斯麥（ASML）。

荷蘭政府的消息傳出之後，阿斯麥在其官網發表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統（即TWINSCAN NXT:2000i及後續浸潤式系統）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而荷蘭政府將決定是否批准或拒絕所需的出口許可證，並就任何適用的條件向阿斯麥提供進一步的細節。

阿斯麥強調，該公司的EUV系統的銷售此前已經受到限制。

阿斯麥同時表示，預計上述措施不會對其2023年財務前景或2022年11月投資者日期間傳達的長期情景產生重大影響。

有一款浸潤式DUV光刻機並不受限

近年來，美國在對華政策上實行脅迫外交，多次施壓其盟國限制如光刻機等高科技產品等出口。

自2018年以來，在美國的壓力之下，荷蘭政府一直禁止阿斯麥向中國出口其最先進的極紫外線光刻機（EUV），但仍可以銷售上一代的深紫外線光刻機（DUV）。然而，美國近階段又希望進一步打壓中國芯片行業，將DUV也納入禁售範圍。

荷蘭政府早在3月就表示，考慮把光刻機的出口管制範圍擴大到DUV。

根據阿斯麥官網提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

阿斯麥3月曾表示，預計2000i和2050i這兩款產品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應來看，TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式DUV光刻機並不在限制範圍內。

根據官網介紹，TWINSCAN NXT:1980Di的分辨率可以達到≤38nm，每小時可以至少生產275片晶圓。

在實際生產和使用中，通過多重曝光，TWINSCAN NXT:1980Di依然可以支持到7nm左右的工藝生產，當然相比於更先進的光刻機型號，其在生產先進工藝時的步驟將更為複雜，成本將更高，良率可能也會有損失。

全球晶圓廠在使用1980Di光刻機型號時，大多是生產14nm及以上工藝的芯片，很少去生產14nm以下的工藝。但可以肯定的是，用這一台TWINSCAN NXT：1980Di光刻機，生產28nm、14nm仍能完全滿足需要。這預示著目前就已大量採用NXT:1980Di進行成熟製程製造的晶圓廠將不會受到明顯影響，但在先進工藝方面，可能難以完全滿足需求。

中國外交部回應

在6月30日舉行的中國外交部例行記者會上，外交部發言人毛寧在回應記者相關提問時表示，中方堅決反對美方泛化國家安全概念，濫用出口管制，以各種藉口拉攏脅迫其他國家對華搞科技封鎖，以行政手段干預企業之間的正常經貿往來，嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，衝擊全球產供鏈的穩定，不符合任何一方的利益。（TMT時報）