臨近年關,最近關於中國國產光刻機即將突破28nm的消息又開始甚囂塵上,好像去年也是如此。這反映的是大家期待國產光刻機盡快突破的殷切期望,但目前確實沒有任何確切的證據表明唯一的國產光刻機整機廠商——上海微電子即將推出28nm光刻機。
與其期待光刻機突破,不如看看目前有哪些技術可以取代光刻技術的。我們知道半導體製程的發展從上個世紀60年開始就基本上遵循「摩爾定律」的路徑,現在國際主流晶片大廠如高通、蘋果、聯發科、英偉達等都已經邁進了3nm製程,2024年將會大規模商用。3nm應用詳細可見飆叔小文:2024年3nm晶片將成主流,國產晶片差距越拉越大?
但接下來半導體製程繼續發展,是不是很快就達到了物理極限了?摩爾定律是否會失效呢?這些都是整個半導體產業不可迴避的問題了。
而要回答這個問題,繼續依賴現有工藝和路徑可能很快就會碰到天花板了。那就唯有換一條賽道了。