外延收購，加速擴張。中國刻蝕機之父，籌劃一樁交易。12月19日，尹志堯掌舵的中微公司稱，擬發行股份，購買“杭州眾硅”控股權。其行動迅速，已與標的股東杭州眾芯硅工貿、上海寧容海川等簽署《購買資產意向協議》。作為買方，中微頭頂技術光環，產業資源豐富。其董事長尹志堯，為頂尖半導體專家，60歲時創辦中微，專注研發刻蝕裝置。經過21年的攻堅，他帶出一家市值超1700億元的晶片裝置龍頭，且6年來已投資30多家產業鏈標的。此次，尹志堯即將再下一城，沿著“平台化”路徑狂奔。“此次籌劃收購，絕非簡單的規模擴張，而是中微基於行業發展規律和自身階段作出的審慎決策。”芯謀研究首席分析師顧文軍向《21CBR》記者解釋。老驥伏櫪現年81歲的尹志堯，長期奔波在一線，幹勁十足。4月，他撰寫《董事長致詞》，強調中微的目標，是成為“國際一流半導體裝置公司”，並給團隊打氣，稱“目標一定能實現”。其精神矍鑠，今年以來，多次帶著管理層，接待投資機構，規劃未來。“我們計畫，通過外延收購和內生研發的方式，覆蓋超六成的半導體前道裝置品類。”管理層5月指出，對收購機會，中微保持積極且開放的態度。中微併購經驗豐富。尹志堯曾列出一組資料，上市以來，公司投資了30多家產業鏈上下游企業，斥資20多億，浮盈50多億，實現良好的經濟效益和戰略協同效果；參股的8家企業，已在A股上市。臨近年底，中微再度出手。其看中的杭州眾硅，成立於2018年，早就躋身“獨角獸”之列，擅長製造高端CMP（化學機械平坦化拋光）裝置。CMP屬於晶片製造的前道工序，可以理解為“拋光打磨”技術，即把晶片壓在旋轉的拋光墊上，一邊靠細小磨料做物理研磨，一邊靠化學試劑腐蝕晶片表面，共同將表面磨平整。杭州眾硅的裝置，已獲客戶認可，陸續中標上海新微、雲南創視界光電科技的訂單，還被評為杭州士蘭集昕的優秀供應商。值得注意的是，中微本就是其第二大股東，持股12%；尹志堯本人還於9月，進入杭州眾硅管理層，擔任董事。當前，半導體產業整合更注重戰略協同與技術補強，而非單純的資本擴張“中微此次籌劃收購，是經過長期觀察、先期戰略投資後的穩步推進，核心目的在於‘補全’與‘強化’。”顧文軍告訴記者，杭州眾硅主攻濕法工藝，在技術上具有稀缺性和互補性。“交易價格將以資產評估報告為基礎，經各方協商確定。”公告補充，僅達成初步意向。尹志堯團隊將在簽署正式協議後，發佈詳細方案。劍指平台尹志堯是中微的靈魂人物，履歷豐富。他是北京人，本科畢業於中科大，後拿到加州洛杉磯分校博士學位。40歲那年，他作為第一個中國留學生加入英特爾，二十年後，毅然放棄百萬年薪，帶領十五位同仁飛抵上海浦東，開啟創業。《21CBR》記者注意到，2024年財報顯示，尹志堯已放棄美國國籍，恢復中國籍。這位“發明家創始人”，正帶領中微衝刺新目標。他計畫用五至十年，逐步覆蓋半導體高端裝置的50%-60%，推動中微儘早轉型高端裝置平台化公司。到2035年，中微要進入全球半導體裝置第一梯隊。10月底，尹志堯提到，中微擁有三十多種裝置，覆蓋半導體高端裝置的25%-30%。結合處理程序來看，若達成目標，他將實現“再造一個中微”。加緊趕路，尹一手抓併購，一手抓研發。目前，中微的在研項目涵蓋六類裝置，同時開發超二十款新裝置，速度顯著加快。過去，其通常需要3-5年開發一款新裝置，現只需兩年或更短時間完成新品開發，並迅速量產。官方稱，未來數年，將加速、大規模推出多種新品。走向平台化，其重要的產品抓手，在於薄膜沉積裝置。2025年9月，尹志堯一口氣發佈6款新品，其中有四款是薄膜沉積裝置。1-9月，其薄膜裝置收入，體量已有4個多億，同比增速高達13倍。這塊業務，於2010年開始佈局，近兩年開發的新產品——LPCVD和ALD薄膜裝置，已進入市場，並獲得重複性訂單。按計畫，中微未來要開發約40種導體薄膜裝置，覆蓋全部類別的先進金屬應用。“我們很快將會把國際對國內禁運的20多種薄膜裝置開發完成，預計到2029年，完成所有開發。”尹志堯5月表示。提速擴張尹志堯圍繞平台化的大干快上，在於裝置生意迎來好周期。晶片製造，離不開“三劍客”，光刻機、刻蝕機、薄膜沉積裝置。打個比方，光刻機是打草稿的“畫筆”，刻蝕機是“雕刻刀”，薄膜沉積裝置則是給晶圓貼材料的“油漆刷”。微觀器件越做越小，結構從2D轉到3D，帶來刻蝕跟薄膜的應用總量跟步驟數，大幅增加。市場對這兩類裝置的需求量大增，這是中微業績強勁增長的底層動力。從規模來看，刻蝕裝置仍是主力，貢獻超75%收入。尹志堯主導下，中微已開發3代、18款刻蝕機，持續鞏固基本盤。其電漿體刻蝕已批次出貨給國記憶體儲、邏輯等客戶產線，截至2025年上半年，CCP刻蝕裝置累計裝機量超4500個反應台，ICP刻蝕裝置累計裝機量超1200個反應台。目前，業內量產所用刻蝕機的深寬比在60:1，尹志堯團隊正在突破90到100:1的深孔刻蝕。擴大產品覆蓋面的同時，尹志堯加緊提高產能。南昌生產研發基地、上海臨港生產研發基地，均已投入使用，產能大幅提升；上海臨港滴水湖畔，佔地約10萬平方米的總部大樓暨研發中心，也在順利建設。這三塊基地，合計新增總面積將達42萬平方米，較2022年，新增15倍。為確保今後十年有足夠的廠房，保障新品研發和產能高速增長，中微規劃，在廣州增城區及成都高新區，落地新生產基地，且已開工。擴地，也增員。截至6月底，中微員工大幅增至2638人。管理層預計，2025年也將保持穩定的人員增速。投人投錢，外部併購、自主研發雙線平行，這位半導體專家期待抓住機遇，再一次突圍。 (半導體產業縱橫)

外延收購，加速擴張。中國蝕刻機之父，籌劃一樁交易。12月19日，尹志堯掌舵的中微公司稱，擬發行股份，購買「杭州眾矽」控股權。其行動迅速，已與標的股東杭州眾芯矽工貿、上海寧容海川等簽署《購買資產意圖協議》。作為買方，中微頭頂科技光環，產業資源豐富。其董事長尹志堯，為頂尖半導體專家，60歲時創辦中微，專注於研發刻蝕設備。經過21年的攻堅，他帶出一家市值超1700億元的晶片設備龍頭，6年來已投資30多家產業鏈標的。這次，尹志堯即將再下一城，沿著「平台化」路徑狂奔。「此次規劃收購，絕非簡單的規模擴張，而是中微基於產業發展規律和自身階段作出的審慎決策。」芯謀研究首席分析師顧文軍向《21CBR》記者解釋。老驥伏櫪現年81歲的尹志堯，長期奔波在一線，幹勁十足。4月，他撰寫《董事長致詞》，強調中微的目標，是成為“國際一流半導體設備公司”，並給團隊打氣，稱“目標一定能實現”。其精神矍鑠，今年以來，多次帶著管理階層，接待投資機構，規劃未來。中微董事長尹志堯「我們計劃，透過外延收購和內生研發的方式，涵蓋超六成的半導體前道設備品類。」管理層5月指出，對收購機會，中微保持積極且開放的態度。中微併購經驗豐富。尹志堯曾列出一組數據，上市以來，公司投資了30多家產業鏈上下游企業，斥資20多億，浮盈50多億，實現良好的經濟效益和戰略協同效果；參股的8家企業，已在A股上市。接近年底，中微再度出手。其看中的杭州眾矽，成立於2018年，早就躋身「獨角獸」之列，擅長製造高階CMP（化學機械平坦化拋光）設備。CMP屬於晶片製造的前道工序，可以理解為「拋光打磨」技術，即把晶片壓在旋轉的拋光墊上，一邊靠細小磨料做物理研磨，一邊靠化學試劑腐蝕晶片表面，共同將表面磨平整。杭州眾矽的設備，已獲客戶認可，陸續中標上海新微、雲南創視界光電科技的訂單，也被評為杭州士蘭集昕的優秀供應商。值得注意的是，中微本就是其第二大股東，持股12%；尹志堯本人還於9月，進入杭州眾矽管理層，擔任董事。目前，半導體產業整合更注重策略協同與技術補強，而非單純的資本擴張。“中微此次籌劃收購，是經過長期觀察、先期戰略投資後的穩步推進，核心目的在於'補全'與'強化'。”顧文軍告訴記者，杭州眾矽主攻濕法工藝，在技術上具有稀缺性和互補性。「交易價格將以資產評估報告為基礎，經各方協商確定。」公告補充，僅達成初步意向。尹志堯團隊將在簽署正式協議後，發布詳細方案。劍指平台尹志堯是中微的靈魂人物，履歷豐富。他是北京人，本科畢業於中科大，後來拿到加州洛杉磯分校博士學位。40歲那年，他以第一個中國留學生加入英特爾，二十年後，毅然放棄百萬年薪，帶領十五位同仁飛抵上海浦東，開啟創業。《21CBR》記者註意到，2024年財報顯示，尹志堯已放棄美國國籍，恢復中國籍。這位“發明家創始人”，正帶領中微衝刺新目標。他計劃用五至十年，逐步涵蓋半導體高階設備的50%-60%，推動中微儘早轉型高階設備平台化公司。到2035年，中微要進入全球半導體設備第一梯隊。10月底，尹志堯提到，中微擁有三十多種設備，涵蓋半導體高階設備的25%-30%。結合進程來看，若達成目標，他將實現「再造一個中微」。加緊趕路，尹一手抓併購，一手抓研發。目前，中微的在研項目涵蓋六類設備，同時開發超二十款新設備，速度顯著加快。過去，其通常需要3-5年開發一款新設備，現只需兩年或更短時間完成新品開發，並迅速量產。官方稱，未來數年，將加速、大規模推出多種新品。走向平台化，其重要的產品抓手，在於薄膜沉積設備。2025年9月，尹志堯一口氣發表6款新品，其中有四款是薄膜沉積設備。1-9月，其薄膜設備收入，體量已有4個多億，較去年成長高達13倍。這塊業務，於2010年開始佈局，近兩年開發的新產品——LPCVD和ALD薄膜設備，已進入市場，並獲得重複性訂單。按計劃，中微未來要開發約40種導體薄膜設備，涵蓋全部類別的先進金屬應用。「我們很快就會把國際對國內禁運的20多種薄膜設備開發完成，預計到2029年，完成所有開發。」尹志堯5月表示。提速擴張尹志堯圍繞平台化的大干快上，在於設備生意迎來好周期。晶片製造，離不開“三劍客”，光刻機、蝕刻機、薄膜沉積設備。打個比方，光刻機是打草稿的“畫筆”，蝕刻機是“雕刻刀”，薄膜沉積設備則是給晶圓貼材料的“油漆刷”。微觀元件越做越小，結構從2D轉到3D，帶來刻蝕跟薄膜的應用總量跟步驟數，大幅增加。市場對這兩類設備的需求量大增，這是中微業績強勁成長的底層動力。從規模來看，蝕刻設備仍是主力，貢獻超75%收入。尹志堯主導下，中微已開發3代、18款蝕刻機，持續鞏固基本盤。其等離子蝕刻已批次出貨給國內儲存、邏輯等客戶產線，截至2025年上半年，CCP蝕刻設備累積裝機量超4500個反應台，ICP蝕刻設備累計裝機量超1200個反應台。目前，業界量產所用蝕刻機的深寬比在60:1，尹志堯團隊正在突破90到100:1的深孔蝕刻。擴大產品覆蓋面的同時，尹志堯加緊提高產能。南昌生產研發基地、上海臨港生產研發基地，均已投入使用，產能大幅提升；上海臨港滴水湖畔，佔地約10萬平方公尺的總部大樓暨研發中心，也順利興建中。這三塊基地，合計新增總面積將達42萬平方米，較2022年，新增15倍。為確保今後十年有足夠的廠房，保障新品研發及產能高速成長，中微規劃，在廣州增城區及成都高新區，落地新生產基地，且已開工。擴地，也增員。截至6月底，中微員工大幅增至2,638人。管理階層預計，2025年也將維持穩定的人員成長速度。投人投錢，外部併購、自主研發雙線並行，這位半導體專家期待抓住機遇，再一次突圍。 (21世紀商業評論）

中微覆蓋60%半導體高端裝置！5 月 27 日，中微公司在上海臨港召開業績說明會，其 2024 年 LPCVD 裝置實現首台銷售，多款薄膜裝置進入市場並獲重複訂單。董事長尹志堯稱，目前薄膜裝置收入體量不大，但三到五年內將快速增長。過去中微研發投入側重刻蝕，近年薄膜裝置研發投入增加。公司未來五到十年計畫覆蓋 60% 以上半導體高端裝置，成為平台式集團公司。一、戰略領航，三維佈局建構產業生態在 5 月 27 日召開的 2024 年度暨 2025 年第一季度業績說明會上，中微公司董事長、總經理尹志堯明確指出，公司將堅定踐行三維發展戰略。“深耕積體電路關鍵裝置領域、擴展在泛半導體關鍵裝置領域應用並探索其他新興領域的機會，推進公司實現高速、穩定、安全、健康發展。”在積體電路方面，中微公司的電漿體刻蝕裝置已成功打入國內外一線客戶的生產線，廣泛應用於 65 奈米到 5 奈米及更先進工藝，成為支撐積體電路製造的關鍵力量。在泛半導體領域，其製造氮化鎵基發光二極體、Mini-LED 和 Micro-LED 的 MOCVD 裝置，以及製造碳化矽和氮化鎵功率器件的 MOCVD 裝置，均已在市場中佔據重要地位。並且，公司還前瞻性地佈局光學和電子束量檢測裝置等新興領域，不斷拓寬業務邊界。為強化產業協同，中微公司自上市以來，斥資 20 多億元投資約 40 家產業鏈上下游企業，不僅收穫了超 50 億元的浮盈，更在產業協同上成果顯著，其中 8 家參股公司已成功登陸 A 股，實現互利共贏。二、研發提速，18個月可完成新產品研發談及研發效率的提升，尹志堯感慨道：“經過 20 多年的努力，公司已組建了超過千人的研發團隊，並且十分全面。十年前，我們一般需要三到五年開發一個新產品，然後再花兩年時間進入市場。比如，MOCVD 從 2010 年開始研發，2017 年才進入市場。而現在，我們只需要大約 18 個月，最多兩年就能完成新品研發，半年到一年就可以量產並進入市場。”研發投入也在持續攀升。2024 年，公司研發總投入達 24.52 億元，同比增長 94.31%，佔營收比例約為 27%。今年一季度，研發投入同比增長 90.53%，達到 6.87 億元。目前，公司有超 20 款新裝置正在研發，涵蓋新一代高能 CCP 電漿體刻蝕裝置、ICP 低能電漿體刻蝕裝置、晶圓邊緣刻蝕裝置，以及新一代電漿體源的 PECVD 裝置、LPCVD 及 ALD 等薄膜裝置、外延 EPI 裝置和電子束量檢測裝置等，全方位覆蓋半導體裝置核心領域。三、業務精進，刻蝕穩固薄膜崛起中微公司的刻蝕裝置無疑是其核心競爭力所在。尹志堯介紹，公司開發的 CCP 高能電漿體和 ICP 低能電漿體刻蝕兩大類，十幾種細分刻蝕裝置已可覆蓋大多數刻蝕應用，刻蝕裝置收入持續高增長。2024 年刻蝕裝置收入約 72.77 億元，在最近四年收入年均增長超過 50% 的基礎上，2024 年又同比增長約 54.72% 。在薄膜裝置領域，儘管當前收入體量相對較小，但發展勢頭迅猛。尹志堯稱：“目前，薄膜裝置相關的收入體量還不大，但是公司已經在全面佈局並加速開發更多產品。我相信三到五年內，薄膜裝置收入將快速增長。”2024 年，中微公司 LPCVD 實現首台銷售，全年裝置銷售額約 1.56 億元，且 LPCVD 薄膜裝置累計出貨量已突破 150 個反應台，ALD 等薄膜裝置也已進入市場並獲得重要客戶的重複性訂單，未來潛力巨大。四、行業洞察，國產替代機遇無限面對行業競爭與前景，尹志堯有著清晰的認知：“我們非常歡迎競爭，也會與同行互相學習。中微的策略是專注於開發具有差異化、自主智慧財產權的高端裝置產品。比如，國內目前除了光刻機之外，硬體最難攻克的是電子束檢測裝置，晶片越做越小，量檢測裝置重要性越來越高，中微要承擔這樣的社會責任，去補齊這塊短板。”他進一步分析行業前景時提到：“目前國內半導體裝置市場主要由海外企業所佔據，但近年來中國裝置行業技術水平不斷提高，國產裝置在產品性價比、售後服務、貼近客戶等方面的優勢逐漸顯現，半導體裝置國產化在進一步提速。作為全球最大的半導體消費市場，市場需求帶動全球產能中心逐步向中國內地轉移，為裝置行業的發展提供了機遇。”尹志堯滿懷信心地表示：“國內半導體裝置公司比較成熟的有 30 多家，其中十幾家已上市。按國際經驗，很多半導體細分行業會形成兩三家頭部公司。我們不僅有信心成為國內領先的公司，還會對標國際競爭對手。中微的長期願景是，到 2035 年，在規模、產品、競爭力和客戶滿意度上，成為全球第一梯隊的半導體裝置公司。” 中微公司正憑藉堅定的戰略、強大的研發、多元的業務以及對行業的精準洞察，穩步邁向全球半導體裝置產業巔峰。 (芯榜)

5月6日消息，中微公司發佈公告，公司董事長、總經理尹志堯將減持公司股份，此次套現金額約合5271.28萬元，迄今累計套現約2.89億元！據報導，中微公司表示，公司於近日收到尹志堯、陳偉文分別出具的《減持意向書》，因個人資金需求，上述減持主體計畫自本公告披露之日起15個交易日後的3個月內，在符合法律法規規定的減持前提下，通過集中競價等方式減持公司股份。按照公告前一交易日中微公司收盤價188.26元測算，中微公司董事長、總經理尹志堯此次套現金額約合5271.28萬元。尹志堯從2022年8月起，第一次減持中微公司股份，迄今累計減持股票187.08萬股，累計套現約2.36億元。疊加本次減持，預計將累計套現2.89億元。截止目前，尹志堯持股數量432.94萬股，佔總股本比例為0.7%。資料顯示，中微半導體裝置(上海)股份有限公司位於上海市浦東新區金橋出口加工區(南區)泰華路188號，成立日期2004年5月31日，上市日期2019年7月22日，公司主營業務涉及高端半導體裝置的研發、生產和銷售。主營業務收入構成為：專用裝置86.17%，備品備件12.84%，其他0.99%。尹志堯從2022年8月17日起，第一次減持中微公司股份，迄今為止，累計減持公司股票187.08萬股，累計套現約2.36億元。最新3條賣出記錄：2024年6月18日，減持6.1萬股，減持套現金額為878.17萬元。本次減持過後，尹志堯持股比例降至0.73%。2024年6月19日，減持6.9萬股，減持套現金額為1001.48萬元。本次減持過後，尹志堯持股比例降至0.71%。2024年8月6日，減持10萬股，減持套現金額為1535.22萬元。本次減持過後，尹志堯持股比例降至0.70%。尹志堯此前減持已套現超2.36億元，疊加本次減持，將累計減持2.89億元。 (國芯網)

全球人才加速湧向東方。近期，81歲的中微公司董事長尹志堯放棄美籍，重新恢復中國國籍的消息，引發業界熱議。這位被譽為"晶片刻蝕機之父"的傳奇人物，曾在美應用材料公司主導多項核心技術突破，卻在花甲之年選擇放棄矽谷千萬年薪，毅然回國投身國產刻蝕機研發事業。與此同時，在當前老美以各種手段圍堵中國背景下，尹志堯的選擇如同一記有力的耳光，狠打了他們臉，也再次向世界宣告了老美所謂的「科技霸權」 只是自毀根基。二十年磨劍終破技術桎梏2004年，時年60歲的尹志堯站在人生十字路口。彼時全球90%的晶片刻蝕機市場被美日三大巨頭（即泛林集團、東京電子、應用材料）壟斷，中國相關產業在關鍵裝置領域完全受制於人。外媒甚至斷言：「再給中方二十年也造不出來」。面對的國際質疑，尹志堯毅然放棄矽谷千萬年薪的退休生活，帶領15人核心團隊返回國內，在上海張江開啟了從零起步的創業旅程。歷經二十載技術攻堅，中微團隊先後突破電漿體源、反應腔體設計等關鍵技術，將3層刻蝕機國產化率從零提升至完全自主可控。這場技術突圍戰不僅迫使美商務部取消相關裝置出口禁令，更在專利訴訟戰中實現"以弱勝強"的逆襲。「晶片戰沒有捷徑，只有死磕。」正是在尹志堯的堅持下，如今中微市值突破千億，750人團隊中誕生超50位億萬富豪，而創始人尹志堯僅保留0.7%的股份，其理想與大義，換回的是中國晶片產業鏈中最關鍵的一塊拼圖。全球智力資源東遷潮湧動尹志堯的恢復國籍，進一步向中國靠攏並非個案。資料顯示，近三年已有超過3,800名華裔科學家選擇回國發展，外籍專家來華數量更以年均15%的速度遞增。如諾貝爾物理學獎得主中村修二加盟中國LED研究院，法國科學院院士熱拉爾·穆魯將實驗室整體遷至深圳……這些頂尖人才的流動軌跡印證著全球科技創新格局的重構。這種人才遷徙潮背後，是中國科技生態的全面升級。 2024年國家研發投入達3.6兆元，佔GDP比重攀升至2.68%。在生物醫藥、新能源等其他關鍵領域，市場應用與基礎研究的良性互動亦在形成。以日本高端健康品牌Bioagen為例，這家叱吒銀座的科技新銳亦計畫將研發中心遷至中國。旗下王牌產品「派絡維pro」近年來亦流入國內市場，備受青睞。且與中國深圳科研人員合作後，進一步創新升級其核心專利Mitolive，實現大幅降價提質，協助更多人緩解老化帶來的疲憊不振、體力流失等症狀。早前，美產同類抗老科技品的售價高達20,000元一克，非頂尖富豪根本無法承擔其開支。然而，在深圳科研團隊的介入下，派絡維pro在保有品質的同時，售價已降至千元區間，受到數十萬國內中高淨值群體青睞。在近三年的京中國促期間，「派絡維pro」幾乎穩坐此類科技品賽道前列，其評論區上萬條留言中，不乏「疲勞感減輕」等積極反饋。與此同時，早前壟斷市場，大肆收割國人的美系早已沒了水花。其地位就像大量人才外流後的美國學界。創新生態重塑產業格局當前全球半導體產業正經歷深刻變革。中國不僅貢獻全球60%的晶片需求，更在裝置材料、設計軟體等關鍵環節持續突破。中微刻蝕機的突圍之路證明，依託人才儲備、市場規模和政策支援的三重優勢，完全能夠建構自主可控的產業生態。這種轉變在基礎科研領域尤為明顯。過去十年間，中國頂尖研究人才總量已超越歐美，在《自然》指數全球科學研究機構TOP100中，中國機構佔據27席。正如《南華早報》評論所言："東方已搭建起創新人才的虹吸通道。"這場靜默的科技革新正在改寫產業規則。從尹志堯二十年如一日的堅守，到跨國企業爭相在華設立研發中心，人才、資本與市場的化學反應持續催生創新動能。在半導體裝置國產化率突破75%的當下，中國科技業正以獨特的發展邏輯，書寫著屬於這個時代的創新敘事。 （環球情報員）

2004年，一位60歲的老人從美國矽谷飛抵上海浦東。 在計程車上，他打趣地讓司機猜猜他多大。 計程車司機打量他後笑道：“您看起來只有38歲！” 老人聞言爽朗大笑：“太好了，以後我就是38歲的人！”

8月2日，中微公司迎來成立20周年紀念日。同日，總投資15億元的中微臨港產業化基地項目正式落成啟用。 中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯致辭中表示，20年前，中微公司從一張白紙開始決心研發高端半導體裝置，為產業需求提供優質高效和低成本的解決方案。“過去的20年是全球數位時代大發展的20年，也是中國積體電路產業急起直追、國產化處理程序加速落地的20年。” 在尹志堯看來，“中微公司抓住了每一次技術更新的機遇，抓住了一次次政策改革的機遇。下一個20年，公司要實現新的跨越。”尹志堯稱，立志將中微公司打造成為“積體電路微觀加工裝置的百年企業”。 中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯博士

絕大部分蝕刻設備零件國產化！ 3月19日，中國半導體設備大廠中微公司董事長、總經理尹志堯在2023年度業績說明會上表示，中微公司絕大部分蝕刻設備的零件已實現國產化，而且在很短的時間內，將全面實現自主可控的基礎。 在目前相關半導體設備及零件進口受限的國際情勢下，相關進口零件的替代已成為中微公司發展的重要議題。 在去年半年報業績說明會上，尹志堯就曾表示，自去年10月美國加強出口管制、旨在切斷中國製造廠與美國先進工具的聯繫後，中國客戶加速採用中微的蝕刻設備。