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美國智庫“技術與中國國家安全中心”(CTS)最新報告披露,中國大陸晶片製造企業已通過利用美國出口管制漏洞,獲得總計343台浸沒式深紫外(DUV)光刻機,並將其投入半導體產業本土化處理程序。報告警告稱,這些裝置雖不及極紫外(EUV)光刻機先進,但足以生產人工智慧晶片,為中國提供了中端替代方案,對美國構成挑戰。 據香港《南華早報》4日報導,CTS報告顯示,截至今年年初,中國大陸擁有的浸沒式DUV光刻機中,約270台為ASML的Twinscan NXT:1980i型號。中國在2024年花費超過130億美元購買了90台NXT:1980i,2025年又增購89台。ASML在全球先進光刻系統市場佔據近乎壟斷地位。 光刻機是晶片製造的核心裝置,利用紫外光在晶圓上刻畫電路,波長越短,能刻畫的電路越精細。EUV光刻機波長更短,可實現超精細製程,但研發難度大、價格高昂。浸沒式DUV則通過在鏡頭與晶圓之間填充水來提升光折射率,從而提高刻畫精度。該技術雖仍落後於EUV,但可用於製造7奈米邏輯晶片和高端記憶體器。 荷蘭政府於2019年應美國要求,禁止ASML向中國出口最先進的EUV光刻機。但對於較老型號,荷蘭在國內反對聲中收回控制權,開始允許NXT:1980i以個案審批方式出口。CTS認為,這正是大量裝置得以進入中國的原因。中國利用這一管制缺口,在購入NXT:1980i後,採用多重曝光技術——通過重疊層次繪製電路——量產華為昇騰AI加速器和先進記憶體器。
美國:中國囤積343台光刻機!