#Rapidus
舉國體制的豪賭:日本晶圓廠劍指2奈米!
全球尖端半導體製造的競爭格局迎來一位雄心勃勃的挑戰者。日本政府支援的晶圓代工企業Rapidus近日向經濟產業省提交的業務計畫顯示,該公司目標在2027年下半年啟動2奈米級晶片的量產,並在投產後的第一年內,將月產能從初期的6000片晶圓迅速提升至約25000片。這一激進擴張計畫,意味著這家新興企業試圖在短短一年內完成通常需要數年才能實現的產能爬坡,直接挑戰台積電、三星和英特爾等行業巨頭的領先地位。根據計畫,生產將在其位於北海道的千歲工廠進行。該工廠的一大特點是整合了前端的晶圓製造與後端的切割、封裝等流程。Rapidus高層表示,將前後端整合於同一設施,有助於簡化生產流程、縮短晶片從設計到交付的周期,特別是在日益重要的晶片粒(Chiplet)整合領域形成差異化競爭力。然而,要實現這一目標,Rapidus必須在技術、工程和供應鏈上面臨多重嚴峻考驗。首先,在2nm這一節點,電晶體結構將從現有的FinFET轉向更為複雜的全環繞柵極(GAA)架構,這本身就增加了製造難度。公司需要安裝並偵錯超過200台涵蓋光刻、刻蝕、沉積等環節的尖端裝置,並實現良率的快速穩定。據京都新聞報導,如何通過先進工藝控制來提升良率,被視為Rapidus面臨的最大難關。在產能從6000片快速擴張至25000片的過程中,良率的些許波動都將被急劇放大,直接衝擊毛利率和客戶信心。為攻克技術難關,Rapidus正積極借助外力,特別是來自人工智慧晶片領導者輝達(NVIDIA)的支援。輝達通用計算工程總經理蒂姆·科斯塔向日本經濟新聞證實,雙方已展開合作。輝達的GPU加速技術正被應用於計算光刻等關鍵製造環節,據稱可將相關計算速度提升數十倍甚至上百倍,這對確保2nm工藝按計畫推進至關重要。Rapidus的激進路線圖,是日本重振本土半導體製造業的國家戰略核心。在失去先進製造能力數十年後,日本正通過大規模資金注入和政策支援,力圖重回產業鏈頂端。但對一家從零起步的合同製造商而言,政府的支援並不能直接換來客戶訂單。要在25000片的月產能水平上維持健康的工廠利用率,Rapidus必須在短期內向潛在的無晶圓廠客戶證明其具備穩定、高良率的交付能力。否則,即使工廠建成,也將面臨巨大的商業化風險。隨著台積電、三星計畫在2025至2027年間量產2nm,英特爾也在力推其18A工藝,Rapidus的計畫無疑將使這一節點的競爭更趨白熱化。它能否在強敵環伺的“毫米波”時代,成功從邊緣切入並站穩腳跟,將是未來幾年全球半導體產業最值得關注的焦點之一。 (晶片行業)
日本將量產2奈米,IPO規劃曝光
2025年11月21日,經濟產業大臣赤澤昭正宣佈,政府計劃向Rapidus投資1,000億日圓。 Rapidus的實施計畫也於同日公佈,計畫於2031財年左右上市。同日,經濟產業省(METI)將Rapidus公司選定為符合《資訊處理促進法》財政支援條件的下一代半導體製造商。此前,產業結構審議會下一代半導體分會審議了Rapidus公司提交的實施計劃,並根據該計劃報告做出了最終決定。根據該計劃,經濟產業省計劃透過資訊科技促進機構(IPA)從2025財年的初始預算中撥出1000億日圓進行初步投資。Rapidus實施計畫概要目標是在2025財年下半年實現2nm製程的量產,之後每2-3年進行新一代製程的量產。在提交給經濟產業省(METI)的實施計劃中,Rapidus概述了其中期計劃,即在2027財年下半年開始量產2nm流程的半導體。該計劃還概述了此後每兩到三年量產最新一代(1.4nm和1.0nm)過程半導體的中期路線圖。此外,Rapidus還提出了在2029財年左右實現正經營現金流、在2031財年左右實現正自由現金流以及在2031財年左右上市的目標。Rapidus投資計劃/籌資計劃在技​​術研發方面,公司計劃透過單晶圓加工和新型傳輸系統等差異化技術,縮短原型製作和改進所需的時間,力爭在2027財年下半年開始2nm製程量產時,「將電晶體性能和良率提升至足以憑藉晶片品質和成本競爭力吸引客戶的水平」。同時,公司也將全力推動1.4nm製程的研發工作。在後處理方面,公司計劃於2025財年與國際組織合作,開設一條試點生產線,並建立相應的生產技術。Rapidus目前的技術基礎與未來技術發展客戶獲取方面還有很大的進步空間關於客戶獲取,該公司解釋說“客戶獲取空間巨大”,並指出預計到2030財年,全球2奈米半導體市場的供應將比需求缺口約10%至30%。該公司首先的目標是爭取來自為人工智慧資料中心設計客製化半導體的無晶圓廠公司的訂單,然後計劃擴大國內外緣設備(汽車、機器人等)的供應。客戶獲取計劃(半導體產業觀察)