01 前沿導讀《日經亞洲》媒體此前發佈討論稱：儘管美國多次拉攏日本企業，要求其對中國晶片產業實施制裁限制，但是日本企業卻不願意放棄與中國市場的合作。日本的尼康、佳能曾經是光刻機領域的霸主，但是美國投入大量資金將ASML扶持了出來，壓制了日本光刻機的市場空間。而現在中國市場對於光刻機技術的需求強盛，日本企業能否通過與中國企業合作，在光刻機領域壓制美國扶持的ASML？02 技術競爭在20世紀80年代到90年代左右，日本的光刻機技術領先全球，尼康憑藉出色的光學技術和精密製造能力，佔據全球光刻機市場超過5成的市場份額。1984年，日本光刻機的市場規模超過了美國。在全年出售的1100多台光刻機中，絕大部分都是日本尼康或者美國GCA製造的產品，其中有600多台都是日本晶圓廠購買的產品。在這個時期，日本晶片製造商購買的光刻機數量，比全球範圍內其他國家加起來的數量還多，90%都是從尼康購買的產品。日本企業依靠本土光刻機的優勢，開始大批次製造DRAM儲存晶片。這些晶片的性能優異、穩定性強，而且價格實惠、產能富足，在短短幾年內就侵佔了美國的消費市場。依靠儲存器技術發家的英特爾，也在這個時期宣佈退出儲存器業務，放棄與日本企業競爭，轉型微處理器。日本企業的擴張，引起了美國政府的高度重視。美國宣佈對日本企業實施反壟斷調查，並且對其出口到美國的晶片施加額外關稅，迫使日本政府與美國簽訂了《美日半導體協定》，成功壓制了日本晶片的擴張。此刻的美國本土光刻機產業已經處於倒閉的邊緣，美國便開始以資本注入的方式扶持荷蘭的AMSL與其競爭。在ASML推出了PAS 5500光刻機並大獲成功之後，日本企業在光刻機領域的領先地位開始被侵蝕。2001年ASML吞併了美國矽谷集團，將美國光刻機技術收入囊中。在ASML推出了浸潤式光刻機以及EUV光刻機之後，日本的光刻機產業成為了真正意義上的落後者。截至2024年，ASML在全球光刻機市場份額達到62%，佳能和尼康分別佔31%和7%。在最先進的EUV領域，ASML的市場佔比依然毫無懸念的是100%。目前尼康最先進的光刻機是浸潤式技術的NSR-S636E，支援7nm-5nm先進晶片的製造，每小時可製造280片以上的晶圓，相當於是ASML NXT：1980i光刻機的硬體水平。儘管尼康聲稱該技術產品不使用美國的技術，也不受美國最小技術比例原則的出口限制，但是對比ASML的浸潤式裝置，尼康的產品在技術成熟度、市場規模、服務體系等多個方面均沒有優勢。而佳能選擇了與傳統光刻不同的奈米壓印技術，首批製造的奈米壓印光刻機“FPA-1200NZ2C”已經交付給了日本東芝公司，東芝公司將其應用於製造儲存晶片。根據佳能官方的資料顯示，由於該產品屬於全新的技術形式，所以這款裝置的技術效益在短時間內不太可能帶來巨大的改善。需要在後續的使用中逐步最佳化，以達到一個良好的水平。03 產業合作2019年，美國開始在半導體產業鏈對中國實施出口管制，中國本土企業不能購買含有美國技術的製造裝置，這給了日本以及歐洲部分企業一個很好的機會。根據日本財務省與海關部門所發佈的統計資料顯示，2021年日本對華出口半導體裝置達到了一個高峰期，其出口金額將近120億美元，絕大部分都來自於東京電子。在2024年出口的半導體裝置中，有一半的產品均銷往了中國大陸地區。其季度半導體產業出口額達到了33.2億美元，增長比例達到了82%，創下2007年以來的新紀錄。並且中國大陸市場已經連續多個季度成為了日本半導體裝置的最大出口地。從幾十年前美國與日本簽訂《美日半導體協定》之後，日本企業就選擇將投資目標放在中國市場，華虹NEC就是在這種條件下的一次初步嘗試。日本企業掌握著裝置材料等供應鏈優勢，中國大陸地區擁有龐大的資源和地域優勢，並且對技術成熟的製造裝置有極高的需求量，雙方的合作具備很強的互補性。雖然日本企業掌握著多種製造裝置，但部分後端裝置的市場空間不大，大部分都提供給國內的企業使用，出口占比也不高。反觀歐美國家，牢牢把握著光刻機、刻蝕機等先進的前端製造裝置，沒有這些前端裝置作為支撐，後端的製造裝置用處也不大了。而中國企業現在走的路線則是全端自研，從最前端的EDA工具，到光刻機、刻蝕機、後端的製造裝置，全部進行自主智慧財產權的技術研發，盡最大努力擺脫對海外技術的依賴。尼康和佳能的光刻機裝置雖然可以在一定程度上代替ASML，降低對美國技術的依賴風險，但是其本質上還是基於外國的技術基礎來製造國產晶片，這對於當下走自主可控路線的中國晶片來說是相悖的。況且中國企業手中還持有著上百台之前從ASML手中採購的光刻機，這些裝置都是中國企業在幾年前合法採購而來，已經經過了市場驗證，在製造效率、穩定性、市場規模等多個方面具有優勢，可以保證中國成熟晶片的產能，讓中國晶片更快更穩定的融入全球生態鏈當中。與此同時，中國企業也可以通過這些裝置，不斷積累光刻機產業的技術經驗，並且將這些有用的經驗應用到開發自主裝置的過程中。 (逍遙漠)

01前沿導讀據《日經亞洲》發佈的新聞報導稱，對於光刻機產業，中國短期的策略依然還是以“囤積”進口裝置為主。為了規避進一步制裁所帶來的風險，中國企業在2024年從ASML採購了大約89.2億歐元的製造裝置，其佔據了ASML系統銷售額的41%，是ASML全年最大的客戶訂單。#ASML美國投資銀行的半導體分析師Charles Shi對《日經亞洲》媒體表示：中國顯然正在努力開發屬於自己的自研光刻技術，但是這需要很長時間，而中國企業手中所持有的大量ASML裝置庫存，為中國開發自主光刻機產品贏得了時間。02囤積裝置對於中國企業在囤積ASML進口裝置這件事，早在2023年的時候就已經有行業學者披露了出來。荷蘭半導體觀察者馬克·海金克，曾經就中美兩國的晶片技術戰問題採訪了ASML創始人和現任管理層，並於2023年將他採訪獲得的資訊以實體媒介的方式發表了出來。海金克在其個人作品中表示：中國的光刻機產業一直處於慢步發展的過程中，造成這種情況的主要原因就是因為國際上面已經有非常成熟並且價格合適的光刻機產品。晶片產業又是一個全球化分工的行業，中國企業去購買進口的光刻機使用，從產業的角度來說這是正確的做法。畢竟研發國產光刻機的風險大、投入高，實在是不划算。但是在美國針對中國企業實行技術制裁之後，這個全球化的體系平衡被打破，中國無法順利的獲得進口裝置，從而導致了中國產業鏈在前端裝置上被美國卡脖子。再加上中國的自主光刻機又過於落後，根本無法填補這個裝置缺口，這讓中國的晶片企業真正意識到了自主技術的重要性，開始想盡一切辦法來解決晶片供應的問題。美國最開始只是不允許ASML向中國出售EUV光刻機，但是浸潤式的DUV裝置還可以正常出口給中國，這給了中國企業一個很好的機會。#EUV光刻機在國家的推動下，中國企業與ASML簽訂了巨額採購合同，大批次的從ASML進口未被美國封鎖的光刻機和相關耗材。這些採購的裝置，將會在一定程度上緩解中國晶片短缺的情況，並且還可以給中國開發自主的製造裝置創造窗口期，將美國製裁的風險降到最低。2023年，中國國產的7nm晶片突然在消費市場上面出現。與此同時，中國企業依然還在大批次的從ASML手裡訂購產品，這引起了美國的重點關注。在意識到中國企業的意圖之後，美國再次對荷蘭政府施壓，撤銷了ASML對華出口的許可證，緊急攔截了所有未交付給中國企業的材料裝置。03產業革命根據國際半導體協會所發佈的資料顯示，光刻機佔據了全球晶片製造裝置支出的25%，是所有裝置中較為核心的產品，也是最前端的製造裝置。在美國製裁中國的這段時間內，邏輯晶片製造商中芯國際、儲存晶片製造商長江儲存和長鑫儲存已經在多個環節取得了顯著的技術進步。中微半導體、盛美半導體、北方華創等本土裝置企業，已經在刻蝕、測量、沉積、化學拋光等工藝裝置上面實現了國產化替代。將國產的晶片供應鏈進行全國產化發展，是目前中國晶片產業最為重要的目標。一名日本晶片供應商的高管對《日經亞洲》表示，如果中國裝置企業取得長久的技術突破，這將會給國際範圍內的非中國供應商帶來巨大壓力。美國的出口管制，給中國晶片企業創造了一個強制性的黃金時代，幾乎所有的中國晶片製造商都在轉型使用國產裝置，這將會給那些進口的裝置供應商帶來經濟上面的衝擊。ASML現任CEO克里斯托夫·富凱在接受《紐約時報》專訪時警告稱：美國的出口限制，不僅會削弱ASML的主導地位，還會進一步促進中國自立自強，這將會顛覆數十年以來的晶片全球化體系。中國已經在研發更加先進的光刻裝置，雖然中國現在拿出來的產品與ASML的技術差距巨大，但是富凱表示，無論設定多少障礙，中國企業最終都會想辦法去突破。你試圖阻止的人或者是企業，都會加倍努力的以求成功。 (逍遙漠)

01. 前沿導讀美國商務部長盧特尼克接受美國CNBC採訪時表示：美國早期的出口管制存在漏洞，只封鎖了中國的EUV光刻機，導致中國企業採購了大量未限制的DUV光刻機和相關耗材，這些進口裝置讓中國製造出了先進晶片。#光刻機現在的中國晶片產業，一邊用進口裝置發展先進晶片，一邊用自主裝置擴充成熟晶片的產能。這些由中國企業製造的成熟晶片，正逐步在國際市場上蔓延，如果不加以限制，未來將對整個市場造成產業封鎖。02. 產業變革根據美國智庫戰略與國際研究中心所發布的調查報告顯示，自從美國在2021年對中國企業實行全面的晶片斷供之後，中國半導體的裝置採購金額持續走高，ASML、應用材料、東京電子這些國際晶片供應商都與中國企業簽訂了巨額採購訂單。#ASML隨著出口管制一步步升級，美國撤銷了這些國際晶片供應商的對華出口許可，禁止了包括美國企業在內的國際晶片企業向中國市場提供製造晶片所需的裝置材料。美國半導體協會曾經就中美兩國的晶片發展情況進行了技術評估，在2021年的時候，中國市場佔美國晶片企業總收入的33%。到了2024年，這個收入比例下滑到了12.7%。中國市場的大幅潰縮，對美國的晶片供應商也是一種利益上面的衝擊。波士頓諮詢公司發表過測算資料，在2021年-2024年期間，美國企業因出口管制受到的經濟損失累計超400億美元，這相當於全行業年度研發投入的18%。荷蘭半導體觀察者馬克海金克，在對ASML公司進行了獨家專訪後表示：中國大概有800多台來自於ASML的製造裝置，其中一半左右都在中國大陸的本土企業手中，剩下的則是被海力士、三星等在華合資工廠持有。在受到美國的製裁之後，中國企業對於先進製造裝置的需求龐大，開始大量在國際範圍內採購製造晶片所需的裝置和材料，以求延長國內進口裝置的維護時間，最大努力為中國企業開發自主技術創造窗口期。在全球晶片產業穩步推進的情況下，中國企業開始大規模的採購製造裝置，這引起了美國政府的警覺。在華為發表了mate60系列產品之後，美國政府再次對荷蘭施壓，撤銷了ASML向中國企業出口DUV裝置的許可，將製造晶片所需的裝置材料全部封鎖。03. 自主產業鏈有國際學者就中美兩國的晶片戰情況進行了總結：美國正在將產業的相互依賴進行武器化發展，想盡一切辦法不讓中國與美國的晶片企業合作，逼迫著中國企業走向自立自強的技術發展道路。晶片產業是全球化分工的行業，各國企業彼此互相依賴，只有合作發展才能共同進步。就算是強如晶片的發明國美國，現在也無法透過一國之力製造大量的先進晶片。ASML的裝置、台積電的製造技術、日本的製造材料、美國的設計工具，以上這些環節搭配起來，才可以製造出消費等級的先進晶片。中國晶片產業的發展進展較慢，在裝置、材料、軟體等多個環節存在受制於人的情況，需要使用外國的技術來製造晶片。在受到製裁之後，中國企業開始集中資源攻克被卡脖子的環節。上海微電子、中微半導體、北方華創等企業負責攻克自主技術的製造裝置；華大九天擔任EDA工具的首席領頭企業；中芯國際、華虹半導體負責在生產線上面進行國產化製造的全貫通。各企業分工明確，將卡脖子的各環節逐一進行技術攻堅。去年發表的65nm解析度、套刻精度8nm的國產光刻機，採用多重曝光技術可以製造28nm的晶片。國產28nm及以上的成熟晶片實現了純國產化的大規模應用，讓中國的晶片產業有了堅實的自主技術基礎。根據美國半導體協會發表的資料顯示，中國大陸企業在28nm及以上的成熟晶片市場中，佔據全球33%的市場份額。預計到2032年，這個市場份額將提升到37%，中國大陸企業將成為國際上面最大的成熟晶片供應商。（逍遙漠）

01. 前沿導讀美國商務部長在接受美國CNN採訪時表示：儘管美國之前的對華制裁措施，沒有阻止中國獲得先進的晶片技術，但是卻成功的阻礙了中國發展先進晶片技術的腳步。美國的多輪制裁，是一個將中國晶片產業逼到死角的措施，堵死了中國企業獲取先進晶片的機會。但是ASML在這個過程中表現的很不好，他們踩在美國製裁的紅線上面，將許多未被限制但可以製造先進晶片的舊裝置交付給中國企業，而且還不告訴我們，這一切的罪過都需要ASML承擔。#ASML02. 限制措施2018年，在美國政府重啟對中興的制裁後，中國科技產業開始自上而下的緊張了起來。同年，梁孟松代表中芯國際與ASML簽訂採購合同，用1.2億美元的價格採購一台EUV光刻機，相當於用中芯國際2017年全年的利潤購買這台裝置。#EUV光刻機一台EUV光刻機從開發到交付後量產商用，需要經過大約3年左右的時間。前兩年需要先將EUV光刻機進行整體的技術開發，開發完成後將其拆解為模組化零件，通過空運和陸運的方式到達指定的國家企業，然後由ASML的技術人員進行組裝。最後經過為期一年的技術偵錯，確認裝置可以正常工作之後，這台EUV光刻機才會被投入到生產線上面製造先進晶片。按照原來的進度推算下去，中國企業將會在2021年獲得這台EUV光刻機，從而開始風險量產國產的7nm技術晶片。據荷蘭半導體觀察者馬克·海金克在其個人作品中表示：2020年前後，就在EUV光刻機運送到中國之前，荷蘭政府接到了美國國防部的信件，美方在信中雖然沒有直接要求禁止ASML向中國出售裝置，但是其在信中表示如果中國獲得先進的裝置，可能會將這個裝置用到軍事領域，提升其軍事力量，對美國的安全造成影響。於是便敦促荷蘭政府，站在國際安全的角度看待這次的產業合作。在美國的施壓下，荷蘭政府最終還是收回了ASML的對華出口許可證，攔截了這台EUV裝置的出口。雖然EUV裝置被禁運了，但是上一代的浸潤式DUV裝置還可以繼續出口。於是中國企業開始大量從ASML採購未被禁運的裝置和材料，用這種裝置囤積的方法來最大限度保證國內生產線的正常運轉，延長ASML在華裝置的維護周期。03. 突破封鎖據英國《金融時報》發佈的專欄報告表示：美國拿走了屬於中國的EUV光刻機，但是中國企業依然還可以用採購的DUV裝置來製造先進晶片。儘管這種方法在成本、良品率、能效上面表現的都不好，但是在沒有先進裝置的情況下，這是唯一的方法。初期的國產7nm晶片，其整體的良品率低於30%，完全達不到量產商用的水平。所以中國企業開始投入大量資源去聘請來自於台灣、韓國、日本、德國等國家企業的專家進行技術指導，以求解決產能受阻的困境。#晶片據一位參與開發的工程師對《金融時報》的記者表示：“國產7nm工藝有數千個步驟需要改進，即便是在凌晨，我也必須在工廠內保持高度的緊張狀態，隨時接聽各部門的電話，這可能涉及到一兩個關鍵技術環節的改進。”美國經濟歷史學專家克里斯·米勒在其作品《chip war》中寫道：如果你的大部分晶片都是進口的，你就不是製造業的超級大國，你只是在組裝其他地方生產的高價值元件。在中國企業發佈了搭載國產7nm晶片的5G手機之後，美國再次對荷蘭政府強制性施壓，讓其撤銷了ASML所有裝置的對華出口許可，將所有可能製造出先進晶片所需的裝置全部進行了封鎖。國際半導體專家道格拉斯·富勒對中國的半導體行業進行了系統性質的總結：儘管研發國產先進晶片的技術難度大，投入資源多，而且還面臨著美國的重重限制，但是中國的相關部門已經下定決心要突破封鎖，掌握自主技術。為此，他們就算投入再多的資源，付出再多的努力，都是值得的。 (逍遙漠)

半導體裝置製造商新凱來（SiCarrier），在上海舉行的SEMICON China展會上，首次公開展示其最新晶片製造裝置，傳出部分裝置可支援生產5奈米製程，其中一個產品還取名為阿里山。因新凱來並未展示實體裝置，只有模型，遭外媒質疑何時可以投入生產。綜合《Tom'shardware》及《南華早報》報導，新凱來獲政府支援，專注晶片製造，曝光、化學氣相沉積、測量、物理氣相沉積、蝕刻和原子層沉積硬體也在研發中，希望打造出中國版ASML。新凱來成立只有4年，在SEMICON China展會上，新凱來受到極大矚目，現場卻沒有展出實機，僅在各個展示螢幕中說明發展路線與技術，以及號稱是新開發產品的模型。在會展攤位上，新凱來秀出5款以名山命名的產品，被中國網友稱為「名山軍團」，這些產品包括外延沉積（EPI） 峨眉山、蝕刻 （ETCH） 武夷山、化學氣相沉積 （CVD）長白山、物理氣相沉積 （PVD） 普陀山、原子層沉積 （ALD） 阿里山。目前，尚不清楚新凱來列出的所有裝置是否可以訂購，也不清楚這些裝置是否與依賴 ASML、應材、科磊、科林研發、TEL 等公司機器的現有生產流程相容。如果新凱來和華為打算打造僅中國「獨有」的生產流程裝置，那麼第一家擁有此種流程的晶圓廠可能需要數年才能投產。 (大話晶片)