2026年5月25日, 華為何庭波正式提出來指導半導體產業發展的全新原則——韜(τ)定律, 這並非只是華為在半導體領域所作的一回技術宣言, 更是在傳統摩爾定律已然逼近物理極限的背景下, 全球半導體產業尋覓新路徑的關鍵轉折。
一、背景:摩爾定律的黃昏與突圍之需
在過去的半個多世紀期間, 半導體產業是依照摩爾定律持續邁進的, 即每間隔18至24個月, 電晶體密度便會實現翻倍, 進而達成性能的提升以及成本的下降。而這一整個處理程序的核心驅動力量乃是“幾何縮微”: 也就是不斷促使電晶體特徵尺寸縮小。
然而, 這條道路正面臨著物理極限以及經濟性邊界這兩方面的雙重挑戰, 當柵極長度逐漸靠近原子尺度的時候, 量子隧穿、漏電流等一系列問題是不能被忽視的, 而先進製程晶圓廠的投資已經急劇飆升到了數百億美元, 只有極少數的企業才能夠承受得住, 對於國內的半導體產業來講, 先進光刻裝置的獲取受到限制, 這讓單純去追逐製程節點的路徑變得越來越狹窄了。