華為更新了“韜定律”論文的V2版:《A time scaling theory for multi-layer electronic systems》(關於多層電子系統的時間縮放理論),整個論文可以概括為後摩爾定律時代華為對晶片性能的持續擴展的思考。
在摩爾定律框架之下,電晶體數量每24個月翻一倍,但這套框架在近幾年開始失準,而在華為身上還面臨著特殊的限制:先進EUV和高端DUV光刻機遭遇禁運。
華為半導體業務總裁何庭波。圖片經過AI處理
過去,為了延續摩爾定律的電晶體幾何微縮,“多重曝光”這種幾何微縮成為國產晶片突破7nm等先進工藝的關鍵手段。只是,多重曝光帶來了成本和良率問題,且這項技術也有極限,“韜定律”則是繞開這種技術方案的新路徑。