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北風窗
4小時
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金剛石:卡住AI的散熱王牌
AI晶片功耗從700W飆到2300W,傳統銅鋁散熱撞上物理天花板。當輝達把金剛石塞進下一代GPU,一場由河南主導、卻卡在半導體級純度上的隱形戰役,悄悄開打。 核心觀點:當銅和液冷撞上物理天花板,一種導熱是銅 5 倍的薄板——金剛石熱沉,正從實驗室衝進輝達的 GPU,悄悄卡住 AI 算力的散熱咽喉。 一、它是什麼:貼著晶片的"散熱王牌" 說個冷知識:晶片裡導熱最快的材料,不是銅,不是液冷的水,而是一種你大機率只在鑽戒和切割鋸片上見過的東西——金剛石。
科技
#金剛石
#AI晶片散熱
#半導體材料
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北風窗
前天 11:23
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華為:挑戰ASML光刻機!
中國半導體產業正以更大力度推進晶片製造裝置的國產化,華為處於這一努力的核心位置。面對美國及其盟友對先進半導體裝置的出口管制,華為正利用較老的深紫外(DUV)系統與本土新工程技術,試圖縮小與行業領先者的差距。這場裝置自主化的競賽,可能決定未來全球晶片工廠的控制權歸屬。 出口管制正在產生一種出人意料的激勵效應。據《南華早報》和Tom's Hardware報導,旨在限制中國獲取先進半導體裝置的措施,反而可能為本土製造商提供了強大的動力去建構替代方案。這並不意味著勝利近在眼前——半導體裝置以難以複製著稱,即便是單一先進光刻系統,也依賴精密光學、雷射器、軟體、機械以及數千個精心協調的元件,其複雜程度更像是一個微縮的工業生態系統。然而,壓力改變了優先順序。曾經依賴海外供應商的企業,如今有了更明確的商業理由投資國內替代方案,即便這些方案效率更低、成本更高、部署更慢。 極紫外(EUV)光刻是先進晶片生產中最耀眼的明星技術,它允許製造商印製極小的電路圖案,但系統需要對光、運動、真空條件、光學和污染控制進行非凡的掌控。ASML長期主導這一市場,專業供應商則提供關鍵元件和子系統。據《南華早報》援引的行業報導,從零開始重建這一網路極其困難,尤其是在出口限制之下。這種複雜性解釋了為何中國的進展很可能分階段到來:製造出一台能工作的裝置是一回事,使其吞吐量、可靠性、維護要求和生產成本達到商業標準則完全是另一回事。 在EUV系統不可獲得的情況下,中國晶片製造商繼續尋找方法拓展深紫外(DUV)裝置的能力。通過多重曝光、工藝調整和精心設計最佳化,較老的裝置能夠支援比許多觀察者此前預期更小的節點生產。Tom's Hardware和《南華早報》的報導將這一路徑與中國在7奈米等級生產晶片的努力聯絡起來。這並不意味著DUV等同於EUV——它可能需要更多工藝步驟、消耗更多時間並提高成本,但當最新裝置無法購買時,它提供了一條實際可行的路線。對消費者而言,重要的一點是:技術進步並不總是通過向最新機器的乾淨跨越來實現,有時它來自耐心的工程、巧妙的變通,以及工廠學會從並非為此設計的工具中搾取更多價值。
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#華為
#ASML
#出口管制
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北風窗
2026/10/06
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美國:中國囤積343台光刻機!
美國智庫“技術與中國國家安全中心”(CTS)最新報告披露,中國大陸晶片製造企業已通過利用美國出口管制漏洞,獲得總計343台浸沒式深紫外(DUV)光刻機,並將其投入半導體產業本土化處理程序。報告警告稱,這些裝置雖不及極紫外(EUV)光刻機先進,但足以生產人工智慧晶片,為中國提供了中端替代方案,對美國構成挑戰。 據香港《南華早報》4日報導,CTS報告顯示,截至今年年初,中國大陸擁有的浸沒式DUV光刻機中,約270台為ASML的Twinscan NXT:1980i型號。中國在2024年花費超過130億美元購買了90台NXT:1980i,2025年又增購89台。ASML在全球先進光刻系統市場佔據近乎壟斷地位。 光刻機是晶片製造的核心裝置,利用紫外光在晶圓上刻畫電路,波長越短,能刻畫的電路越精細。EUV光刻機波長更短,可實現超精細製程,但研發難度大、價格高昂。浸沒式DUV則通過在鏡頭與晶圓之間填充水來提升光折射率,從而提高刻畫精度。該技術雖仍落後於EUV,但可用於製造7奈米邏輯晶片和高端記憶體器。 荷蘭政府於2019年應美國要求,禁止ASML向中國出口最先進的EUV光刻機。但對於較老型號,荷蘭在國內反對聲中收回控制權,開始允許NXT:1980i以個案審批方式出口。CTS認為,這正是大量裝置得以進入中國的原因。中國利用這一管制缺口,在購入NXT:1980i後,採用多重曝光技術——通過重疊層次繪製電路——量產華為昇騰AI加速器和先進記憶體器。
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#光刻機
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北風窗
2026/09/24
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已編輯
長飛光纖、亨通光電、烽火通訊、長盈通誰能拿下CPO增量?
2026年8月下旬起,光纖行業迎來新一輪景氣周期,G652D/G657A2需求持續上升、多模光纖供應極度緊張、保偏光纖成為CPO時代新貴。專家預計這輪景氣將持續到2027年二季度,而多模與保偏光纖的稀缺,本質上是鍺管制+海外停產+PCVD裝置壁壘三重因素疊加的結果。 一、普通光纖:需求回潮,現貨“搶破頭” 先要從2026年8月下旬講起。彼時光纖市場還是一潭靜水,轉眼間畫風突變。 專家直言目前市場上基本沒有庫存,採購主要以爭搶現貨為主。
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RexAA
2026/09/22
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中國自己造不出晶片?美智庫預言,ASML: 閉嘴吧,別再“逼”中國了
幾年前,海外一家知名智庫曾經下過一個很篤定的判斷:離開了歐美日整套半導體裝置與材料,中國的先進晶片製造會被死死困在14nm這道門檻,很難再往前走。 在當時不少西方業內人士的設想當中,半導體是集結多國幾十年工業積澱才結出來的果實。只要把高端光刻機、特種材料這幾個關鍵閥門一關,我們的先進製程發展就會原地踩下剎車。誰也沒有想到,短短幾年過後,事情的發展完全跳出了原先的預判。 就連光刻機大廠ASML的高管也公開發出提醒,出口管制並沒有停下中國技術迭代的腳步,反倒倒逼本土產業鏈拚命補齊短板。長此以往,西方企業很有可能就此丟掉這塊體量巨大的中國市場。 從智庫言之鑿鑿的“停滯預言”,再到裝置廠商開始憂心自己的生意,這場晶片博弈的走向,確實出乎很多人的意料。
科技
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小小天下
2026/09/18
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法學者警示:對華光刻機出口封鎖看似制衡,實則加速中國自研,美歐終將自食惡果
在全球半導體博弈愈發激烈的當下,美國主導的光刻機對華出口管制政策,一度被外界視作遏制中國高端晶片產業發展的關鍵手段。但這種單邊技術封鎖,真的能達成歐美預期的制衡效果嗎?法國權威媒體《回聲報》刊發的巴黎第一大學知名教授埃馬紐埃爾·孔布的深度評論文章,給出了截然相反的答案。在這位歐洲學者看來,短期的技術壁壘或許能延緩中國先進晶片的研發節奏,但長期來看,嚴苛的出口管制只會倒逼中國打通半導體全產業鏈自主化路徑,而美國與歐洲,終將成為這場技術博弈的最大輸家。 孔布在文章中客觀剖析了技術封鎖的雙重效應,指出尖端裝置出口限制存在相互制衡的兩大影響,並非單一的“遏制奏效”。從短期負面影響來看,禁止EUV、高端DUV光刻機對華出口,直接切斷了國內晶片企業獲取頂尖生產裝置的管道。缺少核心尖端裝置的支撐,國內企業在3nm、5nm等先進製程晶片的研發量產上舉步維艱,無法同步跟進全球前沿技術迭代節奏,也難以在高端製程領域積累成熟的生產經驗與技術資料,短期內中外半導體產業的技術差距看似被進一步拉大。 但從長期正向效應來看,這種無差別的技術封鎖,徹底斷絕了中國依賴進口裝置發展高端半導體產業的僥倖心理,倒逼國內半導體行業徹底轉向自主攻堅。當外部技術引進的通道被完全封堵,自主研發、國產替代就成為中國晶片產業唯一的出路。舉國資源傾斜、全行業協同攻堅的態勢全面形成,從光刻機核心零部件、光學材料、雷射系統到整機整合技術,國內產業鏈上下游企業全力突破瓶頸,開啟了半導體裝置的自主化突圍之路。 歷史早已印證:技術封鎖從來都是產業逆襲的催化劑
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美股艾大叔
2026/09/08
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美國媒體:不顧美國警告,馬來西亞仍然傾向採用華為AI晶片
彭博社9月7日報導稱,在川普政府強烈阻撓各國使用華為AI晶片的背景下,馬來西亞仍傾向於依賴華為AI晶片來為其主權AI項目提供算力支援。 據匿名知情人士透露,馬來西亞正在認真評估將華為的AI硬體作為一項規模達20億林吉特(約合33.17億元人民幣)計畫的核心。該計畫旨在讓馬來西亞對本國資料擁有更大的控制權。但目前尚不清楚馬來西亞將採購多少晶片。 報導指出,面對美國多年來對其獲取國外生產裝置施加的限制,華為一直在努力提升其AI晶片的性能。雖然其AI晶片與輝達產品相比仍有較明顯的差距,但隨著華為製造前景的改善,該公司正尋求在全球資料中心市場站穩腳跟,包括東南亞和中東地區。 與此同時,馬來西亞總理安華表示,馬來西亞不想僅僅成為海外技術的消費者。除了可能由華為提供的基礎設施外,安華政府還鼓勵本地電信公司與外國公司合作,提出更廣泛的AI發展框架。
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RexAA
2026/09/07
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全球記憶體緊缺:股價卻近乎腰斬?嚴重背離!
AI算力需求狂飆的當下,記憶體行業正出現一幕罕見的背離:供需端,全行業缺口持續拉大、庫存降至歷史低位,長期協議批次落地,直接鎖死未來數年盈利下限; 估值端,類股股價自高點回撤超37%,頭部廠商2027年預期市盈率僅3倍,彷彿景氣周期早已結束。 野村證券最新全球記憶體深度報告明確判斷:本輪記憶體周期的強度與持續性,都遠超當前市場預期。LTA長期協議正在重構整個行業的盈利邏輯,產能瓶頸至少延續至2028年,基本面與股價的裂口終將收斂。 研報拆解記憶體行業供需格局的核心變化、商業模式的本質迭代,以及三星、SK海力士等龍頭標的最高超190%的估值修復空間。 以下為原報告直接翻譯:
科技
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