都知道,荷蘭ASML公司曾以4億美元/台的天價,賣出了全球第一台且是目前最先進的High-NA EUV光刻機。但這台光刻機交付已經有段時間了,卻遲遲沒能開始工作。
就在最近,ASML的CEO克里斯托夫·福凱終於官宣了好消息,用這台光刻機生產的首批晶片,幾個月後就能交付落地了,這批晶片主要涵蓋了儲存器和邏輯晶片兩大品類。
這個消息一出,就引起了業內熱議,它標誌著目前最先進的光刻技術,徹底告別測試階段,進入商業化落地的關鍵期,絕對算得上是晶片行業的大事件!
可能有人對High-NA EUV沒概念,簡單說就是現有EUV光刻機的“加強版”。咱們都知道,現在的EUV已經是工業界的“精密天花板”了,而這台High-NA版本,直接把光刻精度拉到了新高度。它能把晶片電路的特徵尺寸縮小66%,說白了就是在同樣大小的矽片上,能塞下更多更小的電晶體,晶片性能自然也能跟著飆升。