#阿斯麥
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美債“狂飆”，油價“跳水”

美債殖利率“狂飆”，持續壓制美股估值。 當地時間9月29日，美國30年期國債殖利率升破5.60%，創下自2002年以來的最高水平。與此同時，美股連續第二日下跌，截至收盤，道指跌0.26%報51349.92點，標普500指數跌0.17%報7670.84點，納指跌0.09%報26797.54點。 全球宏觀方面，美國研究機構世界大型企業研究會29日發佈的初步調查結果顯示，由於美國聯邦儲備委員會升息和地緣政治緊張打壓，美國9月消費者信心指數連續第三個月環比走低，為2014年4月以來的最低水平。 與此同時，據新華社報導，美國能源部戰略石油儲備項目管理辦公室29日發佈邀約公告，計畫以“互換”方式向市場釋放4000萬桶原油。
宏觀#美債#油價#國債收益率
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阿斯麥瞄準110台以上EUV設備產量，因JPM強調AI需求「強勁」

ASML Holding N.V. (NASDAQ:ASML) is exploring ways to produce more than 110 extreme-ultraviolet (EUV) chip-printing machines in 2028 as artificial-intelligence demand remains "very very strong," JPMorgan says. 艾斯摩爾公司（納斯達克股票代碼：ASML）正在探索在2028年生產超過110台極紫外（EUV）晶片光刻機的途徑，因為摩根大通表示，人工智慧需求依然「非常非常強勁」。 ASML's Amsterdam-listed shares fell 5.2% Monday as chip stocks sold off after Anthropic CEO Dario Amodei urged the industry to slow frontier AI capability gains. Sam Altman and Elon Musk also backed the proposal. ASML在阿姆斯特丹上市的股票周一下跌5.2%，此前晶片股普遍下挫，原因是Anthropic首席執行長達裡奧·阿莫代伊呼籲業界放慢前沿人工智慧能力的提升步伐。薩姆·阿爾特曼和埃隆·馬斯克也支援這一提議。
美股#ASML#阿斯麥#EUV設備
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先進晶片先算曝光成本帳

台積電與艾斯摩爾今天宣佈推進十二英吋光罩，想讓更先進的光刻技術在製造大晶片時少一道拼接。人工智慧晶片越做越複雜，裝置能刻得更細還不夠，還得讓客戶算得過帳。這次合作把降低曝光成本變成了雙方共同推進的產業任務。 台積電開始改寫採用新裝置的條件 9月8日的新增變化，是台積電與艾斯摩爾共同推動光罩從現行六英吋轉向十二英吋。光罩承擔著向晶圓轉移電路圖案的任務，更大尺寸的價值在於讓大晶片少受曝光範圍限制。兩家公司把合作目標落在先進製程的成本效益上，台積電此前因成本考量保持觀望，如今開始參與改變這筆帳的條件。 這裡的High-NA EUV，是能印出更精細圖案的新一代極紫外光刻技術。它提升了分辨能力，但在現有光罩下，大尺寸晶片需要拼接曝光，額外工序會佔用昂貴裝置的時間。對晶圓廠來說，技術上能做出來，與同樣時間能交付多少合格晶片，是兩項必須同時解決的任務。
科技#台積電#阿斯麥#光刻技術
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60秒圖解丨昨夜半導體為何大跌？三條利空撞上擁擠交易，一圖看懂下跌邏輯

昨夜半導體類股呈現明顯的盤中反轉，設備、記憶體與AI晶片同步承壓。表面看，多條消息分別影響不同細分領域；從交易結構看，這些利空集中出現，恰好觸發了高位資金的集體減倉。多重因素交織，期權sir幫你一圖理清下跌邏輯。 1、設備端的壓力來自中國國產浸沒式DUV進展 市場開始重新評估中國半導體設備自主化的速度，以及 $艾斯摩爾 (ASML.US)$ 等海外廠商在中國市場的長期增長空間。擔憂的核心並非中國馬上追平EUV，而是此前被認為最難中國國產化的光刻環節開始出現實質進展。 不過，短期反應可能偏大，中國國產設備距離全面替代仍有較長距離，產能、良率、套刻精度也尚未獲得充分驗證。但當預期發生變化，估值較高的設備股往往率先調整。
60秒圖解丨昨夜半導體為何大跌？三條利空撞上擁擠交易，一圖看懂下跌邏輯
美股#半導體#阿斯麥#美光科技
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荷蘭報告將中國定為半導體“極高風險”，讓企業找出那些“皇冠明珠”崗位，對直接接觸者做深度背景調查

2026年7月3日，荷蘭外交部資助的“中國知識網路”（China Knowledge Network）與海牙戰略研究中心（HCSS）聯合發佈了一份報告。整份報告只傳遞一個核心訊號：荷蘭半導體行業正面臨來自中國的“極高風險”。這個評級，比海事和航空航天部門都要高。 報告撰寫人貝內代塔·吉拉爾迪和漢斯·霍蘭隨後在接受《日經亞洲》採訪時說。這不是幾起個別的涉密案，而是“系統性、長期性的挑戰”。 7月15日前後，湯姆硬體（Tom‘s Hardware）等媒體拿到了報告的更多細節。報告提出，對艾斯摩爾這類敏感晶片場所，人員分級審查必須全面收緊。還要求設立一個由歐盟和北約共同出資的韌性基金，專門用來替換掉伺服器主機板、基板管理控製器、甚至大型岸橋裡那些被認定為“高風險”的“外國”硬體。 五類指控
荷蘭報告將中國定為半導體“極高風險”，讓企業找出那些“皇冠明珠”崗位，對直接接觸者做深度背景調查
科技#半導體#阿斯麥#晶片
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深圳EUV原型機曝光，艾斯摩爾壁壘首遭中國雷射技術挑戰，《外交官》承認：中國進展已超出許多西方分析人士此前的預期

2026年7月14日，印度國際新聞頻道WION一則報導，把深圳保密設施裡的進展推到聚光燈下：中國已成功搭建完全中國國產化的極紫外（EUV）光刻機原型。報導援引項目內部消息稱，這是艾斯摩爾自1990年代投入EUV研發以來，第一次有外部力量獨立實現EUV光源產生與整機系統整合。 艾斯摩爾一直獨家把持著全球EUV光刻機市場，整體光刻機市佔率約83%。WION的評論直截了當：如果中國把這一突破推進到EUV光刻機的商業量產，全球半導體產業格局將永久改寫。 LDP技術線 據報導，這台原型機由華為統籌，整合了中國研究機構、供應鏈和數千名研究人員。深圳設施採取嚴格的物理隔離與分組保密機制。
深圳EUV原型機曝光，艾斯摩爾壁壘首遭中國雷射技術挑戰，《外交官》承認：中國進展已超出許多西方分析人士此前的預期
科技#EUV#光刻機#LDP技術
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存儲三巨頭擴產狂潮來襲，半導體設備站上超級風口! 艾斯摩爾引領歐洲股市邁向新一輪牛市

韓國存儲晶片雙雄與美光的資本開支超級周期，正在為艾斯摩爾、Besi等歐洲設備巨頭提供強有力的盈利與估值雙重上修基礎。 智通財經APP獲悉，隨著來自美國的存儲晶片巨頭美光科技公佈創紀錄資本支出以及全球存儲晶片兩大超級霸主——即韓國存儲雙雄三星電子與SK海力士計劃在西南部地區投入約800兆韓元建設四座半導體晶圓廠，其中三星電子和SK海力士將各自建設兩座，艾斯摩爾、應用材料等半導體設備巨頭們正進入由AI晶片與存儲晶片大規模擴產驅動的新一輪超級增長周期。這也是華爾街策略師們近日愈發看漲歐洲股票市場核心邏輯，畢竟歐股市場作用全球光刻機巨頭艾斯摩爾(ASML)、ASM International以及BE Semiconductor等總部位於歐洲的一眾半導體設備最頂級供應商們。 艾斯摩爾已經是歐洲市值最高上市公司，並且艾斯摩爾在美股市場公開交易的ADR價格(ASML.US)今年以來漲幅高達70%大幅跑贏標普500指數以及納斯達克100指數。這家光刻機巨頭受益全球史無前例的AI晶片與存儲晶片產能擴張周期的邏輯最直接：先進邏輯、先進DRAM、HBM相關製程擴張，都離不開EUV/DUV光刻設備。 韓國存儲晶片雙雄與美光的資本開支超級周期，正在為艾斯摩爾、Besi等歐洲設備巨頭提供強有力的盈利與估值雙重上修基礎;如果歐股下半年從地緣修復切換到「盈利擴散+AI資本開支驅動+周期類股輪動上漲」看漲敘事邏輯，這些佔據高權重的半導體設備超級龍頭很可能成為推動歐洲股指強勁上行的核心驅動力。不過，一旦市場開始擔憂存儲擴產過度、北美科技巨頭們AI資本開支回報周期進一步被拉長，或者出口限制升級，股價波動也會同步放大。
存儲三巨頭擴產狂潮來襲，半導體設備站上超級風口! 艾斯摩爾引領歐洲股市邁向新一輪牛市
科技#阿斯麥#Besi#美光科技
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新凱來——中國版艾斯摩爾！將改寫全球半導體裝置製造格局……

導讀：如果新凱來不搞光刻機，造出再多其他晶片製造配套裝置也白搭，華為照樣量產不出全國產5奈米晶片，如今或已做到。國產高端DUV光刻與EUV光刻機整合總裝一定是新凱來在做，也只有新凱來能做。上海微電子裝置公司還沒那個能耐，以其自身實力，再給它十年都難以突破EUV光刻機技術，新凱來外的其他裝置製造商也只有共享國家工信部政策與接受新凱來技術轉讓一條路了。光刻機是製造晶片的核心裝置。一台先進的EUV光刻機，價格抵得上一架波音737客機（1.2億歐元）。2024年ASML的High NA EUV光刻機售價直接翻到3.5億歐元，相當於3架大型波音客機的價格。EUV光刻機重180噸，零件超過10萬個，運一趟要裝40個集裝箱，安裝偵錯也要耗時超一年之久。這就導致了入局光刻機行業門檻高，並且還需持續投入。然而，一家名為新凱來的中國公司正試圖打破這一持續多年的技術壟斷態勢。2025年3月26日，中國半導體生產裝置峰會上，深圳市新凱來技術有限公司（以下簡稱“新凱來”）高調發佈多款半導體製造裝置，同時有分析認為新凱來有可能正在研發光刻機。而半導體裝置是晶片製造的基石。據海關總署資料顯示，2024年中國大陸半導體裝置進口總額達335.1億美元。其中，光刻機進口額佔比最高，達107.2億美元，89%來自荷蘭；79%的離子注入機從美國進口；刻蝕機、熱處理裝置等主要依賴日本供應商。如今，新凱來在光刻領域多個關鍵零部件的突破帶來了非同一般的戰略意義。01制裁倒逼的光刻機自研故事要回溯到2019年5月，當時美國對華為實施晶片禁令，華為發展高性能產品難以買到關鍵晶片，此時此刻，中國半導體產業鏈的短板，即高端晶片製造裝置受制於人的窘狀日益突出，亟需改變。眾所周知，晶片製造要經歷複雜的過程，先進晶片的製造離不開高性能光刻機。高性能光刻機集合了光學、有機化學、儀器儀表、機械裝置、自動化技術、圖像識別技術行業等多行業的頂尖技術。同時，隨著製造晶片效率的提升，晶片的製程變得更小，製造過程也會更複雜，因此對光刻機的精度、解析度和穩定性要求也會更高。例如，對於5奈米及以下製程的晶片，只有極紫外光刻機（EUV）能滿足其圖案轉移的要求。如果沒有先進的光刻機，就無法製造出高性能的晶片，這會限制整個半導體產業的發展。光刻機是晶片製造產業鏈中的關鍵一環。全球晶片製造企業對光刻機供應商存在高度的依賴。目前，ASML在光刻機市場中佔據主導地位，特別是在極紫外光刻（EUV）領域，ASML是這一領域領先的供應商，擁有超過90%的市場份額。換句話說，ASML基本上控制了全球晶片工廠的命脈。美國通過“長臂管轄”切斷EUV裝置對華供應，試圖扼殺中國晶片的研發生產能力，這也是美國在全球科技競爭中對中國實施技術封鎖和遏制戰略的一部分。根據美國商務部下屬工業安全域（BIS）要求ASML的“中高端浸潤式DUV”-NXT1980Di將被限制賣到中國。由於美國對華禁止出口EUV（極紫外光）光刻裝置，中國無法獲得尖端光刻機，因此中國晶片技術將落後西方10到15年。光刻機的供應鏈遍佈全球，EUV光刻機由超過10萬個零部件組成，涉及5000多家供應商，核心零部件主要來自歐美，其中荷蘭腔體與英國真空技術佔32%、美國光源佔27%、德國光學系統佔14%、日本材料佔27%。新凱來是一家與華為有關聯的中國半導體裝置製造商並一直在悄悄開發各種機器，以取代ASML和其他外國競爭對手的產品，從而幫助中國解決美國出口管制所造成的最痛苦的供應鏈堵塞問題。該公司正在研發的裝置涉及光刻、化學氣相沉積、測量、物理氣相沉積、蝕刻和原子層沉積，所有這些領域目前都由荷蘭、美國和日本的公司主導。多位知情人士表示，新凱來一直在與華為不斷壯大的晶片生產和晶片裝置製造專家團隊密切合作。事實上，面對封鎖，華為創始人任正非早就提出要“全面自研半導體供應鏈”的“不可能任務”。據清華大學博士龍白滔綜合市場消息向《商學院》表示，一直有傳聞新凱來是華為整合2012實驗室的研發資源，與深圳國資旗下三家晶片製造企業（鵬芯微、升偉旭、鵬新旭）深度協同，共同成立新凱來。這種“國家隊+民營企業”的合作模式，兼具資金支援與技術攻堅的雙重優勢：深重投提供國資背景的產業資本與成熟製造能力，華為則注入超過3000名核心研發人員及數十年積累的專利技術。顯然，這是一種大國重器式的研發模式。02新凱來誕生新凱來技術成立於2021年8月，企業註冊資本15億元，穿透股權發現，深圳市深芯恆科技投資有限公司（簡稱“深芯恆科技”）100%持股，深芯恆科技由深圳市重大產業投資集團全資控股，深圳市重大產業投資集團是深圳市委、市政府重大戰略引領性產業投資功能性平台、市國資委直接管理的國有獨資企業。這家公司由深圳市國資委全資（100%）控股（以下簡稱“深圳國資”）。2022年6月，新凱來技術投資設立了新凱來工業機器，註冊資本10億元，這家公司就是參加2025中國半導體生產裝置峰會上的企業。新凱來工業機器有限公司有兩個股東，新凱來技術有限公司持股比例為95.6522%，深圳市均隆高新產業創業投資中心（有限合夥）持股比例為4.3478%。這意味著，新凱來就是深圳國資重點培育的項目。深圳市重大產業投資集團在公告提出，新凱來的目標是“保障國內半導體及電子製造產業供應鏈安全”。在新凱來招聘資訊中，對公司的定位是致力於解決國內半導體製造連續性問題，促進周邊產業成熟，持續支撐行業生存與發展；並把國內最優秀的半導體製造解決方案和裝備推介給行業客戶，為國內半導體裝置廠、FAB廠、電子電器裝置廠、研究機構提供先進的解決方案，相關產品廣泛應用於國內頂級製造企業和研究、測試機構，促進產業能力提升。以技術為底、集眾家之力，攻堅克難，保障國內半導體及電子製造產業供應鏈安全。03跨越“卡脖子”技術新凱來的成立絕非偶然。其研發基礎可追溯至華為被制裁後的四年技術儲備，故其一誕生便擁有覆蓋光刻、蝕刻、沉積等全流程裝置的技術框架。這種超常規整合，為中國半導體裝置自主化按下加速鍵。新凱來的核心技術路線直指半導體裝置的核心戰場——光刻機。2024年9月，工信部公佈的《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》中，一款解析度達65奈米的國產DUV光刻機赫然在列，彼時業內就普遍認為其出自新凱來之手。這一成果遠超上海微電子90奈米的技術水平。新凱來試圖超越ASML，成為全球半導體裝置製造的領軍企業。新凱來的野心並不小，至少在產品種類上，它投入的賽道比中國光刻機領域的領導品牌上海微電子（SMEE）更多、更寬。上海微電子主要專注於光刻機，而新凱來的目標是覆蓋半導體製造的更多環節，涵蓋光刻、蝕刻、沉積等多個關鍵環節，展現了中國在半導體裝置領域的全面佈局。不同於ASML採用的雷射產生電漿體（LPP）方法，新凱來另闢蹊徑，目前正在開發基於13.5奈米光波的EUV系統，儘管距離量產還有一段路要走，但其技術路線和研發速度令人期待。新凱來現已開發出一種使用雷射誘導放電電漿體（LDP）技術的國產EUV（光源）系統。華為在東莞的工廠已經在測試該系統，試生產定於2025年第三季度開始，目標是2026年實現量產。除了光刻機外，根據公開資訊，新凱來在光刻產業鏈的蝕刻、薄膜沉積等裝置領域同步推進：此次在2025中國半導體生產裝置峰會上，新凱來攻克的核心技術裝備包括五款以中國名山命名的產品成為核心看點：EPI（外延沉積）“峨眉山”、ETCH（蝕刻）“武夷山”、CVD（化學氣相沉積）“長白山”、PVD（物理氣相沉積）“普陀山”、ALD（原子層沉積）“阿里山”。這些名川大山背後體現了半導體製造工藝中關鍵的技術節點。以薄膜沉積技術為例，新凱來的裝置滿足從28奈米到5奈米不同製程的薄膜沉積需求，覆蓋半導體製造的前道工藝，為晶片生產提供支援。光刻機和薄膜沉積是晶片製造中緊密配合的兩個關鍵工藝，共同建構晶片的結構。光刻機負責將設計好的電路圖案投影到塗有光刻膠的矽片上，形成“電路範本”（相當於在矽片上繪製藍圖）。薄膜沉積在光刻形成的圖案基礎上，通過物理/化學方法在矽片表面沉積導電/絕緣材料層（相當於按藍圖填充建築材料）。晶片的工藝順序流程是光刻膠塗覆→光刻曝光→顯影→薄膜沉積→刻蝕→去膠→重複循環。每層電路需要經過約20-30次這樣的循環，先進製程可達100+次。不難看出，新凱來這種多線並進的策略，旨在建構完整的半導體裝置生態鏈條，而非單一環節的突破。正如新凱來工藝裝備產品線總裁杜立軍在其題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講中提到的，“致力於先進半導體工藝裝備、量檢測裝備的開發與製造，打造可靠的產業基礎和平台，成為世界一流的半導體裝備提供商和客戶最信賴的夥伴，是新凱來追逐的目標。”04晶片產業鏈的全球角力當前全球晶片產業的競爭已進入白熱化階段，中美博弈仍是核心主線，但歐盟、日韓等力量也在調整策略，全球供應鏈呈現“對抗與重構並存”的複雜局面。晶片產業鏈全球角力的背後，某種意義上也是區域化分工深化的處理程序。在中美博弈的背景下，歐盟、日韓的重塑供應鏈的過程中開始扮演著關鍵角色。美國希望製造業回歸美國本土，希望在產業鏈上“大而全”，但這是它的一廂情願。從晶片產業鏈角度講，這是不現實的，而且最後一定會得不償失，因為全球化的產業鏈很難實現一國的完全把控，除非本國有足夠多的訂單，有足夠大的市場來吸引，否則，在晶片領域不太可能實現完全封鎖，當下的封鎖或限制只能起到延緩或刺激中國晶片產業發展的作用。其中最核心的問題在於，很多晶片產業巨頭絕不會放棄中國市場。2024年中國進口晶片數量達到5492億塊，同比上升14.5%，進口金額為3856億美元（約合2.8兆元人民幣），同比上升9.5%。同期，全球晶片產業市場規模達到6250億美元左右，這意味著中國進口了全球約62%的晶片，加上AI晶片的資料和應用場景都是在中國，包括特斯拉等新能源車，也需要在中國不斷地積累應用場景和資料，才能讓它的晶片越來越智能。這意味著，很多公司絕對不會放棄中國市場。正是在這樣的背景之下，早在三年前，就有業內專家提出，《晶片法案》短期來看可能對中國相關產業造成致命打擊或影響，但是三年後，企業就會逐步找到更多的方法，重新回到中國市場，至少讓其在中國的生意不要受到更大的損失。有人說，“所以，中國需要全面考量我們是否需要從底層開始去做晶片產業的研究並進入超巨額的投資，同時中國需要有好的政策和開放的心態歡迎上述企業回來，通過給予切實的利益幫助這些企業趨利避害，中國將有機會利用市場的砝碼重構產業控制力，因為這些聰明的跨國企業一定不會放著巨大的經濟利益而離場。”顯然，這種觀點錯誤的，是記吃不記打的韜光養晦思想。中國正確的行為，應該是緊緊抓住中國被美國製裁遏制的數年時間，全面突破包括EUV光刻機在內的一切短板領域和半導體製造裝置，然後盡快推向市場，讓參與制裁中國的美國及其僕從國、盟國企業再也回不到中國市場來。並新凱來的快速崛起，就說明了中國政府的正確態度。05破局正當時近5年來，隨著中國半導體產業的系統性突圍，中國正在努力完善自身的晶片產業鏈。在製造端，華為Mate70搭載的麒麟9020晶片，用14奈米工藝跑出7奈米性能；在裝置端，新凱來正在努力突破、發展半導體裝備；在生態端，華為“塔山計畫”聯合上下游企業，建構從EDA軟體到封裝測試的完整產業鏈。新凱來是中國從努力嘗試到主動定義行業標準的先驅力量。然而，相比ASML用了30年的研發才在高端光刻機領域完成商業化，新凱來還有很長的路需要走。正如行業普遍共識：中美科技博弈的終局，沒有任何國家能壟斷科技創新。未來的半導體世界，屬於那些既能獨立自主、又願開放合作的人。因為，我們的征途是星辰大海…… (星辰時空)
新凱來——中國版艾斯摩爾！將改寫全球半導體裝置製造格局……
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