EUV光刻機被認為是5nm以下工藝不可或缺的關鍵裝置，然而EUV成本高，再加上受限的情況下，半導體工藝只靠當前的DUV光刻能做到什麼地步？ 這個問題是Intel、台積電、三星等公司不會面對的，因為他們已經切換到EUV路線了，但一家名為SMIC的公司還在不斷最佳化DUV光刻極限，業內的光刻技術大佬Frederick Chen日前又注意到了SMIC申請的2個專利，展示了該公司在這方面的探索。 SMIC公司在中美兩地都申請了這個專利，最早在2024年10月份就率先在中國境內申請了，目標是提高電晶體密度的同時也提高設計的靈活性。 文章的技術內容太過高深，感興趣的可以看原文，簡單來說就是SMIC公司在SAQP自對準四重圖案與傳統的LELE（光刻+蝕刻）兩個技術中如何尋求平衡的技術。

中國國產晶片突破現狀：架構替代實現突圍，EUV光刻機仍是終極卡點 長期以來，海外技術壁壘與供應鏈限制，持續制約著中國半導體產業的進階之路。在行業封鎖的大背景下，中國晶片企業主動破局，在核心的晶片設計架構領域摸索出多條可行的替代路徑，逐步擺脫國外技術桎梏。但業內專家明確指出，相較於可突破的晶片設計壁壘，EUV極紫外光刻機依舊是中國國產先進製程晶片製造無法繞開的核心短板，目前暫無成熟替代方案，只能依靠自主攻堅研發。 荷蘭知名半導體行業分析師、資深產業觀察者馬克·海金克，在荷蘭主串流媒體《新鹿特丹商報》刊發的行業分析文章中，深度剖析了當前中國晶片產業的突破進展與現存瓶頸。他表示，以華為為代表的中國科技企業，正持續推動晶片設計技術迭代升級，跳出傳統技術框架，依託開源RISC-V指令集架構開展晶片研發，以此規避美國X86、英國ARM兩大主流商用指令集的技術封鎖與政策限制，為中國國產晶片設計開闢全新賽道。 結合環球網梳理的中國國產晶片產業發展脈絡來看，中國晶片行業已形成兩套成熟且互補的自主發展模式，分別適配不同企業的技術積澱與發展路徑，成為中國國產晶片突圍的核心支撐，兩種模式無優劣之分，協同助力產業自主化發展。

前不久，在2026中國（深圳）積體電路峰會上披露的資料顯示：2025年，深圳積體電路產業營收首次突破3000億元大關，達3610.4億元，位居全國城市前列。 這一歷史性跨越，標誌著深圳歷經多年全產業鏈佈局與攻堅之後，成功擺脫昔日“設計獨大”的局面，初步建構起自主可控、協同高效的產業生態體系，高品質發展的成效正加速顯現。 從2021年的1690億元到2025年的3610.4億元，僅用四年時間，深圳積體電路產業便實現營收翻番。而這背後，既是在外部打壓與技術封鎖下的主動突圍，也是在產業鏈深度重構中的戰略抉擇。它更以一座城市的創新韌性，為“中國芯”寫下了最具說服力的時代註腳。 雁陣齊飛：深圳IC設計業站上全國“C位”

01 前沿導讀 據荷蘭半導體觀察者馬克·海金克在《新鹿特丹商報》發佈的新聞指出，華為正在推動晶片設計的技術進步，並且還通過開源指令集RISC-V進行晶片設計工作，嘗試用這種開源技術的方法繞過美國X86指令集以及英國ARM指令集的限制。 中國企業在晶片設計上面找到了可替代的技術方法，但是中國晶片最大的瓶頸是缺乏先進的平板印刷工具——EUV光刻機，這是一個尚未被中國企業找到替代方案的技術工具。

6月22日，全球半導體材料行業迎來顛覆性變局。 日本四大光刻膠巨頭同步官宣對華終極封鎖政策，覆蓋全維度合作鏈路。 東京應化、JSR、信越化學、富士電子材料長期壟斷全球光刻膠市場。 本次新政徹底告別過往柔性管控模式，不再出現漲價、減產、延遲交付等緩衝操作。

最近一段時間，一種關於中國光刻機的論調在自媒體平台反覆出現，傳播得相當廣。大意是說，等到國產光刻機真正做出來了，就應該賣成白菜價，不必指望它賺錢。理由也講得頗有章法：光刻機屬於產業基礎，跟供電、自來水、鐵路一樣，是國計民生的支撐，不該當作牟利工具；中國光刻機的投資方多是國資或者像華為這樣的產業鏈關聯方，他們本來要的就不是財務回報，而是解決卡脖子；低價進入市場可以一舉壓制ASML、尼康、佳能，讓對手賺不到錢，最後被迫退出。 這種論述在評論區和短影片裡非常有市場，因為它精準擊中了一種樸素的情緒：我們國家好不容易做出來的東西，當然要讓自己人用得起，最好還能順手幹掉對手。情緒沒錯，但產業是另一回事。如果真照這個邏輯去推國產光刻機的定價策略，最先受傷的恰恰是中國自己好不容易拼起來的本土供應鏈。 先從那個看似有力的類比說起。把光刻機比作供電、自來水，是整套論述裡最經不起推敲的地方。供電、自來水之所以可以幾十年不大幅漲價，是因為它們所依託的核心技術早在幾十年前就已經穩定下來。火電機組的熱效率從上世紀九十年代到今天，提升幅度有限；自來水的過濾、消毒、管網鋪設，本質上是一套成熟工藝的規模化複製。在一項成熟到幾乎不再有代差躍遷的技術上，把價格壓低、把利潤讓給下游，是合理的，因為它不需要繼續養一支昂貴的研發隊伍來維持自己的存在。 光刻機不是這樣的東西。

01 前沿導讀 據媒體報導指出，美國商務部長對ASML提出質疑，認為其違規出口給中國EUV光刻機。但該說法遭到了ASML的否定，並且ASML解釋稱EUV光刻機的體積大，產量有限且需要技術人員維護，從未向中國出口過相關產品和配件。 彭博行業研究的分析師對此指出，中國企業越來越有能力利用傳統工具製造更加先進的晶片，這種工程技術上面的進步是引起美國部門擔憂的真正原因，而並非是因為ASML在出口管制上面出現了疏漏。

AI不是風口，是海嘯。中國AI的機遇空間巨大，不是某幾家公司跑贏，而是從算力、儲存，到裝置、材料的全產業鏈崛起。 1、算力晶片：全力追趕 國產AI算力大突破。2025年國內AI加速卡總出貨400萬張，國產165萬張，國產滲透率40%。 輝達CUDA有二十年護城河，H200等產品領先，全球市佔率接近90%。