本次專家調研提及的相關公司為:索爾思(東山精密)、AWS、Coherent、Meta、Oracle、Google、微軟、輝達、新易盛、英特爾、羲禾、熹聯、通美、鑫耀、鼎泰、住友、福晶科技、森一。以下為正文。
光模組行業正處於AI算力驅動的爆發期,SES作為光晶片與模組的核心玩家,正加速擴產——2026年第二季度100G EML月產能已達9KK,年底目標22KK,2027年劍指43KK;400G EML研發已通過內部驗證,預計2026年下半年小批次流片。同時,矽光方案崛起對EML形成挑戰,但CW光源產能可快速切換,未來競爭焦點轉向高功率與良率。
一、產能擴張:100G EML翻倍增長,2027年目標43KK
專家指出: SES的晶片生產與研發分為台灣新竹和江蘇常州金壇兩大基地,當前核心產能集中在100G EML和CW雷射器。2025年第四季度,100G EML月產能約4KK,到2026年第二季度初已飆升至9KK多,實現近一倍增長。根據擴產計畫,2026年年底目標22KK,但從進度看實際產能可能超出預期;2027年年底則計畫提升至43KK。值得注意的是,該產線可靈活切換生產200G EML或CW雷射器,以應對市場變化。