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《台灣囡仔打造世界級細胞與基因治療製造平台 tcmc新廠落成啟用 助攻台灣CGT產業接軌國際》 台灣細胞製造股份有限公司(tcmc)今(15)日於新竹生醫園區舉辦新廠落成啟用典禮,邀集產官學研各界貴賓共同見證台灣細胞與基因治療(Cell & Gene Therapy, CGT)產業發展的重要里程碑。新廠全面導入PIC/S GMP國際規範,建置涵蓋細胞治療產品、基因治療產品及關鍵原料病毒載體(Viral Vector)之製造平台,未來將提供從製程開發、分析方法建立、臨床試驗到商業化量產的一站式CDMO服務,協助國內外客戶加速創新療法研發與產業化布局,進一步提升台灣在全球先進醫療產業鏈中的競爭力。 近年在《再生醫療法》及《再生醫療製劑條例》推動下,台灣再生醫療產業迎來關鍵發展契機。tcmc新廠總面積約3,300平方公尺,設有病毒載體製造區、細胞與基因治療產品製造區及品質管制實驗室,可支援研發、臨床試驗及GMP商業化等級產品生產,並提供病毒載體製造、CAR-T細胞製造、品質分析檢測、製程開發及法規支援等完整服務。 作為台灣少數同時具備病毒載體與細胞治療產品製造能力的CDMO平台,tcmc未來將聚焦病毒載體(Viral Vector)、CAR-T及其他先進治療產品(ATMP)之開發與製造服務,打造符合國際標準的細胞與基因治療製造平台,成為串聯研發創新、臨床應用與產業化量產的重要橋樑。
蘭德公司預測中國光刻技術突破可能性
5月,蘭德公司發佈《如何預測中國光刻技術的飛躍》(How to Forecast China’s Lithography Leap)研究報告,核心目的是對比德爾菲專家預測法與蘭德眾包預測平台兩種方式,評估美國出口管制背景下,中國實現高端光刻裝置本土化量產的可能性。研究設定兩大核心預測問題:一是2026年前中國能否量產每小時產能140片以上的商業級深紫外(DUV)光刻機;二是2030年前中國能否量產每小時產能90片以上的商業級極紫外(EUV)光刻機。報告梳理了兩種方法的預測結果與關鍵影響因素,分析方法差異並提出研究及政策建議,為半導體領域地緣競爭決策提供參考。 一、研究背景光刻技術是半導體製造的核心環節,直接決定晶片性能,已成為中美科技競爭的關鍵領域。2022~2025年,美國聯合荷蘭、日本出台多輪出口管制措施,逐步限制對華出口DUV、EUV光刻機及相關技術、材料與軟體,遏制中國高端半導體製造能力發展。報告指出,中國以上海微電子裝備公司為核心推進光刻技術本土化,已研發DUV原型機,但尚未實現量產;EUV技術則完全依賴外部供應,暫無自研裝置。本次研究聚焦中國在管制下的技術突破潛力,同時探究兩種預測方法在複雜科技議題中的應用價值。 二、德爾菲專家預測研究選取6名半導體和中國科技政策領域的專家,採用德爾菲法開展預測,經三輪匿名研討與反饋修正後形成結論:中國2026年量產目標DUV光刻機的機率僅25%,2030年量產目標EUV光刻機的機率僅10%。專家認為,時間不足是中國突破的首要阻礙,其次是技術壁壘,DUV光刻機需復刻完整供應鏈,而EUV光刻機更是ASML公司耗時20餘年才攻克的複雜技術。同時,美國出口管制切斷關鍵零部件與核心技術獲取管道,進一步加劇研發量產難度。專家提及的有利因素僅包括中國政策強力支援、資金投入充足及部分海外人才回流,但這些因素不足以抵消核心阻礙。 三、眾包平台預測蘭德旗下“蘭德預測倡議”平台開展為期五周的眾包預測,80名跨領域非專業參與者得出結果:中國2026年量產目標DUV光刻機機率為37%,2030年量產目標EUV光刻機機率達45%。眾包參與者認為,中國的國家戰略投入、大規模資金支援、持續人才吸引是技術突破的關鍵支撐。此外,中國在其他高科技領域的追趕經驗、對海外智慧財產權的獲取能力,也為光刻技術攻關提供助力。參與者同樣承認技術難度高、供應鏈受限等現實因素,但認為在長期政策驅動下,中國具備逐步突破的可能性。