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據TrendForce援引多方消息報導,中國初創公司朗道賽萊克斯(Langdao Silex)在本周於上海舉行的第26屆中國國際工業博覽會上,展示了一款極紫外(EUV)光源原型,輸出功率超過15瓦,90% 的元件為國產,並具備較好的運行穩定性。然而,該公司還需三到五年才能將其技術商業化,且光源本身並不等同於完整的EUV光刻機。 朗道賽萊克斯成立於2024年,創始團隊來自清華大學氣體放電電漿體實驗室。其展示的FlintNano LPP-OXXO系統採用與ASML現代光源相同的雷射電漿體(LPP)技術,通過高能雷射脈衝轟擊微小的加熱金屬液滴產生極熱電漿體,從而輻射出EUV光。該系統配備1000瓦驅動雷射(推測為CO₂雷射),工作頻率為1kHz至20kHz,轉換效率超過2%。其EUV輸出超過15瓦(推測是在電漿體處測量,而非中間焦點,因為該公司尚未展示完整的EUV收集系統),亮度達到100 W/(mm²·sr)。 根據朗道公佈的規格,FlintNano LPP-OXXO可連續運行超過100小時,電漿體穩定性為3% RMS,EUV輸出功率穩定性為5%。這些特性使該系統適用於半導體曝光實驗,但其輸出仍不足以用於高產量晶片生產。對於一台預生產光源而言,“超過100小時”的可用性令人印象深刻,但這一說法目前無法核實。 朗道還在開發FlintMicro-LPP高功率EUV光源,據稱已完成原理驗證,但未披露其輸出功率、轉換效率或工作壽命。從紙面資料看,朗道的光源輸出與西方和日本裝置製造商最早開發的EUV光源相當,但存在一個重要區別:朗道似乎在電漿體處測量EUV功率,而非像ASML那樣在收集器之後或中間焦點處測量。
突破!中國公司展示EUV光源!